「きます いきます」に関連した英語例文の一覧と使い方(568ページ目) - Weblio英語例文検索

式(1) のＭｏ_1Ｖ_aＳｂ_bＮｂ_cＺ_dＯ_n・・(1) （式中、Ｚはタングステン、クロム、チタン、アルミ、タンタル、ジルコニウム、ハフニウム、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、白金、亜鉛、硼素、インジウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、ビスマス、イットリウム、ガリウム、希土類元素、アルカリ土類金属の１種以上の元素を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｎはＭｏに対するＶ、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｚ、Ｏの原子比を表し、０．１≦ａ＜０．４、０．１＜ｂ≦０．４、０．０１≦ｃ≦０．３、０≦ｄ≦１であり、但し、ａ＜ｂであり、ｎは他の元素の原子価によって決まる数である。）で表される組成を含む、プロパン又はイソブタンの気相接触酸化反応または気相接触アンモ酸化反応に用いる酸化物触媒。例文帳に追加

To provide an oxide catalyst which can exhibit a high selectivity for especially (meth)acrylic acid and (meth)acrylonitrile and can persist in that property. - 特許庁

エンボス加工されるデータをガラスのマスターに直接プリントしてプリント層を形成する工程と、このプリント層に金属又は合金をスパッタリングする工程と、このスパッタリングされた層に金属又は合金の層を形成する工程と、この金属又は合金の層をガラスから分離し、スタンパーを形成する工程とを有する光ディスクにデータをエンボス加工するためのスタンパーを製造する方法を提供する。例文帳に追加

A manufacturing method of a stamper for embossing data on an optical disk has a process for forming a print layer by printing data to be embossed directly on a glass master, a process for sputtering metal or an alloy to the print layer, a process for forming a metal or alloy layer on the sputtered layer and a process for separating the metal or alloy layer from the glass to form the stamper. - 特許庁

水酸化ニッケルを主体とする活物質２が充填されたアルカリ蓄電池用ニッケル極の表面にコバルトＣｏ，ニッケルＮｉから選択される少なくとも１種の金属と、イットリウムＹ，イッテルビウムＹｂ，ランタンＬａ，エルビウムＥｒ，ビスマスＢｉから選択される少なくとも１種の金属との合金からなる被覆層３を形成し、またこのアルカリ蓄電池用ニッケル極をアルカリ蓄電池の正極に使用した。例文帳に追加

A covering layer 3 composed of an alloy of at least one metal chosen from cobalt Co, nickel Ni, and one metal chosen from yttrium Y, ytterbium Yb, lanthanum La, erbium Er, bismuth Bi, is formed on the surface of the nickel electrode for the alkali storage battery filled with active material composed mainly of nickel hydroxide, and the electrode for the alkali storage battery is used as the cathode of the alkali storage battery. - 特許庁

水中用マスクのストラップに取り付け可能な水中用オーディオプレーヤーであって、水中用オーディオプレーヤーをストラップに取り付けるための取り付け部と、取り付け部に取り付けられ且つオーディオプレーヤー本体を内蔵した耐水圧容器と、オーディオプレーヤー本体と電気的に接続された骨伝導スピーカーと、振動防止部材とを備え、骨伝導スピーカーが振動防止部材を介して耐水圧容器に取り付けられていることを特徴とする水中用オーディオプレーヤーを提供することにより上記課題を解決する。例文帳に追加

The underwater audio player attachable to a strap of an underwater mask has an installation part for installing the underwater audio player to the strap, a water pressure resistant container which is installed at the installation part and has a built-in audio player body, a bone conduction speaker electrically connected to the audio player body and a vibration prevention member and the bone conduction speaker is installed to the water pressure resistant container via the vibration prevention member. - 特許庁

Ｒｚ（ｎｍ）＜３．６×Ｗ＋３０Ｒｚ：原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による８０μｍ長さでの１０点平均粗さＷ ：磨耗速度（ｎｍ／１０００回転）、ただし１＜Ｗ＜２０又は、潜像形成工程と、現像工程と、転写工程と、クリーニング工程とを具備し、前記潜像担持体の表面粗さＲｚ及び磨耗速度Ｗを前記式の関係を保たせながら、前記潜像担持体の表面を研磨することを特徴とする画像形成方法。例文帳に追加

Besides, the image forming method comprises a latent image forming process, a developing process, a transfer process and a cleaning process, and the surface of the latent image carrier is ground while maintaining the relation between the surface roughness Rz and the wear velocity W of the latent image carrier shown by the aforesaid inequality. - 特許庁

被エッチング層上に反射防止膜（Ｓｉ−ＡＲＣ膜）を形成する工程と、前記反射防止膜上にパターン化されたレジスト膜（ＡｒＦレジスト膜）を形成する工程と、前記レジスト膜をマスクとして、ＣＦ_４ガスとＣＯＳガスとＯ_２ガスとを含むエッチングガスを用いて前記反射防止膜をエッチングすることにより、前記反射防止膜に所望のパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とするエッチング方法が提供される。例文帳に追加

The etching method includes the steps of forming the antireflective film (Si-ARC film) on an etched layer, forming the resist film (ArF resist film) patterned on the antireflective film, and etching the antireflective film with an etching gas containing CF_4 gas, COS gas and O_2 gas using the resist film as the mask to form a desired pattern on the antireflective film. - 特許庁

２価以上のコバルトの化合物で被覆した水酸化ニッケルを主体とする粉末と、カドミウム、ビスマス、マンガンから選択される少なくとも１種以上の金属または化合物と、金属ニッケル粉末あるいは金属ニッケル繊維と、イットリウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテリビウム、ルテチウムから選択される少なくとも１種以上の金属または酸化物または水酸化物とを充填されている正極を構成する。例文帳に追加

The cathode is provided and filled with powder mainly composed of nickel hydroxide coated by a compound of divalent or more cobalt, at least a metal and a compound selected from cadmium, bismuth, and manganese, metal nickel powder or metal nickel fiber and at least a metal, an oxide, or an hydroxide selected from yttrium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium, and lutetium filled therein. - 特許庁

ブタジエン成分を含有しないポリスチレン５〜９５重量％、またはアクリル酸、メタクリル酸、これらのエステルから選ばれる少なくとも１種以上とエチレンとの共重合体成分５〜９５重量％と、カーボンブラック、グラファイト、カーボン繊維、金属繊維およびウィスカならびに粉状物、金属酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の成分５〜９０重量％を含む導電マスターバッチ。例文帳に追加

An electroconductive masterbatch comprises 5-95 wt.% polystyrene containing no butadiene component or 5-95 wt.% copolymer component of at least one kind selected from acrylic acid, methacrylic acid, and esters thereof and ethylene, and 5-90 wt.% at least one component to be selected from the group consisting of carbon black, graphite, a carbon fiber, a metallic fiber, a whisker, a powdered product, and a metal oxide. - 特許庁

研磨砥粒と界面活性剤より成る添加剤とを含む研磨剤を研磨パッド１０４上に供給しながら、半導体基板１０上に形成された被研磨膜の表面を研磨パッドを用いて研磨し、被研磨膜の表面を平坦化する工程と、被研磨膜の表面が平坦化された後、研磨剤と水とを研磨パッド上に供給しながら、被研磨膜の表面を研磨パッドを用いて更に研磨する工程とを有している。例文帳に追加

The method includes steps of: planarizing a film to be polished formed on a semiconductor substrate 10 using a polishing pad 104, while supplying abrasive containing abrasive grains and additive composed of a surfactant on the polishing pad; and further polishing the surface of the film after having planarized it, using the polishing pad, while supplying abrasive and water on the polishing pad. - 特許庁

位相シフトマスクに於ける位相シフター膜のドライエッチング工程に於いて、エッチング処理中に観測されるプラズマ電流−電圧間の位相差の平均値と位相シフター膜のエッチング速度の相関関係と位相差出力の経時変化とを用いて次回処理基板に於けるエッチング速度を予測し、然る後、最適エッチング時間を設定してエッチング処理を行なう過程が含まれてなることを基本とする。例文帳に追加

A dry etching step of a phase shifter film in a phase shift mask essentially comprises predicting an etching rate in the next process substrate by using a correlation between an average phase difference in a plasma current-voltage and the etching rate of the phase shifter film observed during the etching process and using changes in the phase difference output with time, and then setting an optimum etching time to carry out the etching process. - 特許庁

ホトレジストパターン（マスクパターン）を有する基板上に被覆形成剤を被覆してパターン形成を行う微細パターンの形成方法において、パターン寸法の制御性に優れるとともに、良好なプロフィルおよび半導体デバイスにおける要求特性を備えた微細パターンを得ることができ、さらにデバイスの汚染の原因となり得るパーティクルの発生を防止した、微細パターンの形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a fine pattern to form the pattern by covering, with a cover forming agent, a substrate including a photoresist pattern (mask pattern) in which pattern size can be well controlled, a fine pattern satisfying the excellent profile and requested chararacteristic for a semiconductor device can be obtained and moreover generation of particles which can result in contamination of device can be prevented. - 特許庁

石英基板上にモリブデン−シリコンの酸化物、モリブデン−シリコンの窒化物、モリブデン−シリコンの酸窒化物、シリコンの窒化物およびシリコンの酸窒化物のいずれかからなる被膜を形成する工程と、前記被膜を塩素ガスを含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングにより選択的にエッチング除去することにより位相シフトマスクパターンを形成する工程とを具備したことを特徴とする。例文帳に追加

The production method includes a process of forming a film consisting of any of an oxide of molybdenum silicon, nitride of molybdenum silicon, oxide nitride of molybdenum-silicon, nitride of silicon and oxide nitride of silicon on a quartz substrate, and a process of forming a phase shift mask pattern by reactive ion etching to selectively etch and remove the film by using an etching gas containing gaseous chlorine. - 特許庁

マスタレーザとして用いられるレーザから発せられた強い光を印加させて他のレーザの信号をロッキングさせ、中間周波数のローカルオシレータによりシフトさせた後に発せられた信号のうち非データモードの信号を遠距離基地局においてダイプレックスさせて高周波ローカルオシレータなしにアップリンク信号の伝送源として再利用する広帯域光ファイバ−ラジオシステムの双方通信システム。例文帳に追加

This invention provides the optical fiber-radio hybrid duplex communication system wherein applying a strong light stimulated from a laser acting like a master laser locks signals of the other lasers, a remote base station applies diplex processing to a signal in a non data mode among signals shifted and oscillated by an intermediate frequency local oscillator, and the result is reused as the transmission source of an uplink signal without a high frequency local oscillator. - 特許庁

縁部に沿ってフレームにより支持されて、複数のパターン化した開口部を具備して上記開口部を通じて蒸着源から赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の組合わせよりなる複数の画素を有する有機発光膜を透明基板に蒸着させるものであって、上記開口部は上記透明基板側幅が上記蒸着源側幅より大きく形成されており、上記透明基板側開口部の幅をＷｓ１、上記蒸着源側開口部の幅をＷｓ２、上記有機発光膜の互いに隣接する画素間の距離をＰｐ、上記蒸着される有機発光膜のうち一画素の発光膜幅をＷｅｌとする時、上記Ｗｓ１はＷｓ１＝Ｐｐ＝Ｗｅｌの式を満足する少なくとも２つの単位マスクを具備する。例文帳に追加

This mask is provided with at least two unit masks supported by a frame along the edge part and provided with a plurality of patterned opening parts, and a plurality of pixels constructed of a combination of red R, green G, and blue B are deposited on a transparent board from a deposition source via the opening parts. - 特許庁

(3) 本法の適用上，「組物」とは，通常一緒に販売され又は一緒に使用される同じ一般的性格を有する複数の物品であって，同じ意匠，又は当該物品の性格を変更する程度には至らない若しくは同一性に実質的な影響を及ぼさない程度の修正若しくは変化を施した同じ意匠が各個別の物品に応用されているものをいう。ただし，連続マスクワークは，組物ではない。例文帳に追加

(3) For the purposes of this Act, a "set of articles" means a number of articles of the same general character which are ordinarily on sale together or intended to be used together, and in respect of which the same design, or the same design with modifications or variations not sufficient to alter the character of the articles or substantially affect the identity thereof, is applied to each separate article: Provided that a series of mask works shall not be a set of articles. - 特許庁

アラビノース、リキソース、リボース、キシリトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ジプロピレングロコール、ジグリセリン、エリスリトール、スレイトール、トリメチロールプロパン又はトリメチロールエタン等のエーテル結合を０乃至は１個有する、炭素数４以上の多価アルコールを着色用の組成物に含有させるこにより、染色性に優れる染毛料や、色味ののりの均一な毛髪用マスカラ組成物を提供する。例文帳に追加

This composition, a hair dye with high dyeing ability or mascara composition for the hair with uniform color spread, is obtained by formulating a conventional hair-dyeing composition with a ≥4C polyhydric alcohol having zero or one ether linkage such as arabinose, lyxose, ribose, xylitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, dipropylene glycol, diglycerol, erythritol or threitol. - 特許庁

中空部材２内に水晶チップ３が配置されることにより形成された水晶振動子１は、内部に空間が形成されているため特に耐圧性が低いが、水晶振動子１の中空部材２の少なくとも一部をセラミックスで形成するとともに、水晶振動子１及び回路基板６を樹脂８により包埋するといった構成により、小型で耐圧性の高い電子デバイス１００を提供することができる。例文帳に追加

Though the pressure resistance of crystal oscillator 1 formed by arranging a crystal chip 3 in the hollow member 2 is especially low since a space is formed inside, the small and highly pressure-resistant electronic device 100 is provided by configuration of forming at least a part of the hollow member 2 of the crystal oscillator 1 of ceramics and embedding the crystal oscillator 1 and the circuit board 6 by resin 8. - 特許庁

本発明の一態様に係るマスク検査光源１０１'は、レーザ光を発生するモードロック型チタンサファイアレーザ発振器１１１と、モードロック型チタンサファイアレーザ発振器１１１から発生するレーザ光を連続動作のグリーンレーザ光で励起させるチタンサファイア再生増幅器１１２とを備えるレーザ装置と、レーザ装置から取り出されるレーザ光の第四高調波を発生する波長変換装置とを有するものである。例文帳に追加

The mask inspection light source 101' includes: a laser device with a mode-lock titanium sapphire laser oscillator 111 that generates a laser beam and a titanium sapphire regenerative amplifier 112 that excites the laser beam generated from the mode-lock titanium sapphire laser oscillator 111 with a green laser beam in continuous operation; and a wavelength converting device that generates fourth harmonics of the laser beam extracted from the laser device. - 特許庁

超砥粒焼結体の研磨面に並んだ研磨単位を有する研磨用焼結体は、超砥粒焼結体表面の加工をレーザーカットにより行うため、研磨単位を緻密に、鋭いエッジを保ったままで形成することが可能であり、その高密度研磨単位列によって、ＬＳＩ等用の半導体材料表面を研磨するＣＭＰ研磨パッドをコンディショニングするための研磨工具を提供することができる。例文帳に追加

The sintered body for polishing with polishing units aligned on a polishing surface of a super-abrasive sintered body processes the surface of the super-abrasive sintered body by laser cutting, thereby the polishing units can be formed precisely while maintaining sharp edges, and with its high density polishing unit lines, the polishing tool for conditioning the CMP polishing pad which polishes the surface of the semiconductor material for LSI etc. can be provided. - 特許庁

半導体基板上にエッチング比の異なる２種以上の半導体層を交互に積層する工程と、所定のマスクを用いて、積層された半導体層をパターニングする工程と、少なくとも１種以上の半導体層を選択エッチングしてエアギャップを形成することにより、残留した半導体層からなるメサ構造が形成されるようにする工程と、エアギャップが埋め込まれるように、伝熱特性の良好な物質を蒸着する工程とを含む。例文帳に追加

This method comprises processes for: alternately laminating multiple semiconductor layers with different etching rates; patternizing the laminated semiconductor layers through the dedicated masks; selecting and etching at least one kind of semiconductor layer to form an air gap and forming a mesa structure made up of residual semiconductor layers; and evaporating the materials with good thermal conductivity to pad the air gap. - 特許庁

ＬＩＧＡプロセスにおけるリソグラフィ工程を含むＸ線リソグラフィやフォトリソグラフィ等により微小構造体を加工した際において、マスクエッジ形状の欠陥や、レジスト内に生じる反応等によって発生する微小構造体の表面の微小な荒れを改善し、当該微小構造体の表面を光学レベルで平滑にすることができる表面加工方法及び表面加工装置等を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for smoothly finishing the surface of a micro structural body at an optical level by improving a micro roughness on the surface of the micro structural body by defects of mask edge shape and a reaction in a resist when the micro structural body is finished by X-ray lithography or photo lithography including a lithography step in a LIGA process. - 特許庁

半導体基板１１上に金属膜１３を形成する工程と、金属膜１３の上に絶縁膜１４を形成する工程と、絶縁膜１４上に所定の形状にパターニングされたレジスト１５を形成する工程と、レジスト１５をマスクとして絶縁膜１４に孔１４ａを形成する工程と、フロロカーボンガスと、フロロカーボンガスを分解するための、触媒その他の分解促進物とを用いてレジスト１５をアッシングする。例文帳に追加

The method includes the stages of forming a metal film 13 on a semiconductor substrate 11, forming an insulating film on the metal 13, forming a resist 15 patterned in a specified shape on the insulating film 14, forming a hole 14a in the insulating film 14 by using the resist 15 as a mask, and ashing the resist 15 by using a catalyst and other decomposition accelerators for decomposing fluorocarbon gas. - 特許庁

第１の柱状スペーサーと、この第１の柱状スペーサーよりも厚さの薄い第２の柱状スペーサーを形成するための露光方法であって、フォトマスクの開口率を変更したり、光透過率の低減処理を施すことなく、膜厚及び線幅の均一性に優れた第２の柱状スペーサーを形成することを可能とする露光方法、露光装置、及び液晶表示装置の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an exposure method for forming a first columnar spacer and a second columnar spacer thinner than the first columnar spacer, the method for forming the second columnar spacer with excellent uniformity of film thickness and line width without changing an aperture ratio of a photomask or subjecting a photomask to a process of reducing the transmittance for light, and to provide an exposure device and a method for manufacturing a liquid crystal display device. - 特許庁

商品分類コードのコード体系の一部を変更する作業を簡単に行うことができ、その結果として、そのような作業を行った場合でも商品情報と商品分類コードとの関係の整合を簡単に取ることを可能にする商品情報管理プログラムと、そのプログラムを格納したコンピュータ可読媒体と、その商品情報管理プログラムが取り扱う商品分類マスタデータベースのデータ構造とを、提供する。例文帳に追加

To provide a merchandise information management program for easily performing an operation to change part of the code system of merchandise classification codes, and for easily matching the relations of merchandise information and merchandise classification codes even when such operation is performed as a result, a computer readable medium in which such program is stored and the data structure of a merchandise classification master database to be treated by the merchandise information management program. - 特許庁

だから、いろいろ、これは一般投資家が、その商品にとって正確な知識を持ち得るかどうかというようなことも一つあるでしょうね。そういうことを含めての営業のやり方もあるだろうし、だから、全般について、今、検討しているところなので。だから、この世界は難しいのですよ。「虚」が「虚」を生んでいるような世界があるでしょう。簡単に言うと、言葉は悪いですけど、博打場みたいなところがありますね。実態的な取引と関係ない形で、こんなことを言ったらおかしいけれども、昔、電車が来たら、次に来るのが奇数番号か偶数かということで賭けていたでしょう。それと似たような、実態とは縁のない形での取引がされる危険性があるし、いろいろな、そういう物事を捕まえてはやる。これは、お互いだけだったら何ということはないかもしれない。それでも、やはり取引がでかくなってしまった場合、それが破裂してしまった場合は、経済全体に影響が起きる場合があるので、「相対取引で、お互い納得づくで勝手に商品を取引していたので、損しようが関係ない」といってしまえない面もあるわけでしょう。だから、そういうことを含めて、今、検討しているという最中です。例文帳に追加

This concerns the issue of whether you can expect ordinary investors to have accurate knowledge regarding such products. It also concerns how sales activity is conducted, so we are considering all these issues. This is a complicated field. Some derivatives are like creating something from nothing. To put it simply, it is like, if I may say so, gambling. This has nothing to do with trading actual goods. In a betting game that used to be popular, we placed a bet as to whether the serial number of the next train would be an odd or even number. This is somewhat like that game, and transactions could be made without any relation to the real economy. If the parties involved in such transactions alone are to be affected, it may not be so problematic. However, as the scale of transactions has grown, the entire economy could be affected if the deals implode. So, we cannot just say, “We don't care if you suffer losses, as you have done the OTC(over-the-counter) deal with each side understanding the risk.” Therefore, we are considering all these issues.  - 金融庁

熱可塑性樹脂フィルム１の少なくとも一方の面上に多孔性樹脂膜２及び多孔性繊維膜の少なくともいずれかを含む多孔性支持体１０を形成する多孔性支持体形成工程と、該多孔性支持体１０の表面に、少なくともπ共役二重結合を持つ導電性ポリマーを含む導電性材料塗布液を塗布する導電性材料塗布工程とを含む感熱孔版印刷用マスターの製造方法である。例文帳に追加

The manufacturing processes include porous support 10 forming process which forms the porous support 10 containing at least either of porous resin sheet 2 and porous yarn sheet on top of at least one surface of the thermoplastic resin film 1 and the conductive material coating process to coat conductive material liquid including conductive polymer having at least π conjugated double bond. - 特許庁

チャネル領域に短チャネル効果を抑制するためのイオン注入をおこなう際に、デプレッションＭＯＳ基準電圧回路を構成するデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ４およびエンハンスメント型ＮＭＯＳトランジスタ５の一方または両方をマスクによって遮蔽してそれらに不純物イオンが注入されるのを防ぎ、それによってそれらデプレッション型ＮＭＯＳトランジスタ４およびエンハンスメント型ＮＭＯＳトランジスタ５の一方または両方がパンチスルーストッパー層を有しない構成とする。例文帳に追加

When ions are injected into a channel area so as to suppress short-channel effects, one or both of depletion NMOS transistor 4 and an enhanced NMOS transistor 5 constituting the depletion MOS reference voltage circuit are shielded by a mask to prevent impurity ions from being injected into them, and consequently one or both of the depletion NMOS transistor 4 and enhanced NMOS transistor 5 do not have a punch-through stopper layer. - 特許庁

半導体基板に第１の側面に反対される第２の側面を有して突出した壁体）を形成し、壁体の第１の側面の一部を選択的に開口する開口部を有する片側コンタクトマスクを形成した後、開口部に露出した第１の側面部分に互いに拡散度が異なる不純物を拡散させて第１の不純物層及び該第１の不純物層を覆う第２の不純物層を形成することを特徴とする。例文帳に追加

A projection wall having a second side surface opposed to a first side surface is formed on a semiconductor substrate, a single side contact mask having an opening part selectively opening a part of the first side surface of the wall, is formed, then a first impurity layer and a second impurity layer covering the first impurity layer by diffusing impurities having different diffusion degrees into a first side surface exposed to the opening. - 特許庁

領域抽出部１３０が最初のボリュームデータからセグメントデータを抽出し、各ボリュームに対するセグメントデータの位置合わせを行うための補正情報を位置合わせ部１５０が作成し、セグメントデータ変換部１４０が位置合わせ部１５０が作成した補正情報を用いて各ボリュームに対するセグメントデータの補正を行い、４Ｄ画像処理部１６０がセグメントデータ変換部１４０によって補正されたセグメントデータを用いてマスク処理を行うよう構成する。例文帳に追加

An area extraction part 130 extracts segment data from first volume data, a positioning part 150 prepares correction information for positioning the segment data to each volume, a segment data conversion part 140 corrects the segment data to each volume using the correction information prepared by the positioning part 150, and a 4D image processing part 160 performs the mask processing using the segment data corrected by the segment data conversion part 140. - 特許庁

光透過性の基材上に、ｉ）重合可能な不飽和結合を有するアルカリ可溶性樹脂バインダー、ii）少なくとも１個の重合可能な不飽和結合を有するモノマー、iii）４０５ｎｍ以上の波長領域に感光性を有する光重合開始系、及びiv）重合可能な分散剤で表面処理された着色材、を含む感光性層を有し、かつ該感光性層が塗布形成されてなることを特徴とするフォトマスク材料である。例文帳に追加

The photomask material has, on a light transmitting substrate, a photosensitive layer comprising i) an alkali-soluble resin binder having polymerizable unsaturated bonds, ii) a monomer having at least one polymerizable unsaturated bond, iii) a photopolymerization initiation system having photosensitivity in a wavelength region of ≥405 nm and iv) colorant surface-treated with a polymerizable dispersant, wherein the photosensitive layer is formed by coating. - 特許庁

その後、米国政府は、2000年１月３日に、国際イルカ保護計画法の暫定最終実施規定（Interim final rule implementation）を制定し、⑴国際イルカ保護計画に加盟している諸国（現在輸入禁止）からキハダマグロの米国への輸入を一定の条件下で認める、⑵米国の巻き網漁船による東部熱帯太平洋海域でのキハダマグロの漁獲を認める、⑶東部熱帯太平洋海域から輸入されるキハダマグロの適正な追跡および検証を保証する、との点を公表し、エクアドル、エルサルバドル、メキシコ、パナマ、スペインおよびベネズエラから輸出承認申請を受け、2000年４月12日にメキシコおよび2000年５月31日にエクアドルから、2003年12月31日にエルサルバドルから、また、2005年６月９日にスペインからの輸出を承認した。例文帳に追加

On January 3, 2000, the US Government established an interim final rule implementing the International Dolphin Conservation Program Act and promised (1) to lift the current ban and conditionally accept imports of yellowfin tuna from IDCP members, (2) to allow round haul netters to fish for yellowfin tuna in the Eastern Tropical Pacific Ocean, and (3) to ensure origin and related verification of yellowfin tuna imported from the Eastern Tropical Pacific Ocean. Ecuador, El Salvador, Mexico, Panama, Spain and Venezuela submitted import license applications. The US Government granted applications to Mexico on April 12, 2000, to Ecuador on May 31, 2000, to El Salvador on December 31, 2003, and to Spain on June 9, 2005. - 経済産業省

例えば、シンガポール―NZ のFTA では、① AD 税を賦課することができないとする僅少マージン（デミニマス）を輸出価格の２％から５％へ引き上げ（第９条１⒜）、②無視できるダンピング輸入量を３％でなく５％とし、輸入量が５％を下回る場合には、調査は直ちに終了する（同⒝）、③これらは新規調査事案のみならずレビューにも適用する（同⒞）、④上記②の、無視できるダンピング輸入数量を決定する調査対象期間を、通常少なくとも12ヶ月とする（同⒟）、⑤ AD税賦課の期間を原則として５年から３年に短縮する（同⒠）、などの点において規律強化が図られた。例文帳に追加

For example, the Singapore-New Zealand FTA has incorporated stricter disciplines than exist in the WTO Agreement in that it (i) raises the de minimis margin of the export price below which AD duties cannot be imposed from 2% to 5% (Article 9, paragraph 1(a)); (ii) applies such stricter “de minimis” rule to review cases as well as new investigation cases (Article 9, paragraph 1(b)); (iii) increases the volume of dumped imports which are regarded as negligible from 3% to 5%, and immediately terminates investigation if the import amount falls short of 5% (Article 9, paragraph 1(c)); (iv) provides that the time frame for determining the volume of dumped imports which can be regarded as negligible (mentioned in (iii) above) shall normally be at least 12 months (Article 9, paragraph 1(d)); and (v) reduces the period of imposition of the AD duties from five (5) years to three (3) years (Article 9, paragraph 1(e)). - 経済産業省