「surface formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(78ページ目) - Weblio英語例文検索

A method of manufacturing a nitride semiconductor device includes performing plasma treatment onto a surface of a nitride semiconductor layer 1, that is a layer to be treated, and performing alkali treatment onto an amorphous layer 2, that is formed by the plasma treatment, to form a treatment plane suitable for ohmic contact formation in a case where an electrode is formed.例文帳に追加

この発明にかかる窒化物半導体装置の製造方法は、処理対象層である窒化物半導体層１の表面をプラズマ処理し、プラズマ処理により形成したアモルファス層２に対しアルカリ処理を行なうことで、電極を形成した場合オーミックコンタクト形成に適した処理面を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a printed wiring board wherein a solder mask is formed by coating the surface of a base material having formed circuits and through holes with a liquid solder resist and by subjecting the solder resist to its exposure processing and its development processing, the solder resist remaining in each through hole after the formation of the solder mask is sublimated and removed by a laser.例文帳に追加

回路及びスルーホールを形成した基材の表面に、液状のソルダーレジストを塗布し、露光処理、現像処理をすることによってソルダーマスクを形成するプリント配線板の製造方法において、ソルダーマスクの形成後、スルーホール内に残存したソルダーレジストをレーザーにより昇華除去するものとした。 - 特許庁

Since the inner wall surface of the skirt part 30 is seamlessly coated with the TaC member 31, it is made possible that carbon particles are suppressed from being taken into an SiC single crystal 70, also formation of projections of the SiC single crystal 70 is prevented, and cracks or breakage can be prevented from being easily generated.例文帳に追加

前記ＴａＣ部材３１によってスカート部３０の内壁面が継ぎ目無く覆われるので、ＳｉＣ単結晶７０に炭素粒子が取り込まれることを抑制することが可能になると共に、ＳｉＣ単結晶７０の突起物が形成されることを防止でき、亀裂や割れが生じ易くなることを防止できる。 - 特許庁

The application of external force to the culture container is carried out by pushing a stirring member with a prescribed pushing amount from the upper surface of the flatly placed culture container and moving the stirring member in the horizontal direction at a fixed speed so as to control at least either the formation of cell aggregates in the culture container or the disintegration of the aggregates.例文帳に追加

培養容器への外力の付与は、平置きした培養容器の上面から攪拌部材を所定の押込量で押し当て、所定の速度で水平方向に移動させることにより行い、培養容器内の細胞の凝集塊の形成及び分解の少なくとも一方を制御する。 - 特許庁

When the oil passage is formed by coupling a hollow machined rotor shaft 10 with an oil quantity adjustment shaft 30 which is machined on its circumferential surface with slots 32A and 32B connecting to the respective bearings 140A and 140B, the formation of oil passage becomes easy, and the machining cost for the high speed rotary machine can be reduced.例文帳に追加

この場合、前記油路を、中空状のロータシャフト１０に、外周に各々の軸受１４０Ａ、１４０Ｂに連通するように形成された溝３２Ａ、３２Ｂを有する油量調整シャフト３０を嵌合することにより形成すると、油路の形成が容易になり、高速回転機の加工コストを抑制できる。 - 特許庁

This material contains a metal exhibiting a high reactivity to hydrogen by the formation of a fluorine-containing compound, and the material is brought into contact with a metal fluorinating solution to form an integrated layer of the fluoride of the material and the metal fluoride contained in the solution on the surface of the material.例文帳に追加

フッ素を含む化合物になることにより水素との高い反応性を示す金属を含有し、金属をフッ化処理するための処理液と、水素吸蔵材とを接触させ、水素吸蔵材の表面に、水素吸蔵材のフッ化物と、処理液に含有させていた金属のフッ化物との一体的な層を形成する。 - 特許庁

To provide a method for alkali saponification of a polymer film without affecting formation of a coated film and orientation of liquid crystal molecules of an oriented film and a liquid crystal molecular layer which will be coated afterward by extracting hydrophobic components from the polymer film with an organic solvent, surface saponified cellulose ester films and optical films using the same.例文帳に追加

有機溶媒によるポリマーフィルムからの疎水性成分の抽出によって、後に塗布する配向膜並びに液晶性分子層の塗膜形成や液晶分子の配向に影響を与えることのない、ポリマーフィルムのアルカリ鹸化方法、表面鹸化セルロースエステルフィルム、及びそれを用いた光学フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a moisture-permeable water-proof fabric produceable without causing problems on working environmental hygiene and problems of pollution of the atmosphere accompanied by the release of a solvent into waste water or exhaust air at the production of the moisture-permeable water-proof fabric, and obtained while suppressing the formation of holes in a polyurethane resin film when sticking a seam tape on the surface of the polyurethane resin film.例文帳に追加

透湿性防水布帛製造時、排水、排気中への溶剤放出にともなう、作業環境衛生上の問題や大気の汚染の問題を発生させず、また、ウレタン樹脂膜面にシームテープを貼り合わせる際のウレタン樹脂膜の穴開きの発生を抑制した透湿性防水布帛を提供する。 - 特許庁

The ultra-short pulse laser beam is applied to the surface of the solid material as it is linearly polarized to enable formation of a fine structure consisting of elongate protrusions along a direction perpendicular to the direction of the polarization; by circularly polarizing the laser beam during its application, a fine structure consisting of granular protrusions can be formed.例文帳に追加

そして、超短パルスレーザーを直線偏光させて固体材料表面に照射することで、偏光方向とは直交する方向に沿って細長い突起部からなる微細構造を形成でき、また、円偏光させて照射することで粒状の突起部からなる微細構造を形成できる。 - 特許庁

To provide a forming method of a metal oxide thin film pattern by which distribution of refractive index in an inorg. optical waveguide, photonic band and interference mirror having small transmission loss and excellent heat resistance can be produced and which is advantageous for the surface imaging process in semiconductor microfabrication and for the formation of a fine metal wiring pattern.例文帳に追加

伝搬損失が小さく、耐熱性に優れた無機系の光導波路やフォトニックバンド、干渉鏡などの屈折率分布を形成でき、かつ半導体微細加工における表面イメージング工程や、微細金属配線パターンの形成に有用な、金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method by which a substrate wherein a laminated film with a ruthenium and tungsten compound or a tantalum compound is formed does not oxidize and deteriorate the tungsten compound or the tantalum compound, and Low-K does not deteriorate even if a device formation area surface is exposed to water or an alkaline solution; and to provide a substrate processing device.例文帳に追加

ルテニウムとタングステン化合物又はタンタル化合物との積層膜が形成された基板を、タングステン化合物又はタンタル化合物を酸化変質させることなく、更にデバイス形成領域面が水やアルカリ溶液に曝され、ＬｏｗＫが変質することなのない基板処理方法、及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

In an optical system of a general exposure stepper, a one phase shift filter is given to the rear focused surface of a first projection lens, or a shifter and an attenuator are given respectively thereto, thereby making the edge to be vertical in the distribution of intensity of transmitting light and improving the image formation resolving power for a silicon wafer.例文帳に追加

一般の露光ステッパの光学系において、第一投影レンズの後ろ合焦面に一つの位相シフト濾波器を加え、或いは、シフターと減衰器とをそれぞれに加えることによって、透過する光強度分布は縁が垂直である図形となり、シリコンウェーハの結像解像力を向上させる。 - 特許庁

The identification marks (for three manufacturers 23a, 23b, and 23c of a Pachinko game machine which uses this main control board 20) of the same kind for specifying a main control board 20 is displayed in an area of the surface of a base board 21, except a wiring pattern formation area, and the main control board 20 is stored in this condition.例文帳に追加

ベース基板２１上における配線パターンの形成領域以外の領域に、メイン制御基板２０を特定するための同種類の識別標識を複数表示（このメイン制御基板２０を使用する弾球遊技機の３つの製造業者２３ａ，２３ｂ，２３ｃ）し、この状態で保管しておく。 - 特許庁

Sections among the fine wiring 2 are filled selectively with the material of a liquid by a slip coating method utilizing a capillary phenomenon by forming a water-repellent film 7 to the wiring and the surface of a substrate before the formation of the inter-wiring insulating films 4 (SOG films) formed by the coating of the material of the liquid.例文帳に追加

液体の材料の塗布によって形成される配線間絶縁膜４（ＳＯＧ膜）形成前に、撥水膜７を配線と基板表面に形成することにより、その後、毛細管現象を利用したスリットコート法を行えば、液体の材料が選択的に微細な配線２間にのみ充填される。 - 特許庁

To provide a method of laminating film to substrate surfaces through the film roll-feeding process in which the lamination is carried out as the film is conveyed to the surface of the substrate in no need of manual handling in the laminator whereby the occurrence of wrinkles and stains, when the film is set, and bubble formation caused by individual difference can be inhibited.例文帳に追加

フィルムロール供給方法において装置内で人手によりフィルムを引き回すことなく基板表面へフィルムを搬送しながらラミネートを行い、フィルムをセットする時に生じる皺や汚れの発生個人差による気泡を防止することが出来るようにしたフィルム貼付方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a progressive freeze concentration method which enables the formation of a uniform thin layer of ice crystal on a heat transfer surface of the flow passage of the liquid to be concentrated of a freeze-concentrator before freeze concentration of a liquid to be concentrated, thereby efficiently performing the freeze concentration of the liquid to be concentrated by a simple operation in a short time.例文帳に追加

被濃縮液の凍結濃縮に先立ち、凍結濃縮器の被濃縮液流路の伝熱面に、簡単な操作で短時間に氷結晶の均一な薄層を形成し、よって被濃縮液の凍結濃縮を効率的に行なうことができる前進凍結濃縮法を提供する。 - 特許庁

An engagement tooth part 31b2 is formed on a front wall surface of a tilt long hole 31b1 formation part of a vehicle body side bracket 31 and an engagement tooth part 34a1 engageably/disengageably opposed to the engagement tooth part 31b2 is provided on a part of connection bodies (bolt 33, nut 34) inserted through the tilt long hole 31b1.例文帳に追加

車体側ブラケット３１のチルト長孔３１ｂ１形成部前壁面には係止歯部３１ｂ２が形成され、チルト長孔３１ｂ１を貫通する連結体（ボルト３３、ナット３４）の一部には係止歯部３１ｂ２に対して係合離脱可能に対向する係合歯部３４ａ１が設けられている。 - 特許庁

The invention relates to the method for producing the fishing rod comprising formation of coating layer K by spirally winding the patterned Japanese paper cut into taper shape U1, U2, ..., Un on the taper fishing rod 10A and stuck by an adhesive S, and repeating a thin coating of a synthetic resin G such as an epoxy resin or the like on the surface of the patterned Japanese paper.例文帳に追加

テーパー形状に裁断した模様のある模様付和紙Ｕ１，Ｕ２・・Ｕｎをテーパー竿部１０Ａに螺旋状に巻回して接着剤Ｓで貼着され、上記模様付和紙の表面にエポキシ樹脂等の合成樹脂Ｇの薄い塗布を繰り返してコーティング層Ｋを形成したものである。 - 特許庁

Then, the silicon substrate is subjected to anodic oxidation in an electrolyte containing hydrofluoric acid in a porous area formation step, thereby a porous silicon area is selectively formed in an area surrounding the partial area and a surface thin film developing various colors is formed between the porous silicon area and the mask thin film.例文帳に追加

そして、シリコン基板は、多孔質領域形成工程において、弗酸を含有する電解液中で陽極酸化されることにより、一部領域を含む周囲領域に選択的に多孔質シリコン領域が形成され、多孔質シリコン領域とマスク薄膜との間に多彩な発色を示す表面薄膜が形成される。 - 特許庁

To provide an image protecting film which enables smooth performance of thermal transfer processing, which imparts good protective properties to an image surface and which eliminates the fear that inconvenience, such as set-off and blocking, may be caused by the formation of a protective layer, and an image protecting method and overcoated recorded matter, using the image protecting film.例文帳に追加

熱転写処理をスムーズに行うことができ、且つ画像面に対し良好な保護特性を付与すると共に、裏写りやブロッキングなどの保護層形成に起因する不都合が生じるおそれのない画像保護フィルム、並びにこれを用いた画像保護方法及びオーバーコート記録物を提供すること。 - 特許庁

To provide a low-cost pneumatic tire manufacturing method which can form a required air discharging groove exactly, surely, and efficiently in a prescribed shape in the outer surface of a strip of crude rubber with its thickness changed in width direction and suppress the formation of a recess by residual air in the surface of a finished tire by surely discharging air between the strip of the crude rubber and a vulcanization mold.例文帳に追加

本発明は、帯状生ゴム部材の厚さがその幅方向に亘って変化する帯状生ゴム部材の外面に所要の空気排出用溝を所定の形状に正確かつ確実に能率良く形成できるとともに、帯状生ゴム部材と加硫金型間の空気を確実に排出して、完成タイヤの表面に残留空気による凹部の生成を抑制できる低コストの空気入りタイヤの製造方法を提供することを課題としている。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor used for the image forming apparatus of performing image formation by processes of at least electrostatic charging, exposure, development, transferring and cleaning which are successively repeated, is characterized by that a protective layer containing fillers is laminated on the surface of the electrophotographic photoreceptor and numerous linear flaws intersecting with each other are continuously formed on the surface of the protective layer.例文帳に追加

少なくとも帯電、露光、現像、転写及びクリーニングの工程が順次繰り返されることによって画像形成を行う画像形成装置に使用される電子写真感光体において、前記電子写真感光体の表面にフィラーを含有した保護層が積層され、かつ該保護層の表面に互いに交差する無数の線状傷が連続的に形成されていることを特徴とする電子写真感光体を主たる構成にする。 - 特許庁

The provided method for marking an optical glass member includes: preparation of the optical glass member; formation of a film containing glass particles and a combustible substance on the surface of the optical glass member; and fusing the glass particles on the surface of the optical glass member as well as burning the combustible substance to dissipate it from the film by irradiating a prescribed region of the film with a laser beam.例文帳に追加

光学ガラス部材のマーク形成方法であって、光学ガラス部材を用意することと、ガラス粒子及び可燃物質を含む被膜を光学ガラス部材の表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子を光学ガラス部材の表面に融着させるとともに、可燃物質を燃焼させて被膜から消失させることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 - 特許庁

When a silicon oxide film is formed by rotating a rotary table 2 to adsorb BTBAS gas on a wafer W and supplying O3 gas to the surface of the wafer W to react it with the BTBAS gas adsorbed on the surface of the wafer W, a plasma of Ar gas is supplied to the silicon oxide film on the wafer W from an activated gas injector 220 to perform reforming treatment for each film formation cycle.例文帳に追加

回転テーブル２を回転させてウエハＷ上にＢＴＢＡＳガスを吸着させ、次いでウエハＷの表面にＯ3ガスを供給してウエハＷの表面に吸着したＢＴＢＡＳガスを反応させてシリコン酸化膜を成膜するにあたって、シリコン酸化膜を成膜した後、活性化ガスインジェクター２２０からウエハＷ上のシリコン酸化膜に対してＡｒガスのプラズマを供給して、成膜サイクル毎に改質処理を行う。 - 特許庁

The manufacturing method of the exposure head includes a first step of forming a plurality of recessed portions, which define lens curved surfaces in lens formation regions of the second surface, by engraving the substrate from the second surface side and a second step of filling the plurality of recessed portions with a transparent resin and then forming the plurality of micro-lenses by curing the filled transparent resin.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて複数の凹部を形成した場合には、各凹部の内側表面の形状、即ち内側表面の曲率半径等のマイクロレンズの光学特性を決める要素を凹部毎に個別に設定できなかったが、非特許文献１及び２に開示された機械加工技術を凹部の形成に応用することによって、マイクロレンズのレンズ曲面を規定する各凹部４５の内側表面の形状をマイクロレンズ毎に個別に設定できる。 - 特許庁

In the method for producing a polyimide film composition, a polyimide precursor solution is applied to the surface of a substrate and dried or half-cured to form a polyimide precursor resin layer, a metallic layer is formed on the surface of the polyimide precursor resin layer and the polyimide precursor resin layer is heat-cured after or during the formation of the metallic layer to form a polyimide resin layer.例文帳に追加

基体表面にポリイミド前駆体溶液を塗布して乾燥もしくは半硬化してポリイミド前駆体樹脂層を形成し、ポリイミド前駆体樹脂層表面に金属層を形成した後或いは形成途中に、ポリイミド前駆体樹脂層を加熱硬化してポリイミド樹脂層を形成するポリイミド被膜組成物の製造方法、並びに、それにより得られるポリイミド被膜組成物、無端ベルト、定着ベルト、及び、電子写真感光体である。 - 特許庁

After the mask 15 is removed, the gallium nitride semiconductor film 13 is thermally treated in an atmosphere 21 containing at least either ammonia or hydrazine compound, without the formation of a cap film, or the like, on the surface of a gallium nitride semiconductor film 13e, at a temperature T_A, forming a p-type gallium nitride semiconductor region 13h.例文帳に追加

マスク１５を除去した後に、窒化ガリウム系半導体膜１３ｅの表面上にキャップ膜等を形成することなく、アンモニア及びヒドラジン系化合物の少なくともいずれか一つを含む雰囲気２１中で窒化ガリウム系半導体膜１３を温度Ｔ_Ａにおいて熱処理してｐ型窒化ガリウム系半導体領域１３ｈを形成する。 - 特許庁

To provide a film formation method and a wear-resistant member capable of obtaining hardness excellent in wear resistance and sufficient adhesiveness by forming, as an intermediate layer, the film of nitride or carbonitride of Ti which is a metal different from vanadium-based metals between a substrate and a vanadium carbide (VC) film coated on an outermost surface.例文帳に追加

基材と最表面層に被膜される炭化バナジウム（ＶＣ）膜との間に中間層としてバナジウム系金属とは異なる異種金属であるＴｉの窒化物膜又は炭窒化物膜を形成することにより、耐摩耗性に優れた硬度及び十分な密着性を得ることができる成膜方法及び耐摩耗性部材を提供する。 - 特許庁

When forming a sensor region by n-type ion implantation onto a silicon substrate and then providing an HAD structure by p-type ion implantation onto a surface of the sensor region, the step of p-type ion implantation is divided into multiple times and before or after sidewall formation of a transfer gate electrode, a p-type ion is implanted into the gate electrode by self-alignment with an approximately half concentration.例文帳に追加

シリコン基板にｎ型イオン注入でセンサ領域を形成後、センサ領域の表面にｐ型イオンを注入してＨＡＤ化を行う際に、ｐ型のイオン注入の工程を複数回に分け、転送ゲート電極のサイドウォール形成前後に、それぞれ約半分程度の濃度でｐ型イオンをゲート電極にセルフアラインで注入する。 - 特許庁

In the manufacture of the glass material for molding by forming a hydrocarbon such as acetylene into plasma in a film forming chamber 2 in which a pre-molded glass lump W is arranged to form a carbon-containing film on the surface of the glass lump W, the film forming chamber 2 is tightly closed to stop the introduction of the hydrocarbon into the film forming chamber 2 during the formation of the carbon-containing film.例文帳に追加

予備成形したガラス塊Ｗを配置した成膜室２内でアセチレンなどの炭化水素をプラズマ化してガラス塊Ｗの表面に炭素含有膜を形成した成形用ガラス素材を製造するにあたって、炭素含有膜の形成中、成膜室２を密閉し、成膜室２内への炭化水素の導入を停止する。 - 特許庁

Quartz glass formed articles formed by heating and melting a quartz glass preform with a thermal formation process are heat-treated in an oxygen-containing environment at a temperature not practically causing the deformation of the quartz glass to react oxygen molecules with Si-Si type oxygen-deficient defects on the surface of the glass so that the Si-O-Si silica glass networks are restored.例文帳に追加

加熱成形加工により石英ガラス母材を加熱溶融させて得た石英ガラス成形品を、酸素含有雰囲気下で、且つ石英ガラスが実質的に変形しない温度下で加熱処理し、ガラス表層部のＳｉ−Ｓｉ型の酸素欠乏欠陥に対し、酸素欠乏欠陥と酸素分子を反応させ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉシリカガラスのネットワークに復元させる。 - 特許庁

To provide an antistatic acrylic resin composition which is useable for coating, pressure-sensitive adhesive, etc., particularly a transparent antistatic acrylic resin composition suitable for formation of a pressure-sensitive agent layer for surface protective films of optical member such as a polarizing plate for large screen used for production of liquid crystal display and having little occurrence of electrostatic charge when released.例文帳に追加

塗料、粘着剤等に使用可能な制電性アクリル系樹脂組成物であって、特に、液晶ディスプレイの製造に用いられる大画面用偏光板等の光学部材の表面保護フィルム用の粘着剤層の形成に好適な、透明な、剥離時の静電気の発生が少ない制電性アクリル系樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a formation method of a copper metal wiring of a semiconductor element which can improve burying of copper, by maximizing the suction site of chemical reinforcing agent on the surface of a diffusion barrier layer by carrying out a plasma treatment after chemical reinforcing agent deposition when a copper metal wiring is formed by using a CECVD method.例文帳に追加

ＣＥＣＶＤ法を用いて銅金属配線を形成する場合、化学的強化剤蒸着後プラズマ処理を行うことにより、拡散障壁層の表面に化学的強化剤の吸着サイトを極大化させ、これにより銅の埋込み特性を向上させることができる半導体素子の銅金属配線形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which ensures high image quality, high durability and a long lifetime and does not cause curl of a cleaning blade or defects in image formation due to lowering of cleaning performance, such as escape of toner and image deletion even when a surface of a high durability photoreceptor having high hardness and high elasticity is cleaned in a low temperature or high humidity environment.例文帳に追加

低温や高湿環境化において高硬度高弾性を有する高耐久感光体表面をクリーニングする際にも、クリーニングブレードのめくれ、トナーのすり抜けや画像流れといったクリーニング性能の低下による画像形成不良を起こさない高画質かつ高耐久・長寿命の画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat mode type original plate for a lithographic plate, with which the formation of a plate is possible by directly installing it onto a printing machine without being developed after its scanning exposure in the short period of time and accordingly a scumming on a printing surface is small due to no residual film caused by the insufficient heat energy near the support of an image layer.例文帳に追加

短時間での走査露光ののちに現像処理を行うことなく直接に印刷機に装着して製版することが可能であり、画像層の支持体近傍での熱エネルギー不足による残膜が生じない、したがって印刷面上の印刷汚れの少ないヒートモード型の平版印刷版用原板を提供する。 - 特許庁

To provide a spot pattern forming device of a concrete form mark capable of forming a spot pattern of the concrete form mark to a surface to be treated filled with mortar to enhance an aesthetic feeling and usable over a plurality of times to improve work efficiency at the time of formation of the spot pattern and a spot pattern forming method using the same.例文帳に追加

モルタルが充填された被処理面にコンクリート型枠跡の斑点模様を形成して美感を向上させ得ることができるとともに、複数回に亘って使用可能として斑点模様形成時の作業能率を改善させることができるコンクリート型枠跡の斑点模様形成具及びそれを用いた斑点模様形成方法を提供する。 - 特許庁

A wafer supporting body and a semiconductor fabricating device are provided such that, in a wafer supporting body having a wafer mounting surface, a circular shape of a high-frequency generating electrode circuit formed in the wafer supporting body with the diameter thereof formed to be 90% or more of that of the wafer on which the electrode circuit is mounted allows formation of a film having a uniform thickness distribution.例文帳に追加

ウェハ搭載面を有するウェハ保持体において、前記ウェハ保持体に形成された高周波発生用電極回路の形状が円形であり、その直径が搭載するウェハの直径の９０％以上とすれば、厚み分布の均一な成膜ができるウェハ保持体及び半導体製造装置を提供することができる。 - 特許庁

To provide a method and a device for image formation, which reduce pollution of an electrifying member to prolong the lives of the electrifying member, a photosensitive body, and a cleaning blade by improving the cleaning efficiency of the surface layer of the photosensitive body and reduce storage of remaining potential to be able to keep a high picture quantity free from staining for a long time.例文帳に追加

感光体表層のクリーニング効率を高めることによって帯電部材の汚染を軽減させ、帯電部材、感光体、及びクリーニングブレードの長寿命化を図るとともに、残留電位の蓄積が少なく、地汚れを起こしにくい良好な画像品質を長期間に亘って維持可能な画像形成方法及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

In the plasma treatment apparatus for independently performing the formation of plasma and the control of the incident energy of ions to a sample, the surface comprising an earthed conductive metal and coming into contact with plasma in the plasma treatment chamber is coated with a plasma- resistant polymeric material 22 becoming t/kε<300 in the relation between a specific dielectric constant kε and thickness t (μm).例文帳に追加

プラズマ生成と試料へのイオンの入射エネルギ制御とを独立に行うプラズマ処理装置において、アースに接地された導電体の金属でなりプラズマ処理室８内でプラズマと接触する面を、比誘電率ｋεと厚さｔ（μｍ）との関係がｔ／ｋε＜３００となる耐プラズマ性高分子材料２２で被覆する。 - 特許庁

The optical member comprises a substrate having a curved face in at least a part thereof, and on the substrate a layer of single aluminum or a compound containing aluminum formed in a vapor phase and subjected to a hydrothermal treatment to form a concavo-convex structure on the outermost surface; and the optical member includes a dielectric layer between the substrate and the concavo-convex structure, the dielectric layer formed by vapor phase film formation.例文帳に追加

少なくとも一部に曲面を有する基材と、該基材上に、アルミニウム単体、及びアルミニウムを含む化合物の少なくともいずれかを気相成膜した層を水熱処理して最表面に凹凸構造を有してなり、前記基材と前記凹凸構造の間に、気相成膜により形成された誘電体層を有する光学部材である。 - 特許庁

The fixture tool for the thin substrate having the weak adhesion layer formed on one surface of a flat plate is characterized in that the adhesive strength of the weak adhesion layer is less than three times that before the component packaging after the layer goes through a reflow process, namely a component packaging process of the thin substrate, by a post heat treatment after formation of the weak adhesion layer.例文帳に追加

平板の片面に弱粘着性層を形成した薄型基板用固定治具において、弱粘着性層形成後の後熱処理によって、薄型基板の部品実装工程であるリフローを通過した後の弱粘着性層の粘着強度が、部品実装前の粘着強度に対し３倍未満とされていることを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problem of inability to secure soundness in a joined part, a problem caused by formation of a brittle and low-strength inter-metallic compound in a joined surface between different kinds of materials in a brazing or welding method, although welding of a jacket material to a different kind of material is required for example in a superconducting coil jacket in an ITER device (nuclear fusion reactor).例文帳に追加

ＩＴＥＲ装置（核融合炉）における超伝導コイル用ジャケット等の超伝導コイルジャケット部では、ジャケット材との異種材接合が必要であるが、異種材接合は、ろう接や溶接法では、接合面に脆く強度の低い金属間化合物が形成するため、接合部の健全性を確保することができない。 - 特許庁

To easily realize the formation of gate takeoff contact holes 112 and to suppress the occurrence of the contact defect arising from aluminum oxide, by suppressing the deposition of the aluminum oxide in contact parts 117 existing on the surface of gate electrodes 104 consisting of aluminum and aluminum alloy.例文帳に追加

アルミニウム及びアルミニウム合金からなるゲート電極部１０４の表面にあるコンタクト部１１７において、酸素を含むスパッタガスでのプラズマ酸化による酸化アルミニウムの成膜を抑制することによって、ゲート取り出しコンタクトホール１１２の形成が容易に実現でき、酸化アルミニウムに起因するコンタクト不良の発生を抑制することができる。 - 特許庁

To provide an antireflection multilayer film that is transparent and has a high film formation speed, and furthermore secures adhesion of the film formed thereon in the antireflection multilayer film coated for the purpose of preventing lowering of contrast, decrease of an amount of light or the like due to surface reflection of a glass substrate and a resin substrate used for optical components, a display, etc.例文帳に追加

光学部品、ディスプレイ等に用いられるガラス基板や樹脂基板の表面反射によるコントラストの低下や光量の減少などを防止する目的でコートされる反射防止膜であって、該反射防止膜が透明で成膜速度も高く、更にその上に形成される膜の密着性をも確保された反射防止多層膜を提供する。 - 特許庁

The bias control part U controls the first application part during non-image formation and controls the second application part 52 to apply a drum bias to the drum surface while removing toner adhered to the transfer member 46 from the transfer member 46 by alternately applying the first bias and the second bias with a predetermined cycle.例文帳に追加

バイアス制御部Ｕは、非画像形成時において、第１印加部５３を制御して、第１バイアスおよび第２バイアスを交互に所定の周期で転写部材４６に印加させることにより、転写部材４６に付着したトナーを転写部材４６から除去しつつ、第２印加部５２を制御してドラムバイアスをドラム表面１６に印加させる。 - 特許庁