「For each process」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

The process for production of the hydrophilic poyurethane resin is carried out by a reaction of an organic polyisocyanate, a polymeric hydrophilic polyol or a polyamine with a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group and a compound having at least each one reactive group and one hydrolyzable silyl group in the same molecule.例文帳に追加

有機ポリイソシアネート、高分子量親水性ポリオール又はポリアミン、少なくとも１個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物、少なくとも１個の反応性基と少なくとも１個の加水分解性シリル基を同一分子内に有する化合物を反応させる親水性ポリウレタン系樹脂の製造方法。 - 特許庁

3.Basic concepts for the implementation of monitoring and guidance on imported foods According to Article 4 of the Food Safety Basic Act (Act No. 48 of 2003), food safety must be ensured by taking necessary measures appropriately at each step of the food supply process both in Japan and overseas.例文帳に追加

3輸入食品等の監視指導の実施についての基本的考え方食品安全基本法（平成15年法律第48号）第4条において、食品の安全性の確保は、国の内外における食品供給行程の各段階において必要な措置が適切に講じられることにより行われなければならないとされている。 - 厚生労働省

3 For human stem cell clinical research conducted in collaboration with other institutions, when seeking the opinion of the ethics committees at each institution, the institute director must also receive such information as the state of the review, and the informed consent process, etc.例文帳に追加

３ 研究機関の長は、他の研究機関と共同でヒト幹細胞臨床研究を実施する場合において、倫理審査委員会の意見を聴くに当たっては、当該他の研究機関における審査の状況、インフォームド・コンセントの取得状況等の情報を倫理審査委員会に提供しなければならない。 - 厚生労働省

To provide a method and an apparatus useful for improving productivity in a carburizing and quenching treatment of a steel component, which can flexibly cope with production fluctuation, can effectively produce even a little amount without wasting, and an apparatus configuration which suites to a production situation without wasting by unitizing each process.例文帳に追加

鋼部品の浸炭焼入れ処理において、生産変動に柔軟に対応でき、少量でも無駄の少ない効率的な生産が可能であると同時に、生産性の向上に有益な方法と装置を提供及び各工程をユニット化することで、生産状況に適した無駄のない装置構成を可能にする。 - 特許庁

With this configuration, multi-atom layer step of about 3 nm in height are present in parallel each other in the Si wafer before bonding in micro size, and the step acts as a minute degassing hole in nanometer size at the stacked interface, so the gas generated at the interface in thermal process for raising adhesiveness is released effectively outside a wafer.例文帳に追加

上記構成によって、接着前のSiウェーハはミクロに見れば高さが3nm程度の多原子層ステップがお互い平行に存在し、重ね合わせた界面でこのステップがナノメートルサイズの微細なガス抜き穴として働くため、密着を高めるための熱処理時に界面で発生するガスがウェーハ外に効果的に抜ける。 - 特許庁

The growing process (S1) is to form a laminated body by alternately growing a first conduction type layer formed of a first conduction type semiconductor and a second conduction type layer formed of a second conduction type semiconductor whose conduction type is different from the first conduction type by not less than one layer for each layer.例文帳に追加

成長工程（Ｓ１）とは、第１導電型の半導体からなる第１導電型層と、第１導電型とは異なる導電型である第２導電型の半導体からなる第２導電型層とを、少なくともそれぞれ１層以上交互に成長させることにより積層体を形成する工程である。 - 特許庁

The method for producing a pure molybdenum or molybdenum alloy thin strip comprises a process where pure molybdenum or molybdenum alloy sheets with a thickness of 0.5 to 5.0 mm as stocks are welded each other, the weld is thereafter heated at 250 to 600°C, and is subjected to warm rolling at the total draft of 10 to 90%.例文帳に追加

純モリブデンまたはモリブデン合金薄帯の製造方法において、厚さ０．５〜５．０ｍｍの純モリブデンまたはモリブデン合金板を素材とし、該素材同士を溶接後、２５０〜６００℃に加熱して総圧下率１０〜９０％の温間圧延を行う工程を含む純モリブデンまたはモリブデン合金薄帯の製造方法である。 - 特許庁

The operating procedure selected by the user for each layer is determined, and if an operating procedure at the layer below the operating procedure determined exists, voice information regarding the operating procedure at the lower layer is synthesized by a voice synthesizing process part 105 using a voice synthesis dictionary 106 and is output from a voice output part 107.例文帳に追加

そして、階層毎にユーザが選択した操作手順を判定し、判定された操作手順の下位階層の操作手順が存在する場合、下位階層の操作手順に関する音声情報を音声合成用辞書１０６を用いて音声合成処理部１０５で合成し、音声出力部１０７から出力する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor substrate having a structure in which a transparent conductive film and an electrode wiring film are directly connected to each other in a thin film transistor which can prevent pinhole corrosion without having steps of applying and peeling a coating material for corrosion prevention in the process of manufacturing the thin film transistor substrate.例文帳に追加

薄膜トランジスタにおいて透明導電膜と電極配線膜が直接接続する構造を有する薄膜トランジスタ基板であって、その製造工程において、腐食防止用塗料の塗布や剥離といった工程を設けることなく、ピンホール腐食を防止できるような薄膜トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

The process film for manufacturing the laminated circuit board has a base material film and the resin layers formed on both sides of the base material film and is characterized in that each of the resin layers on both sides of the base material film is a layer comprising the cured material of an active energy beam curable resin composition or a layer comprising an alkyd resin and/or an acrylic resin.例文帳に追加

基材フィルムと、その両面に形成された樹脂層を有し、両面の樹脂層が、共に活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物からなる層あるいはアルキド樹脂及び／又はアクリル系樹脂からなる層であることを特徴とする積層回路基板製造用工程フィルムである。 - 特許庁

A plurality of coefficient selecting circuits 105a, 105b are provided for each of the plurality of process units to determine the indexes of the zero and non-zero coefficients in the coefficient string to be regenerated by outputs of the plurality of tables, transfer the non-zero coefficient to the output buffer, and write the zero coefficient to the output buffer.例文帳に追加

複数の係数選択回路１０５ａ及び１０５ｂは複数の処理単位毎に設けられ、複数のテーブルの出力にて、再現される係数列のゼロ係数及び非ゼロ係数のインデックスを決定し出力側バッファへ非ゼロ係数を転送し出力側バッファへゼロ係数を書き込む。 - 特許庁

The clock control means 18 stops the clock supply that is supplied from the ceramic oscillation circuit 16 for each end of the timing operation of the timing means, and the waiting time from the end of measurement of the propagation time to the performance of the next measurement process controls with the low-speed clock supplied from the crystal oscillator 15.例文帳に追加

クロック制御手段１８は計時手段の計時動作が終了するごとにセラミック発振回路１６からのクロック供給を停止し、伝搬時間の計測が終了してから次の計測処理を実行するまでの待ち時間を水晶発振回路１５から供給される低速クロックで制御している。 - 特許庁

A computer 2 calculates a work commencement plan of the whole enterprise from the required information, which is collected from a customer computer 7 or a production management computer 3 or the like, such as demand forecast of products and ordering information, the number of work commencement and completion for each production site, merchandise category, and process to satisfy production required quantity, a time schedule and so on.例文帳に追加

コンピュータ２は、顧客コンピュータ７や生産管理コンピュータ３などから収集した、製品の需要予想や注文情報、およびその生産必要数を満足させるための各生産拠点・品種・工程ごとの着工・完成数と日程などの必要情報から企業全体の着工計画を算出する。 - 特許庁

The apparatus is for molding an optical element by conveying a set of molds 15, where an optical element material is placed between the upper mold and the lower mold, in sequence to each process stage, i. e. heating, press-molding, and cooling, where a thermocouple 26 is embedded in the plate 1 of the heating stage around the lower surface of the lower mold of the set of molds.例文帳に追加

上金型と下金型の間に光学素子素材が置かれた金型組１５を、加熱、加圧成形および、冷却の各プロセスステージへ順次搬送し光学素子を成形する成形装置であって、加熱ステージのプレート１には、金型組の下金型の下面近傍に熱電対２６が埋設されている。 - 特許庁

Respective dimensions are designed so as to satisfy L1>TSW×2 and L1-2×TSW<1F where L1 is a distance between polycrystalline silicon films PS1, PS2 for a processing mask, TSW is the film thickness of each of silicon oxide films serving as sidewall spacers SWL, SWR, and 1F is a minimum processing size of a manufacturing process.例文帳に追加

加工マスク用多結晶シリコン膜ＰＳ１、ＰＳ２間の距離をＬ１とし、側壁スペーサＳＷＬ、ＳＷＲとなる酸化シリコン膜の膜厚をＴＳＷとし、製造プロセスにおける最小加工寸法を１Ｆとした際に、Ｌ１＞ＴＳＷ×２、かつＬ１−２×ＴＳＷ＜１Ｆとなるように各寸法を設計する。 - 特許庁

The target area has: a first aligning mark generated in each process for forming the first metal electrode and the second metal electrode formed on the first metal electrode; and a second aligning mark formed by an unevenness of the thickness of an oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

上記ターゲットエリアは、上記第１金属電極と、上記第１金属電極上に形成された第２金属電極とを形成する各工程で発生する第１位置合わせマークと、上記半導体基板表面に形成された酸化膜の厚さの段差により形成された第２位置合わせマークとを有する。 - 特許庁

This image forming method is provided with a dot data creating process of deciding a dot arrangement in an output pixel group as a plurality of pixels corresponding to input pixels depending on encode data for each of the input pixels and creating dot data indicating the state of the formation of dots formed on a recording medium.例文帳に追加

本願の画像形成方法は、入力画素毎にエンコードデータに応じて入力画素に対応する複数の画素である出力画素群におけるドット配置を決定して、記録媒体上に形成されるべきドットの形成状態を表すドットデータを生成するドットデータ生成工程を備える。 - 特許庁

Succeedingly, in the case of different sizes, processing for matching the size of the image to be diagnosed with that of the selected reference image is performed to display the image to be diagnosed and the reference image, both of which are constituted of the same size, in contradistinction to each other to process them so as to record a view in response to a view recording request.例文帳に追加

続いて、サイズが異なる場合には、診断対象画像と選択した参照画像とのサイズを合わせるための処理を実行して、同一サイズで構成される診断対象画像と参照画像とを対比表示し、所見記録要求に応答して所見を記録するように処理する。 - 特許庁

The method allocates an element of the group of elements to the resource which has the highest capacity to process elements of the group of elements within the time duration, determines a revised capacity for each resource according to the capacity of the resource and elements allocated to the resource, and allocates a next element of the group of elements to the resource which has the highest revised capacity to process elements of the group of elements.例文帳に追加

時間期間内に一群の要素のうちの複数の要素を処理するための最大の容量を有する資源に一群の要素のうちの１つの要素を配分し、資源毎に、当該資源の容量及び当該資源に配分された要素に従って、修正された容量を求め、一群の要素のうちの複数の要素を処理するための最大の修正された容量を有する資源に、一群の要素のうちの次の要素を配分する。 - 特許庁

In the process of forming a pattern, the working steps are carried out for each specific number of a common box in the order of manufacture according to a routing instruction sheet under the manufacture conditions according to a process instruction sheet.例文帳に追加

製造工程では、透明基板への遮光膜等の成膜作業と、描画作業と、エッチング作業とを高真空のクリーンルーム内に配置し、透明基板へのレジスト塗布作業と、現像作業と、剥膜作業とを低真空のクリーンルーム内に配置され、前記工程のパターン形成時、作業の工程が、共用ボックスの固有番号毎に、製造の順番を搬送経路指示書に従って、製造条件を加工処理指示書に従って各々の作業が行われるフォトマスク製造ライン。 - 特許庁

To provide an information processing method and an information processor which can be made adaptive to the change of a kind and data and enable the reduction of costs required for program development and maintenance while there are the problems that a troublesome and expensive process to newly prepare a processing program is required when the kind or the data is charged since the processing program is needed for each packet kind in a conventional information processor.例文帳に追加

従来の情報処理装置では、パケット種別毎の処理プログラムであるため、種別やデータの変更があると新たに処理プログラムを作成しなければならず、煩雑でコストがかかるという問題点があり、種別やデータの変更に容易に対応でき、プログラム開発やメンテナンスにかかるコストを低減することができる情報処理方法及び情報表示装置を提供する。 - 特許庁

In order to compensate for the variability of the discharging amounts of liquid droplets discharged from each nozzle which belongs to the use block, the image processing part 32 carries out a specific process to a target pixel in object image data of the processing object using correction data for a target nozzle which forms a dot at a position on a print medium corresponding to the target pixel and which belongs to the use block.例文帳に追加

画像処理部３２は、使用ブロックに属する各ノズルから吐出される液滴の吐出量のバラツキを補償するために、処理対象の対象画像データ内の注目画素に対して、注目画素に対応する印刷媒体上の位置にドットを形成する注目ノズルであって、使用ブロックに属する注目ノズルのための補正用データを用いて、特定の処理を実行する。 - 特許庁

The method of manufacturing the lead terminal T for capacitor in which one end of a metal wire 1 having a metal plating layer 2 made principally of tin and one end of an aluminum wire 5 are brought into contact with each other to weld the metal wire 1 and aluminum wire 5 together includes an induction heating process using an electromagnetic induction heating means 17 for the weld zone 10 between the metal wire 1 and aluminum wire 5.例文帳に追加

錫を主体とした金属めっき層２を形成した金属線１の一端とアルミニウム線５の一端とを互いに当接させ、金属線１とアルミニウム線５とを溶接するコンデンサ用リード端子Ｔの製造方法において、金属線１とアルミニウム線５との溶接部１０に対して電磁誘導加熱手段１７を用いた誘導加熱工程を含む。 - 特許庁

The multiplex method of nucleic acid amplification by a PCR amplification process includes using primers each 32 bases or more in length, making an annealing at a temperature lower than the respective Tms of the primers, and conducting an extension reaction for 1-10 min, i.e. annealing/extension reaction for a long period of time enough to accomplish the aimed uniform nucleic acid amplification by the respective primers.例文帳に追加

長さが３２塩基以上のプライマーを使用することと、前記プライマーのTm値よりも低い温度でアニーリングさせることと、1分〜１０分間の長時間伸長反応を行い、各プライマーによる均一な増幅が行なわれるのに十分な時間でもってアニーリング・伸長反応を行うこととを特徴とするＰＣＲ増幅方法による、マルチプレックスな核酸増幅方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a laminate with metal layers directly laminated on both sides of the polyimide resin layer by using laminates each with the metal layer on one side of the polyimide resin layer and laminating and thermocompression-bonding the polyimide resin layers of the laminates, includes a process for heat-treating the polyimide resin layers using superheated steam prior to thermocompression bonding.例文帳に追加

ポリイミド系樹脂層の片面に金属層を有する積層体を用い、ポリイミド系樹脂層同士を重ね合わせて熱圧着することにより、ポリイミド系樹脂層の両面に金属層が直接積層された積層体を製造する方法において、熱圧着する以前に、過熱水蒸気を用いてポリイミド系樹脂層を加熱熱処理する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method for manufacturing an FRP member comprises forming a multilayered FRP layer by winding fibers containing matrix resins 12a, 12b and 12c, respectively around a substrate material 20 employing the filament winding process, and heating to cure the multilayered FRP layer, wherein the matrix resins used have each different starting temperature of curing for every single layer or a plurality of layers in the multilayered FRP layer.例文帳に追加

基材２０にフィラメントワインディング法を用いてマトリックス樹脂１２ａ、１２ｂ、１２ｃを含む繊維を巻き付けて多層ＦＲＰ層を形成し、前記多層ＦＲＰ層を加熱硬化させてＦＲＰ部材を製造するＦＲＰ部材の製造方法であって、前記多層ＦＲＰ層の単層毎又は複数層毎に、硬化開始温度の異なるマトリックス樹脂を用いる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for mounting an electronic component which can execute a mounting operation of each component in parallel with a work of processing to recognize images of suction holding states of all the components, even if the process of recognizing the image of the suction holding states of all the components are not completed and which can improve productivity, by efficiently shortening a time required for mounting the component.例文帳に追加

全ての電子部品の吸着保持状態の画像の画像認識処理が完了しなくても、上記画像認識処理の作業と並行して、各電子部品の装着動作を行うことができて、電子部品の実装に要する時間を効率的に短縮化させ、生産性を向上させることができる電子部品の実装方法及び実装装置を提供する。 - 特許庁

An information processor which executes a processing task according to a job flow which defines the order of execution of a plurality of processing tasks, acquires attribute information indicating restriction about a process to be executed by the processing task which is set up about processing target data to be handled by the processing task for each processing task included in the job flow for which execution is indicated.例文帳に追加

複数の処理タスクの実行順を定義したジョブフローに従って処理タスクを実行する情報処理装置は、実行が指示されたジョブフローに含まれている処理タスクの各々について、処理タスクが扱う処理対象データに関して設定されている、当該処理タスクによって実行される処理に関する制限を示す属性情報を取得する。 - 特許庁

The movement quantity of the observation point is calculated form the relation between the observation point of the reference frame and a point of another frame which corresponds to the observation point, a movement correction quantity for each frame is calculated based upon the movement quantity, and a movement correcting process for the moving picture data is performed according to the movement correction quantity to convert the moving picture data into parallax image data.例文帳に追加

そして、基準となるフレームにおける注視点と、他のフレームにおける注視点への対応点との関係から注視点の移動量を算出するとともに、この移動量に基づいて各フレームについての動き補正量を算出し、動き補正量に基づいて動画像データに対する動き補正処理を行い、動画像データを視差画像データに変換する。 - 特許庁

When the laser 700 having suitable pulse width and wavelength is selected in such a system and laser light particularly having the pulse width of femtoseconds to picoseconds and the wavelength in the range from 750 to 850 nm or from 1,000 to 1,100 nm is used, repairs in all steps can be performed using only a single laser apparatus without the need for additional or different repair devices for each test process.例文帳に追加

このような方式で、適切なパルス幅及び波長を有するレーザー装備７００を選択し、特にフェムト秒乃至ピコ秒のパルス幅及び７５０ｎｍ乃至８５０ｎｍまたは１０００ｎｍ乃至１１００ｎｍの波長範囲のレーザー光を使用すれば、テスト段階別に別途の修理装置を使用せずに一つのレーザー装備を使用して全工程で修理を行うことができる。 - 特許庁

The process recipe defines, together with the procedure of conveying a wafer W, which hands UH, LH of the transfer robot TR are used for deriving and accommodating the wafer W with respect to a cassette C, and defines which hands UH, LH of the center robot CR are used for conveying in and out the wafer W with respect to each processing chamber through which the wafer W passes.例文帳に追加

プロセスレシピは、ウエハＷを搬送する手順とともに、カセットＣに対するウエハＷの払出しおよび収納にそれぞれトランスファロボットＴＲのどちらのハンドＵＨ，ＬＨを使用するか、ならびに、ウエハＷを経由させる各処理チャンバに対するウエハＷの搬入および搬出にそれぞれセンタロボットＣＲのどちらのハンドＵＨ，ＬＨを使用するかを規定している。 - 特許庁

Furthermore, increasing the transparency of the process of accepting foreigners and acquiring permission to permanently reside in Japan is essential to improving the probability of accurately assessing the working and living conditions in Japan. In order to ensure the integration of foreigners into the local community and avoid friction with the local people, it will also be worthwhile to consider the possibility of making a certain degree of Japanese language proficiency a condition for entry into Japan as necessary for each acceptance scheme.例文帳に追加

さらに、日本国内での就労・生活についての予見可能性を高めるためには、受入れや永住許可の取得等における透明性の向上が不可欠であるとともに、地域コミュニティへの融和や摩擦回避のためには、受入枠組みごとの必要性に応じて、一定程度の日本語能力の習得を受入要件とすることも検討を行う意義がある。 - 経済産業省

In a memory distribution type parallel computer for executing plural processes by plural processors connected through a communication network, each processor for executing at least one process out of plural processes has a scheduler for scheduling the data transfer of substitute data to respective processes and a data transfer means for executing data transfer through the communication network in accordance with the schedule.例文帳に追加

通信ネットワークにより接続された複数の処理装置により複数のプロセスを実行する分散メモリ型並列計算機においては、複数のプロセスのうちの少なくとも１のプロセスを実行する各処理装置が、複数のプロセスに対し重複割付けされた変数に当該プロセスがデータを代入する場合に、代入されるデータの各プロセスへのデータ転送をスケジューリングするスケジューラと、スケジューラに従って、通信ネットワークを介するデータ転送を行うデータ転送手段とを有する。 - 特許庁

In the COC type semiconductor mounted body, each of a first and a second electrode pads 1, 9 of a first semiconductor chip 2 and a second semiconductor chip 10 is disposed after being redesigned for re-wiring in the chip region to constitute each contact pad, and electrode formation at the semiconductor mounting process level is enabled corresponding to the electrode arrangement and number to improve the degree of freedom of the electrode formation.例文帳に追加

ＣＯＣ型の半導体実装体は、第１の半導体チップ２、第２の半導体チップ１０の第１，第２の電極パッド１，９は各々チップ領域内において再配線で引き回されて配置され、各コンタクトパッドを構成したものであり、個々の半導体チップの電極配置、数に対応させて半導体実装工程レベルで電極形成が可能になり、電極形成の自由度を向上させることができるものである。 - 特許庁

The test system is provided with a plurality of pin cards each having a plurality of pin units forming part of test channels, nonvolatile memories mounted on the pin cards and storing the calibration data for compensating the error factors of the pin units provided on the pin cards, and microprocessors provided on the pin cards for controlling the calibration data and executing a calibration process for all pin units of corresponding pin cards.例文帳に追加

このテストシステムは、それぞれが上記テストチャンネルの一部を形成する複数のピンユニットを有する複数のピンカードと、その各ピンカードに搭載され、そのピンカードに設けられた上記ピンユニットにおける誤差要因を補償するための校正データを格納するための不揮発性メモリと、その対応するピンカードの全てのピンユニットについて校正データの管理と校正プロセスを実行するために各ピンカードに設けられたマイクロプロセッサとを有する。 - 特許庁

To provide a stator of a motor and its manufacturing method, in which no process is required for connecting stator coils as the stator coil is wound while bobbins are connected when the stator coil is wound on each bobbin, with a plurality of bobbins connected for mutual rotation, resulting in reduced work hours and the reduced number of components and manufacturing cost as no PCB is required for connection.例文帳に追加

複数のボビンが相互回転自在に連結されるようにして、ステータコイルを各ボビンに巻線するときにステータコイルが各ボビン間を連結しながら巻線されるため、ステータコイル間を結線する工程が不要であるので作業時間を減らすことができ、結線のための結線用ＰＣＢなどが不要であるので部品点数を減らすことができ、製造費用を削減することができるモータのステータ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A pair of structures for relative position measurement formed from the first conductor and the second conductor in laminated wiring is formed in a first conductor pattern forming step for forming first wiring and a portion of second wiring and in a second conductor pattern forming step for forming the second wiring, respectively, and an overlapping state of the structures formed in each forming process is optically detected.例文帳に追加

積層型配線において、前記第１導体、および前記第２導体から形成される相対位置測定用の一対の構造体を、それぞれ第１配線および第２配線の一部を構成する第１導体パターンの形成工程、および第２配線を構成する第２導体パターンの形成工程で形成し、各形成工程で形成される構造体の重なり状態を、光学的に検出することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

A vehicle development system 1 includes, as a database 10a for recording data formed in an adaptation process in vehicle system development, a recording area for recording an adaptation data table (specification data) showing an outline of vehicle control and a recording area for recording design information (detailed setting data) showing a detailed setting corresponding to each item of a plurality of preset items in the adaptation data table.例文帳に追加

車両開発システム１において、車両システム開発における適合工程にて作成されたデータが記録されるデータベース１０ａとしては、車両制御の概要を表す適合データ表（仕様データ）が記録される記録領域と、適合データ表における予め設定された複数の項目の各項目に対応する詳細設定を表す設計情報（詳細設定データ）が記録される記録領域と、を備えている。 - 特許庁

The navigation system is provided with a function process part 16 is composed of: a travel planning part 16a for making the detail of the travelling plan register before the travelling; a budget control part 16b for calculating the remaining amount moment to moment during travelling; and a travel leg control part 16c for searching the next destinations or alternative places and the routes to the each destination or the alternative place.例文帳に追加

旅行前に、旅行計画の詳細を登録させる旅行計画作成部１６ａと、予め登録された総予算に対して、旅行中のその時々の残高を算出する予算管理部１６ｂと、旅行中に総予算内に旅行終了できるように、次の目的地または代替地、及び、各目的地または代替地へ至るまでの経路を探索する旅行行程管理部１６ｃとで構成された機能処理部１６を備えた。 - 特許庁

The ASCM first defines the subsidies covered and classifies them into three types, based on their nature and intended purpose. The ASCM then defines, for each category, the point at which countervailing and relief measures may be imposed and outlines the procedures that must be followed. The ASCM also provides special and differential treatment for developing country Members and a transitional arrangement for Members in the process of moving from a centrally planned economy into a market, free enterprise economy.例文帳に追加

現行補助金協定では、対象となる補助金の定義を規定した上で、同定義に該当する補助金をその目的・性格等によって３つのタイプに分類（トラフィック・シグナル・アプローチ）して、それぞれの分類ごとに相殺措置や救済措置との関係・手続を規定した上（図表６―１参照）、開発途上加盟国に対する優遇措置や市場経済移行加盟国に対する経過措置等（図表６―２参照）が規定された。 - 経済産業省

(3) An overseas Distribution Process Manager may, as provided for by MAFF Ordinance, having obtained a certification from a Registered Certifying Body or Registered Overseas Certifying Body for each distribution process and type of agricultural and forestry product, evaluate whether or not his/her products pertaining to said certification complies with the relevant Japanese Agricultural Standard and affix a Grade Label (limited to the one pertaining to the standard listed in item (iii) of paragraph (3) of Article 2) to the relevant product, its package, container or invoice. 例文帳に追加

３　外国流通行程管理者は、農林水産省令で定めるところにより、農林物資の流通行程及び種類ごとに、あらかじめ登録認定機関又は登録外国認定機関の認定を受けて、その流通行程を管理し、又は把握している当該認定に係る農林物資について日本農林規格による格付を行い、当該農林物資又はその包装、容器若しくは送り状に格付の表示（第二条第三項第三号に掲げる基準に係るものに限る。）を付することができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Namely, in the process for producing an ester by allowing a dibasic acid, a diol and a monofunctional alcohol to undergo an esterification reaction through dehydration and then a transesterification reaction by using an activated titanium catalyst, the monofunctional alcohol and the diol each in a necessary amount are dispersed and continuously introduced into a reaction vessel over the whole period of the esterification reaction.例文帳に追加

即ち、活性化チタン触媒を用いて２塩基酸、ジオール及び１官能性アルコールに脱水エステル化反応及び次にエステル交換反応を行ってエステル類を製造する方法において、該エステル化反応の全期間に渡って該１官能性アルコール及び該ジオールの必要量を分散し且つ継続的に反応容器に導入する。 - 特許庁

To provide an image evaluation apparatus for evaluating contribution of each factor to density unevenness not only by extracting a plurality of factors, causing density unevenness, decomposed from an output image or from an image in an image forming process on a photoreceptor or on an intermediate transfer belt, but also correcting the extracted factors sequentially in series.例文帳に追加

出力画像または感光体上や中間転写ベルト上等の作像プロセス上の画像から分解された濃度ムラを引き起こす複数の要因を抽出するだけでなく、抽出された各要因を直列に順次補正することで、各要因がどれだけ全体の濃度ムラに寄与しているのかを評価する画像評価装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device suitably controlling the concentration of nitrogen in a gate insulating film according to predetermined characteristics required for each transistor, while suppressing the deterioration of characteristics in the transistors and the complicatedness of a manufacturing process with regard to the manufacturing method of the semiconductor device having a field effect transistor containing nitrogen in the gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜に窒素を含有する電界効果トランジスタを有する半導体装置の製造方法に関し、トランジスタの特性劣化や製造工程の複雑化を抑制しつつ、各トランジスタに要求される所定の特性に基づいてゲート絶縁膜中の窒素濃度を適宜制御しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the bump forming for forming the bump on the electrode 3a of a wafer type chip 3, the chips 3 of the semiconductor wafer 2 are bound to define a block B becoming a unit operating division in the bump forming process, and set the recognition mark 3b of a chip 3 at a predetermined position in each blocks as a block recognition point 3b(B).例文帳に追加

ウェハ状のチップ３の電極３ａにバンプを形成するバンプ形成において、半導体ウェハ２のチップ３を括ってバンプ形成工程における単位作業区画となるブロックＢを定義し、各ブロック毎に所定位置にあるチップ３の認識マーク３ｂをブロック位置検出用のブロック認識点３ｂ（Ｂ）として設定する。 - 特許庁