「In Parallel」に関連した英語例文の一覧と使い方(696ページ目) - Weblio英語例文検索

The multilayer printed board comprises at least a substrate, a ground layer 102 which is disposed with a missing portion α on the back of the substrate, at least two signal wires 103 and 201 arranged almost in parallel across the missing portion α on a surface of the substrate, and at least one ground wire 105 arranged across the missing portion α.例文帳に追加

多層プリント基板は少なくとも、基板と、欠落部分αが形成された状態で、基板の裏面上に配置されるグランド層１０２と、欠落部分αを跨いだ状態で、基板の表面に互いに略平行に配置される少なくとも２本の信号配線１０３及び２０１と、基板の表面において少なくとも２本信号配線１０３及び２０１の間に、欠落部分αを跨いだ状態で配置される少なくとも１本のグランド配線１０５とを備える。 - 特許庁

In the direct backlight, a lenticular lens array having a plurality of parallel ridgelines arranged nearly parallelly with the axes of linear light sources, and the reflecting polarizer are disposed to one side of the linear light sources, and a reflecting plate having ridgelines and repeating slant structure is disposed to the other side of the linear light sources such that the ridgelines of the reflecting plate and the axes of the linear light sources nearly cross.例文帳に追加

直線状光源に対し、その片側には、複数の平行な稜線を有するレンチキュラーレンズアレイおよび反射偏光子が配置されており、かつレンチキュラーレンズアレイの稜線は直線状光源の長軸に概略平行に配置されており、もう一方の片側には、稜線を有し、かつ繰り返し傾斜構造を有する反射板が、反射板の稜線と直線状光源の長軸とが概略直交するように配置されていることを特徴とする直下型バックライト。 - 特許庁

There are provided, at a straight part of the outer perimeter, a shield plate 1 comprising a pair of parallel pins 1a protruding in the direction across the straight part, and a printed wiring board 2 where a pair of through holes and the parts protruding above the printed wiring board 2 are twisted to wrap each other, thus fixing the shield plate 1 and the printed wiring board 2 together.例文帳に追加

外周の直線部分に、この直線部分と交わる方向に突出させた一対の平行ピン１ａが設けられているシールド板１と、平行ピン挿入用の一対のスルーホール２ａが平行ピン１ａのピッチと同じピッチで設けられている印刷配線基板２とを設け、平行ピン１ａをスルーホール２ａに挿通すると共に、印刷配線基板２より突出した部分をねじって互いに巻きつかせて、シールド板１と印刷配線基板２とを固定する - 特許庁

Also, according to the method, the insulating layer is not formed as a single layer but as a laminated layer made by laminating semi-set thermosetting resin layers on both surfaces of a full-set thermosetting resin layer, so that formability in the manufacturing method for the parallel multilayer printed circuit board is improved, and the circuit board is provided with a higher dielectric constant to improve impedance balance.例文帳に追加

本発明によれば、多層印刷回路基板の製造方法において、絶縁層の形成時に絶縁層を単層にせず、完全硬化状態の熱硬化性樹脂層の両面に半硬化状態の熱硬化性樹脂層を積層した形態の絶縁層を使用することにより、本発明に係る並列的多層印刷回路基板の製造方法における成形性を良くし、絶縁層により高い比誘電率を提供し、それによりインピーダンス均衡性を向上させることができる。 - 特許庁

In an air passage communicatively connecting the dust chamber and the electric blower, the entrance side central axis of the air passage is arranged nearer the brush chamber side than the central axis parallel with the longitudinal direction of the suction opening of the dust chamber.例文帳に追加

被掃除面に対面する開口部を有する吸口体と、前記吸口体の前記開口部側に設けたブラシ室と、前記吸口体の長手方向に対し回転軸が平行に配置された電動送風機と、集塵室とを備え、前記集塵室と前記電動送風機との間を連通する空気通路と、前記空気通路の入口側の中心軸を前記集塵室の吸口体の長手方向に対し平行な中心軸よりもブラシ室側に配置して成る空気通路であることに特徴がある電気掃除機。 - 特許庁

In addition, the three- dimensional CAD model data of the shaped article with the microholes are converted to contour line data which are parallel with the lamination plane, and the shaped article with the microholes is produced based on the converted contour line data.例文帳に追加

三次元ＣＡＤモデルにより造形品を複数の積層部分に分割し、分割した積層部分の造形素材を順次硬化する造形品生成方法において、造形品に対して設けられる直線状微細穴の軸が平行な複数の微細穴とし、前記微細穴を有する造形品の前記三次元ＣＡＤモデルデータを前記積層面に平行な等高線データに変換し、前記変換された等高線データに基づいて微細穴を有する造型品を生成することに特徴がある。 - 特許庁

The draw processing part 3, the rough shaping processing part 4 and the finish shaping processing part 5 are arranged in parallel to the axis of the pipe W.例文帳に追加

パイプＷの一端に、パイプの先端に向かって細くなる絞り加工を施す絞り加工部３と、絞り加工を施したパイプの一端の孔を荒整形する荒整形加工部４と、絞り加工を施したパイプの一端の孔を仕上げ整形する仕上げ整形加工部５と、パイプを絞り加工部、荒整形加工部及び仕上げ整形加工部に搬送してプローブに加工する搬送部２とを備え、絞り加工部３、荒整形加工部４及び仕上げ整形加工部５は、パイプＷの軸と並行に配置されている。 - 特許庁

A through-hole 19 is bored in a support metal utensil 6 in parallel to a shaft through-hole 10 and a rigid sphere 18 is inserted into the through- hole 19 and energized by a compression coil spring 20 provided on the upper side of the rigid sphere 18 so as to be protruded from the lower end of the through-hole 19.例文帳に追加

支持金物６にはシャフト挿通孔１０と平行する貫通孔１９を開設し、該貫通孔１９には剛球１８を挿入してその上側に設けた圧縮コイルスプリング２０により該剛球１８を該貫通孔１９下端から突出するように賦勢し、回転ブロック８の外周には測定杵５０、炭素棒５１、アンダーカットゲージ５２等の測定用又は加工用の部品を着脱自在に保持するためのホルダー２１を少なくとも２個以上螺着し、上記支持金物６の傾斜面に摺接する該回転ブロック８上面には上記ホルダーの数に相応して各ホルダーが真下を向いたときに上記剛球の一部が嵌合可能な位置にＶ型溝１７が凹設されている。 - 特許庁

1) This Ordinance of the Ministry shall come into effect as from July 7, 2000; provided, however, that the following shall come into effect as from the date of promulgation: the revised provisions of Article 1, item (viii), item (ix), item (xi), item (xiv), item (xviii), item (xxi), item (xxii), item (xxiv), (a) and (c), item (xxvii) and item (xxxiii); the revised provisions of item (xxxiv) of the same Article (limited to the part in which "those that are 75 millimeters or more" in (a), 1. and (b), 2. of the same item is revised to "those that exceed 75 millimeters"); the revised provisions of item (xxxv), item (xxxvi), item (xxxviii), item (xl), item (xliv) and also item (lvii) of the same Article, Article 3, item (vii), (e), item (xvi), (a) and (g), item (xx) and item (xxii); the revised provisions of Article 6, item (i) (excluding the part in which "parallel processors" in (c), 3. of the same item is revised to "devices designed for parallel processors"); and the revised provisions of item (ii), (b), item (iv) and item (viii) of the same Article, Article 7, Article 8, Article 9, item (i), (a), Article 12, Article 13, item (v), Article 14, item (v) and item (vi), (a) and (d), Article 14-2, item (lxxiv), Article 19, Article 20 and Article 21; and the revised provisions of Article 25 (limited to the part in which paragraph (3), item (ii), (j) of the same Article is deleted and (k) is changed to (j) and (l) is changed to (k) 例文帳に追加

１　この省令は、平成十二年七月七日から施行する。ただし、第一条第八号、第九号、第十一号、第十四号、第十八号、第二十一号、第二十二号、第二十四号イ及びハ、第二十七号及び第三十三号の改正規定、同条第三十四号の改正規定（同号イ（一）及びロ（一）中「七五ミリメートル以上の」を「七五ミリメートルを超える」に改める部分に限る。）、同条第三十五号、第三十六号、第三十八号、第四十号、第四十四号並びに第五十七号、第三条第七号ホ、第十六号イ及びト、第二十号並びに第二十二号の改正規定、第六条第一号の改正規定（同号ハ（三）中「並列プロセッサ」を「並列プロセッサ用に設計したもの」に改める部分を除く。）、同条第二号ロ、第四号及び第八号、第七条、第八条、第九条第一号イ、第十二条、第十三条第五項、第十四条第五号並びに第六号イ及びニ、第十四条の二第七十四号、第十九条、第二十条並びに第二十一条の改正規定並びに第二十五条の改正規定（同条第三項第二号中ヌを削り、ルをヌとし、ヲをルとする部分に限る。）は、公布の日から施行する。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

An exhaust pipe A3 having a sectional area equivalent to the sectional area obtained by subtrating that of the exhaust pipe A2 from that of the main exhaust pipe A1 is inserted slightly into the atmospheric side outer wall plate in parallel to the exhaust pipe A2, and fitted thereto.例文帳に追加

エンジンからの排気ガスの排気通路を形成したメイン排気管（Ａ１）を外筒のエンジン側外壁板に、大気中側外壁板方向に向けて途中（その位置をＸとする）まで挿入して挿着し、その同心上に（Ａ１）より断面積が小さい排気管（Ａ２）を、外筒の大気中側からＸまたはＸ＋αまで挿入して大気中側外壁板に挿着し、（Ａ１）から（Ａ２）の断面積を差引いた断面積に相当する（Ａ３）を（Ａ２）に並行して大気中側外壁板に若干ほど挿入して挿着したものである。 - 特許庁

A parallel processing processor 11 executing parallelly operation processing for secretly distributed processing and secret restoration processing and communication protocol processing configures a device for distributed authentication and this small-sized and convenient device can carry out fast distributed authentication processing by executing parallelly a matrix (simultaneous polynomial) operation in the secretly distributed processing and the secret restoration processing and communication protocol processing with each member without using a dedicated hardware.例文帳に追加

秘密分散処理および秘密復元処理のための演算処理と、通信プロトコル処理とを並列に実行する並列処理プロセッサ１１により分散認証のための装置を構成し、秘密分散処理および秘密復元処理における行列（連立多項式）演算と、各メンバとの間の通信プロトコル処理とを並列的に実行するようにすることにより、専用のハードウェアを使用することなく、小型かつ簡便な装置でソフトウェアによる高速な分散認証処理を実行することができるようにする。 - 特許庁

A polycrystalline silicon thin film for a display device is featured in that adjoining primary crystal grain boundaries are not parallel and an area enclosed by primary crystal grain boundaries is larger than 1 μm^2, and also characterized by a step of crystallizing amorphous silicon using a laser beam, through the use of a mask having a mixed structure of a laser-transparent line-shaped pattern and a laser-opaque pattern.例文帳に追加

本発明は多結晶シリコン薄膜、これの製造方法及びこれを利用して製造された薄膜トランジスタに係り、隣接したプライマリ結晶粒境界が平行せずにプライマリ結晶粒境界に囲まれた面積が１μｍ^２より大きいことを特徴とするディスプレーデバイス用多結晶シリコン薄膜及びレーザーが透過するライン形態のパターンとレーザーが透過することができないパターンが混合された構造を有するマスクを用いて非晶質シリコンをレーザーを利用して結晶化する段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The moving apparatus of a working head connects a slide guide moving in a Y direction within a horizontal surface along two parallel direct-acting sections, and moves the working head by a connecting section 8 that is driven by a direct-acting drive mechanism comprising a motor 10 and a feed screw 11.例文帳に追加

２つの平行な直動ガイド部に沿って水平面内でＹ方向に移動するスライドガイドを連結し、モータ１０、送りねじ１１より成る直動駆動機構によって駆動される連結部８によって作業ヘッドを移動させる作業ヘッドの移動装置において、２つのスライドガイドのＹ方向の位置ＹＲ，ＹＬをリニアスケール１７Ａ，１７Ｂによって検出し、リニアスケール１７Ａ，１７Ｂの配設ピッチＰ、作業ヘッドの位置ＸおよびＹＲ，ＹＬに基づいて、作業ヘッドのＹ方向の位置ずれ誤差Δｙを求め、位置補正する。 - 特許庁

Preferably, the method for producing the carbon nanotube thin film includes a compressing process for compressing the thin film of the carbon nanotubes 2 spread on the liquid surface in the direction (indicated by the arrow A) parallel to the liquid surface and/or a pulling process for pulling the thin film of the carbon nanotubes 2 spread/compressed on the liquid surface of the film-forming liquid 4.例文帳に追加

カーボンナノチューブ２とイオン性液体とを含む混合液を製膜用液体４の液面に滴下し、当該液面上にカーボンナノチューブ２を展開する、滴下工程を含むことを特徴とするカーボンナノチューブ薄膜の製造方法であり、好ましくは、前記混合液の液面上に展開されたカーボンナノチューブ２の薄膜を、液面と平行方向（矢印Ａ方向）に圧縮する圧縮工程、および／または、製膜用液体４の液面上に展開・圧縮されたカーボンナノチューブ２の薄膜を引き上げる、引上工程を含む。 - 特許庁

The colored powder is moved in a direction parallel with the electrodes to adhere onto a recording medium located on the forward end of the electrodes thus forming an image.例文帳に追加

基板上の共通電極に接触している微小粉体からなる着色粉体に、着色粉体より離れた位置で同一基板上に形成されている電極に画像信号に基いて電圧を印加して、電極間方向に対して垂直な方向に（電極に平行な方向に）着色粉体に力を作用させる電界を形成し、着色粉体を電極と平行な方向に移動させ、電極の先端上の位置にある記録媒体に着色粉体を付着させて画像を形成することを特徴とする新規像形成方法。 - 特許庁

This method for acquiring magnetic resonance images having high spatio-temporal resolution includes: a step of performing sampling of an input image in k-space; a step of applying a higher-order generalized series (HGS) reconstruction procedure to data acquired as the sampling result to acquire a first reconstructed image; and a step of applying a parallel magnetic resonance reconstruction procedure to the first reconstructed image to acquire a second reconstructed image.例文帳に追加

本発明によれば、高時空間解像度を有する磁気共鳴映像を得るための方法であって、入力映像に対してk空間(k-space)においてサンプリングを遂行する段階と、前記サンプリング結果として獲得されたデータに対して高次一般級数映像法(Higher-Order Generalized Series(HGS))を適用して第１再構成映像を獲得する段階と、前記第１再構成映像に対して並列磁気共鳴映像法を適用して第２再構成映像を獲得する段階とを含む磁気共鳴映像法が提供される。 - 特許庁

Recently, the publishing world has seen a stream of books come out one after another that have a tone of accusation against those who represent a pro-U.S. stance, including "Heizo Takenaka Is the One Who Needs to Testify" by Makoto Sataka, "'Defeat and Fall' of a BOJ Elite" by Takashi Arimori, which is a book denouncing Takeshi Kimura, and "Japan's Independence" by Kazuhide Uekusa. What is occurring parallel to this trend is the recent increase in the number of comments posted on the Internet in support of PNP, of which Mr. Kamei is the chief, or Minister Jimi. In view of the unfolding turn of events, including the establishment of an inspection committee for the Incubator Bank of Japan, please let us know how you consider the state of affairs that I just described? 例文帳に追加

最近、本の世界で佐高信の「竹中平蔵こそ証人喚問を」という本が出されたり、（有森隆氏の）「日銀エリートの「挫折と転落」」という、これは木村剛を糾弾する本なのですけれども、植草一秀氏による「日本の独立」といった従米属国勢力を糾弾するような本が立て続けに出ていて、こういった風潮の一方で、亀井国民新党を礼賛したり、また、自見大臣をもっと頑張れと大変支持しているぞというような声が、ネット上で最近多く見受けられるのですけれども、日本振興銀行の検証委員会の設置等の流れ等に鑑みまして、大臣のご所見、このような中でどのように認識されているのかというところをお願いします。 - 金融庁

The wire grid polarizer 1 comprises a plurality of metal thin lines 20 embedded parallel to one another at a predetermined pitch Pp in a light-transmitting substrate 10 without being exposed on the major surface of the light-transmitting substrate 10.例文帳に追加

光透過性基板１０内に、互いに平行に、所定のピッチＰｐで、光透過性基板１０の主表面から露出することなく埋設された複数の金属細線２０を有するワイヤグリッド型偏光子１であって、金属細線２０の最大幅Ｄｍ１が金属細線２０の高さＨｍの半分の位置から光透過性基板１０の第１の主表面１８側に存在し、金属細線２０の最小幅Ｄｍ２が金属細線２０の高さＨｍの半分の位置から光透過性基板１０の第２の主表面１９側に存在し、Ｈｍ、Ｄｍ１、Ｄｍ２が式（１）、（２）の関係を満足する。 - 特許庁

A grid electrode 400 including at least a beltlike electrode is provided in an area parallel to the electric charge gathering electrodes 404 nearby the 2nd surface of the crystal corresponding to the individual electric charge gathering electrodes.例文帳に追加

放射線の照射により電荷を生成する半導体結晶100の第１の面に陰極403を設け、第１の面と平行な第２の面に複数の電荷収集電極404の配列を作り込んだ構造を有し、これら電極間にバイアス電圧を印加して、各検出器単位1000内で放射線によって生じた電荷を電荷収集電極毎に収集して位置情報を含む出力信号を得る半導体放射線検出器であって、個々の電荷収集電極に対応して、結晶の第２の面の近傍であって電荷収集電極104と平行な領域に、少なくとも帯状電極を含むグリッド電極400を設けている。 - 特許庁

The multibeam light source apparatus is provided with a light source part having a plurality of semiconductor lasers 101 and 102, a plurality of collimate lenses 104 and 105 which are furnished as pairs with the semiconductor lasers and turn respective light beams into parallel luminous fluxes, and a supporting member 103 which arranges the plurality of semiconductor lasers and the collimator lenses in a main scanning direction and supports as a unit.例文帳に追加

本発明のマルチビーム光源装置は、複数の半導体レーザ１０１，１０２と、該半導体レーザと対で設けられ各々の光ビームを平行光束にする複数のコリメートレンズ１０４，１０５と、複数の半導体レーザとコリメートレンズとを主走査方向に配列してこれらを一体的に支持する支持部材１０３とを有する光源部を備え、上記半導体レーザ間隔Ｄとコリメートレンズ間隔ｄとにＤ／ｄ＞１なる関係があると共に、上記光源部を射出軸ａを回転軸とした回転方向に位置決め可能に支持してなる構成とした。 - 特許庁

The flat surface may be in parallel to the bent virtual plane of the arm member, the center of the sinker may be fixed with the bent part of the arm member, second sinker body may be fixed with the tip end of the arm member, or the arm member may be one that consists of twisted wires.例文帳に追加

仮想平面内で略くの字状に屈曲させられたアーム部材と、アーム部材の屈曲部付近に一体に固定されたおもり本体とを備え、アーム部材の両端には釣り糸などを連携する連携部が形成され、おもり本体が略偏平形状、断面略紡錘形状又は略球形形状であり、その偏平面がアーム部材の屈曲仮想平面と略平行又はおもり本体の中心がアーム部材の屈曲部に固定されたり、アーム部材の先端に第２おもり本体が固定されたり、アーム部材が撚り線からなるものでもよい。 - 特許庁

The serial/parallel mutual conversion of the signals is executed, all the signals are transmitted to a micro processing circuit installed and disposed on the board, the processing and control of communication contents are executed in it and guiding communication is performed on the basis of the contents.例文帳に追加

装置本体基板上に、デジタルパルスを無線出力するためのパルス無線送受信回路と、このパルス返信波を受信するための回路を内部に構成し、この信号を無線通信ドライバ回路に送り、これとは別の周波数帯を利用する無線通信用の、送受信制御回路を同時に同一基板回路上に配設し、これらの信号をシリアル／パラレル相互変換を実行して、すべての信号を、この基板上に設置配設された超小型演算処理回路に送信し、この中において通信内容の処理と制御を実行させ、その内容に基づいて、誘導通信を行う。 - 特許庁

The discharge lamp lighting apparatus for light control connects the capacitor to the discharge lamp in parallel, connection is made so that resonance current produced by the resonance effect does not flow into the filament of the discharge lamp, and at the same time preheats the filament of the discharge lamp by a filament preheating circuit with DC constant voltage as a power source.例文帳に追加

可変直流電源をインバータにより高周波に変換して、チョークコイルとコンデンサからなる共振回路に共振作用を起こさせて、この共振作用により生じた高電圧により放電灯を高周波点灯させるインバータ式点灯装置において、前記コンデンサは放電灯と並列に接続され、かつ放電灯のフィラメントに前記共振作用により生じた共振電流を流さないように接続し、同時に直流定電圧を電源とするフィラメント予熱回路により前記放電灯のフィラメントを予熱する調光用放電灯点灯装置。 - 特許庁

Here, the main surface of a semiconductor substrate 10 is tilted against a reference plane containing a crystal axis, and related to the selectively oxidized layer 16, a layer which is to be oxidized wherein the profile provided, when it is cut along the plane parallel to the main surface is smooth in a macro manner, comprising at least no singular point, is oxidized starting with a peripheral edge.例文帳に追加

半導体基板１０の主面に、活性層１４を挟んで上下の反射ミラー層１２、１８が形成され、上下の反射ミラー層１２、１８の少なくとも一方にその周縁部が酸化された選択酸化層１６を備えた面発光型半導体レーザにおいて、半導体基板１０の主面を、基準となる結晶軸を含む面に対して傾斜させ、選択酸化層１６を、主面と平行な面で切断したときの外周形状が少なくとも特異点のないマクロ的に滑らかな形状の被酸化層を周縁部から酸化して形成する。 - 特許庁

The working part 3 can work by setting a plane approximately parallel to the progressing direction of a traveling machine B as a working plane 34a, and also can work by setting a plane approximately crossing at right angle with the progressing direction of the traveling machine B as the working plane 34b in a state of positioning the implement in the rear direction of the traveling machine B.例文帳に追加

作業機Ａは、装着フレーム１等に設ける回動支点１４を中心に回動可能かつ伸縮可能な回動部２と、回動部２に設けた作業部回動支点３２を中心に回動可能な作業部３と、回動部２の回動変位量及び伸縮量と作業部３の回動変位量とを制御する制御部４と、制御部４を操作可能な操作部５を有し、作業部３は、走行機Ｂを走行させた状態で走行機Ｂの進行方向にほぼ平行な面を作業面３４ａとして作動することが可能であり、かつ走行機Ｂの後方に位置させた状態で走行機Ｂの進行方向とほぼ直交する面を作業面３４ｂとして作動することが可能である。 - 特許庁

In the process of field assembly of the cell of the rotor for the rotary solvent extirpation equipment having upper support beams (12) and lower support beams (14) parallel to the rotor shaft, which are held by 4 upper and lower beams, comprising in combination; First placing the part with the side walls (20) with inside and outside positioning elements (42, 44) on the upper and lower support beams by means of the upper and lower positioning elements (40). Next, by using the positioning elements on the said sidewalls, place the inside wall parts. Further, place the out side part (22), by using the outside positioning elements as a guide, on said sidewalls. 例文帳に追加

ロータ軸に複数本の半径方向に延出している上部支持ビーム(12)と下部支持ビーム(14)を有し、隣接する上下４本のビーム間にロータのセルが形成されている回転溶剤抽出装置のロータのセルアセンブリ(16)の現場組立法において、(ａ)まず、内側及び外側位置決め要素(42、44)を備える側壁部材(20)を、その上部及び下部位置決め要素(40)に合わせて上部支持ビーム及び下部支持ビームにそれぞれ位置決めし、取り付けること、(ｂ)次いで、内壁部材(18)を前記側壁部材の内側位置決め要素に合わせて、側壁部材間に取り付けること、(ｃ)更に外壁部材(22)を前記側壁部材の外側位置決め要素に合わせて側壁部材間に取り付けること、からなる回転溶剤抽出装置のロータのセル・アセンブリの現場組立法。 - 特許庁

The film has (a) a continuous surface and (b) a discontinuous surface disposed generally parallel to and spaced from the continuous surface, wherein both the continuous surface and the discontinuous surface have large scale apertures defined by sidewalls originating on the surfaces and extending outwardly therefrom, and (c) the large scale apertures on the continuous surface are oriented in the same direction as the large scale apertures on the discontinuous surface.例文帳に追加

ａ）連続表面であって、連続表面から生じる複数の大規模なアパーチャを有し、大規模なアパーチャは、連続表面上から生じ、連続表面から外側に延びる側壁によって画定される連続表面と、ｂ）連続表面に概ね平行で、連続表面から間隔を空けて配置される不連続表面であって、不連続表面は、不連続表面に大規模なアパーチャを有し、大規模なアパーチャは、不連続表面から生じ、不連続表面から外側に延びる側壁によって画定される、不連続表面とを備え、ｃ）連続表面上の大規模なアパーチャは、不連続表面上の大規模なアパーチャと同じ方向に向けられる、フィルム。 - 特許庁

The controller performs control over the charging and discharging to the boat by the substrate reloading machine and control over conveyance of the substrates, and also performs elevation control over the boat to carry out the conveying operation of the substrate reloading machine and the elevating operation of the boat in parallel.例文帳に追加

縦型処理炉１８と、基板１０を水平姿勢で複数枚保持し、前記縦型処理炉に収納可能なボート２３と、該ボートを前記縦型処理炉に装脱可能に昇降させるボートエレベータ２１と、前記ボートに対して基板の装填、払出しを行う基板移載機２２と、前記ボートエレベータと前記基板移載機の作動を制御する制御装置２６とを具備し、該制御装置は前記基板移載機について前記ボートに対する装填と払出しの制御と、基板の搬送の制御とを行い、又前記ボートについて昇降制御を行い、前記基板移載機の搬送作動と前記ボートの昇降作動を並行して行わせる。 - 特許庁

The mist scattering preventive member is provided so that the height of the surface is lower by ≥0.1 mm than the surface height of the substrate when the substrate is held by the substrate holding member and is higher by ≥0.1 mm than the surface height of the substrate holding member and its surface is made in parallel to the surface of the substrate.例文帳に追加

光ディスクの基板上に形成した記録膜上にスピンコート方式により保護膜を塗布する光ディスクの保護膜塗布用スピンコータにおいて、基板の外径と同等の外形を有する基板保持部材と、基板の外径よりも０．２ｍｍ以上大きな内径と基板の外径よりも１０ｍｍ以上大きな外径を有する環状のミスト飛散防止部材とを含み、ミスト飛散防止部材を、その表面が基板保持部材に基板を保持した時の基板表面高さよりも、０．１ｍｍ以上低く、基板保持部材の表面高さよりも０．１ｍｍ以上高く、かつ、基板表面と平行となるように設けたことを特徴とする光ディスクの保護膜塗布用スピンコータ。 - 特許庁

Faced with the urgent task of realizing the so-called "nation built on intellectual property" by strongly promoting the creation, protection and exploitation of intellectual property from the standpoint of strengthening industrial competitiveness, thereby shifting to an economy with high value added and seeking sustained development of the national economy and culture, the Japanese government since 2002 worked out the "Intellectual Property Policy Outline"54 and the "Strategic Program for the Creation, Protection and Exploitation of Intellectual Property55 (hereinafter referred to simply as the "Strategic Program for Intellectual Property") with the aim of realizing a "nation built on intellectual property," and, based on these, it is pushing for a variety of systemic reforms in parallel as well as rapidly.例文帳に追加

評価産業競争力強化の観点から、知的財産の創造・保護・活用を強力に促進することによって、高付加価値経済への転換を図り、経済及び文化の持続的発展を目指す、いわゆる「知的財産立国」を実現することが喫緊の課題になっていることから、政府でも、2002年以降、「知的財産立国」の実現を目指し、「知的財産戦略大綱」54及び「知的財産の創造、保護及び活用に関する推進計画」55（以下、単に「知的財産推進計画」とする）が取りまとめられ、これらに基づき、各種の制度改革が並行的、かつ、急速に進められている。 - 経済産業省

All drawings must be made with the pen or by a photolithographic process which will give them satisfactory reproduction characteristics. Every line and letter (signatures included) must be absolutely black. This direction applies to all lines, however fine, to shading and to lines representing cut surfaces in sectional views. All lines must be clean, sharp, and solid, and they must not be too fine or crowded. Surface shading, when used, should be open. Sectional shading should be made by oblique parallel lines, which may be about 0.3 cm apart. Solid black should not be used for sectional or surface shading. Freehand work should be avoided whenever possible.例文帳に追加

すべての図面は，複製が十分なものとなり得るように，ペン書又は写真平版法により作成しなければならない。すべての線及び文字(署名を含む)は，黒色でなければならない。この指示は，すべての線(きわめて細いものを含む)，陰影及び断面図の切断面を示す線に適用される。すべての線は，整った，鮮明かつ均質な線でなければならず，また，細過ぎたり詰まり過ぎたりしてはならない。面に陰影を施すときは，陰影部の輪郭に縁取り線を施さない。断面の陰影は，約0.3cm間隔の平行斜線で作成する。断面又は表面の陰影は，黒く塗りつぶしてはならない。フリーハンドの図面は，可能な限り避ける。 - 特許庁

1. Said lamp units shall be installed in such a location as an edge of a turning area and where a turning radius can be indicated, and a location where 3 units shall be installed with equal spacing of 5 meters on a straight line passing the turning start point (which refers to a point where an aircraft start to turn along its turning path;) and parallel to the runway centerline, and further 3 units shall be installed with equal spacing of 5 meters on a straight line passing the turning start point and intersecting the runway centerline and from the intersection with the left side shoulder outer edge as seen from an aircraft intending to turn and from approximately 1 meter toward outside of the shoulder. 例文帳に追加

（一）　灯器は、転回区域の縁であつて転回経路を示すことができる位置に設置し、並びに転回開始位置（航空機が転回経路において転回を開始する位置をいう。以下同じ。）を通り滑走路中心線に平行な直線上で転回開始位置から進入区域側へ約三十五メートルの位置から進入区域側へ五メートルの等間隔に三個及び転回開始位置を通り滑走路中心線と直交する直線上で当該直線と転回しようとする航空機から見て左側のショルダーの外縁との交点からショルダーの外側へ約一メートルの位置からショルダーの外側へ五メートルの等間隔に三個設置すること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Here, the maximum value of an absolute value of primary differential for a part of the protrusion 7 which represents a surface opposite to the light source among functions representing a cross-section shape of the protrusion 7, in the advancing direction of light as well as parallel to the normal direction of the emerging light control plate, is 1 to 3.例文帳に追加

光源２と、リフレクタ８と、リフレクタ８で反射された光源からの光が少なくとも一つの端面１から入射される導光体３と、出射面からの光を出射面の正面方向に向かわせるための、少なくとも一部に曲面を有する複数の凸部７が導光体３と対向する面に設けられた出射光制御板４とを備え、該出射光制御板４が該凸部７の頂部で導光体３の出射面と密着してなる面光源素子において、該凸部７の、光の進行方向および出射光制御板の法線方向に平行な、該凸部７の断面形状を表す関数のうち光源とは反対側の面を表す部分の１次微分の絶対値の最大値が１以上３以下であることを特徴とする。 - 特許庁

c. The anode light intensity of each lamp unit shall be such that within a cone comprising a boundary plane between the upper and lower layers of the anode light and the light source center and an axis formed by a cross-line of a vertical plane parallel to the runway centerline and the light source center as the apex with apical angle against the light source of 4 degrees, the lower layer shall be 15,000 candela or more and the upper layer shall be 2 times to 6.5 times of the intensity of the lower layer; and within a space corresponding to the locus in the case of a cone with said cross-line as an axis and the apex with an apical angle of 7 degrees is allowed to rotate around the apex for 4.5 degrees toward left and right along the boundary plane between the upper and lower layers of the anode light, the lower layer shall be 4,000 candela or more and the upper layer shall be 2 times to 6.5 times of the intensity of the lower layer. 例文帳に追加

ｃ　各灯器の光柱光度は、光柱の上層と下層との境界面と光源の中心を含み滑走路中心線に平行な鉛直面の交線を軸とし光源の中心を頂点とする頂角が四度である円錐内では、下層が一万五千カンデラ以上で上層が下層の光度の二倍以上六・五倍以下であり、かつ、当該交線を軸とし光源の中心を頂点とする頂角が七度である円錐を、光柱の上層と下層との境界面に沿つて当該頂点を支点として左右にそれぞれ四・五度回転させた場合における軌跡に相当する空間内では、下層が四千カンデラ以上で上層が下層の光度の二倍以上六・五倍以下であること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

c. The anode light intensity of each lamp unit shall be such that within a cone comprising a boundary plane between the upper and lower layers of the anode light and the light source center and an axis formed by a cross-line of a vertical plane parallel to the runway centerline and the light source center as the apex with apical angle against the light source of 4 degrees, the lower layer shall be 5,000 candela or more and the upper layer shall be 2 times to 6.5 times of the intensity of the lower layer; and within a space corresponding to the locus in the case of a cone with said cross-line as an axis and the apex with an apical angle of 7 degrees is allowed to rotate around the apex for 4.5 degrees toward left and right along the boundary plane between the upper and lower layers of the anode light, the lower layer shall be 1,500 candela or more and the upper layer shall be 2 times to 6.5 times of the intensity of lower layer. 例文帳に追加

ｃ　各灯器の光柱光度は、光柱の上層と下層との境界面と光源の中心を含み滑走路中心線に平行な鉛直面の交線を軸とし光源の中心を頂点とする頂角が四度である円錐内では、下層が五千カンデラ以上で上層が下層の光度の二倍以上六・五倍以下であり、かつ、当該交線を軸とし光源の中心を頂点とする頂角が七度である円錐を、光柱の上層と下層との境界面に沿つて当該頂点を支点として左右にそれぞれ四・五度回転させた場合における軌跡に相当する空間内では、下層が千五百カンデラ以上で上層が下層の光度の二倍以上六・五倍以下であること。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In the method for driving the plasma display panel, a plurality of first electrodes and second electrodes are arranged parallel to each other adjacently, a plurality of third electrodes are arranged to cross the first and second electrodes.例文帳に追加

並行する第１および第２の電極が互いに隣接して複数配置されると共に、該第１および第２の電極に交差するように第３の電極が複数配置されてなるプラズマディスプレイパネルの駆動方法において、各第２の電極と、該各第２の電極に隣接する一方の各第１の電極との間の放電により表示を行う第１フィールドと、各第２の電極と、該各第２の電極に隣接する他方の各第１の電極との間の放電により表示を行う第２フィールドとを、時間的に分離してなり、該第１および第２フィールドは、それぞれ前フィールド終了時に残留する壁電荷を消去するための放電を行うフィールドリセット期間と、複数のサブフィールドとを有し、該複数のサブフィールドの各々は、リセット期間と、アドレス期間と、維持放電期間とを含むように駆動する。 - 特許庁

In an optical pick-up, a laser beam L that is emitted from a semiconductor laser element 1 is converted into parallel light by a collimator lens 3 and is applied to an objective lens 4, a light spot is formed on an optical disk reading surface, and the reflection light of the light spot is received by a photosensor 6 for reproducing information on the optical disk.例文帳に追加

半導体レーザ素子１より射出されたレーザ光Ｌをコリメータレンズ３で平行光に変換して対物レンズ４に入射し、光スポットを光ディスク読み取り面に形成して、この光スポットの反射光を受光センサ６により受光することにより前記光ディスク上の情報を再生する光ピックアップにおいて、前記半導体レーザ素子の出射端面と前記光ディスクとの間の光路長が、式［半導体レーザ素子の実効共振器長×ｍ（ｍは整数）×（１＋０．５）］で与えられる長さの場合であって、前記光路長が前記半導体レーザ素子の共振器長の誤差に起因して、式［実効共振器長×（Ｎ±０．２５）（Ｎは正数）］で与えられる範囲内の長さになるときは、屈折率が１以上の光路長補正光学素子１１をコリメータレンズ３と対物レンズ４との間の光路中に介在させる。 - 特許庁