「pattern- less」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To manufacture a multilayer wiring board having a fine wiring pattern pitch which is 10 μm or less at a high yield and low cost, and to provide a thin-film flip-chip semiconductor device which is advantageous on electrical characteristics by preventing multilayering from being forced more than is necessary.例文帳に追加

１０μｍ以下の微細な配線パターンピッチの多層配線基板を高歩留、低コストで製造することができ、かつ必要以上に多層化を強いられず電気特性上有利な薄膜のフリップチップ型半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When detecting that a count switch for detecting an entry to the big winning port is turned on while the value of a special pattern process flag is less than 5 (while a big winning game is not performed), a microcomputer for game control transmits an abnormal winning reporting specifying command.例文帳に追加

遊技制御用マイクロコンピュータは、特別図柄プロセスフラグの値が５未満であるとき（大当り遊技が行われていないとき）に、大入賞口への入賞を検出するカウントスイッチがオンしたことを検知すると、異常入賞報知指定コマンドを送信する。 - 特許庁

To provide a multilevel gradation photomask to be used for manufacturing a TFT substrate or the like, wherein even when fluctuation in the residual film thickness of a resist exposed through a transflective part is adjusted by a photoirradiation amount, less influence is given to the pattern in another part.例文帳に追加

ＴＦＴ基板等の製造に用いられる多階調フォトマスクにおいて、半透光部を介して露光されたレジストの残膜厚のバラつきを光照射量で調整しても、他の部分のパターンに影響の少ないものを提供することを課題とする。 - 特許庁

The pattern forming method includes: forming a resist layer composed of an oxonol-based dye on a substrate; scanning a laser beam to the formed resist layer at a scanning speed of 1 m/s or more and 30 m/s or less; and developing the resist layer scanned by the laser beam with a developer containing alcohol as a main component.例文帳に追加

基板上に、オキソノール系色素からなるレジスト層を形成し、形成されたレジスト層上に走査速度１ｍ／ｓ以上３０ｍ／ｓ以下でレーザー光を走査し、レーザー光が走査されたレジスト層を、アルコールを主成分とする現像液で現像する。 - 特許庁

To provide a tip apparatus for an airless spray, particularly a tip apparatus for an air less spray in which the atomized pattern of a sprayed coating material or the like is made hollow corn like.例文帳に追加

ホロコーン型のエアレススプレイ用先端装置に、逆吹きを行って固形物等を除去できる機構を備えようとすると、スワール溝が形成された部品を回転可能な筒体に組み込まなければならず、部品点数だけでなく、組み付け工程も増えてしまうことになる。 - 特許庁

In the photomask, a stripe part S1 of the light-shielding pattern, having a small window width is affected less by flare light, so that the hollow size of side surface 11A of a protrusion part 11 of a transparent substrate 1 is enlarged, and thereby the canceling due to interference of oblique incident light is reduced.例文帳に追加

このフォトマスクによれば、窓幅が小さい遮光パターンのストライプ部Ｓ１では、フレア光の影響が小さいから、透明基板１の凸部１１の側面１１Ａが窪んでいる寸法を大きくすることによって、斜め入射光の干渉による打ち消し合いを少なくする。 - 特許庁

A dispersion liquid composed of oxide particles, and a dispersion medium comprising water as a principal constituent is treated by heating under a hydrothermal condition to obtain oxide particles having maximum peak intensity of not less than 1.2 times by the heat treatment when the diffraction pattern of the oxide particles is measured with an X-ray diffractometer.例文帳に追加

酸化物粒子と主成分が水である分散媒とからなる分散液に、水熱条件下で加熱処理を施し、Ｘ線回折装置で酸化物粒子の回折パターンを測定したときに、最強ピークの強度が、加熱処理により１．２倍以上大きい酸化物粒子を得る。 - 特許庁

The mating mark for the semiconductor device comprises a recess 38 provided on an insulating layer 80, a conductive layer 32 embedded into the recess 38, and an oxidation barrier layer 42 provided on the conductive layer 32 while the area occupancy of the recess 38 in a plane pattern is not less than 5%.例文帳に追加

本発明の半導体装置の合わせマークは、絶縁層８０に設けられた凹部３８と、凹部３８に埋め込まれた導電層３２と、導電層３２上に設けられた酸化バリア層４２と、を含み、平面パターンにおける凹部３８の面積占有率が５％以上である。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer for protective film, capable of producing the protective film having less content of a solvent having compatibility with a resist, without developing interaction with the resist on its application and enabling to obtain a good pattern profile of the resist.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストとの親和性を有する溶媒の含有量が少なく、塗布時のレジストへの相互作用を起こさず、レジストの良好なパターンプロファイルを得ることを可能とする保護膜を形成できる保護膜形成用重合体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To solve the problem that almost no reaction mechanisms of the corresponding densified organic recording medium with quantum beams have been made clear though light used for photomemory on a recording medium is anticipated to be densified up to the region of quantum beams having a wavelength of a pattern size or less.例文帳に追加

記録媒体への光メモリーに用いられる光は、その波長がパターンサイズ以下の量子ビームの領域にまで高密度化されることが予想されるが、これに対応する高密度化された有機記録媒体の量子ビームとの反応機構はほとんど解明されていない。 - 特許庁

The beams of diffused light radiated from the light emitting element 41 are converged by the first lens 42, to reduce the diameter of a beam spot 70 projected on the recording paper 2 to less than the length and width of the individual elements constituting a print deviating detecting pattern.例文帳に追加

発光素子４１から出射された拡散光を第１のレンズ４２によって集束させることにより、記録紙２の上に投射させるビームスポット７０の直径を印字ずれ検出パターンを構成する個々の要素の長さ寸法及び幅寸法より小さくする。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material to be supplied in a roll which has less partial variations in performance of an electromagnetic wave shield and has stable performance, even if the lateral width dimension of a wound roll of a mesh pattern has a large width of about 600-1,600 mm in photographic silver-plating method, and also to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

写真銀−メッキ法において、メッシュパターンのロール巻取り横幅寸法が約６００ｍｍ〜１６００ｍｍと幅広であっても、電磁波シールドの性能の部分的なばらつきが少なく性能の安定した、ロールで供給される電磁波シールド材及びその製造方法の提供。 - 特許庁

In the image developing process of the dry film resist, a non-crosslinked part of the resist pattern is crosslinked by ultraviolet rays, electron beam or chrome while still wet with water, therefore the build-up printed circuit board having the aspect ratio of 2.5 or more and a wiring layer with the conductor wiring pitch of 20 μm or less is manufactured.例文帳に追加

ドライフィルムレジストの現像工程にて、水洗水で濡れたままの状態で、該レジストパターンの未架橋部を、紫外線や電子線、クロムにて架橋させることにより、アスペクト比が２．５以上でかつ、導体配線ピッチ２０μｍ以下の配線層を有するビルドアッププリント基板を製造する。 - 特許庁

When determining not to control a game into a big win state, this game machine regulates the total number of the number of times to execute the re-variation in a variation pattern of a pseudo consecutive performance and the number of times to execute a variable display where a consecutive forenotice is executed, to less than a predetermined number of times (S566-S570).例文帳に追加

大当り遊技状態に制御されないと判定されたときに、擬似連の変動パターンにおける再変動の実行回数、および、連続予告が行なわれる変動表示の実行回数の合計回数が所定回数未満となるように規制する（Ｓ５６６〜Ｓ５７０）。 - 特許庁

To provide a polymerizable imide monomer excellent in adhesiveness to a substrate, photocurability, and heat resistance after being cured, and less in film shrinkage after hot curing, and to provide a method for production thereof, a photocuring composition, a pattern production method using the composition and an electronic component.例文帳に追加

基材に対する接着性に優れると共に、光硬化性及び硬化後の耐熱性に優れ、また熱硬化後における塗膜収縮の小さい重合性イミド単量体、その製造法及び光硬化性組成物、これを用いたパターンの製造法並びに電子部品を提供する。 - 特許庁

Embossing process is carried out by passing a water-soluble film between an embossed roll marked with uneven shape having satin patterns and a back up roll to form the satin patterns with the surface roughness (Ra) 0.1-8 μm and the uneven pattern with less than 100 meshes and 50-300 μm deep.例文帳に追加

梨地模様をもつ凹凸形状が刻印されたエンボスロールとバックアップロールの間に水溶性フィルムを通過させてエンボス加工を行い、該フィルム面に表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜８μｍの梨地模様と１００メッシュ以下で深さが５０〜３００μｍの凹凸模様とを形成させる。 - 特許庁

Code patterns are registered in a code book storage part 604 beforehand by sorting them in order of power, and a fixed parameter presenting a size of code pattern selection range (a value recordable by an analog flash memory 603 or less) and a fluctuation parameter presenting an offset value from the code book starting end in the selection range are prepared.例文帳に追加

コードブック格納部６０４にコードパタンをパワー順にソートして登録しておき、コードパタンの選択範囲の大きさ（アナログフラッシュメモリ６０３で記録できる値以下）を示す固定パラメータと、この選択範囲のコードブック始端からのオフセット量を示す変動パラメータを用意する。 - 特許庁

In the tape carrier 1 for the TAB, a conductor pattern 7 in which the pitches of each wiring 8 are 60 μm or less, and reinforcing layers 4 arranged at both side edges in the cross direction of insulating layers 2 and composed of a stainless foil along the longitudinal direction of the insulating layers 2 are formed on the surfaces of the insulating layers 2.例文帳に追加

ＴＡＢ用テープキャリア１において、絶縁層２の表面に、各配線８のピッチが６０μｍ以下の導体パターン７と、絶縁層２の幅方向両側縁部に配置され、絶縁層２の長手方向に沿うステンレス箔からなる補強層４とを形成する。 - 特許庁

The supporting device to be formed of less materials in reliable procedures has the following sheet metal layer region: namely, the region includes at least one embossed meandering supporting bead embossed to be thicker without encircling both gasket holes to be sealed completely or almost completely or a two-dimensional pattern of a cup recessed portion and a relating boss portion.例文帳に追加

即ち、エンボス加工により厚くした、完全に又はほぼ完全にシールすべき本ガスケットの孔のいずれも包囲しない、少なくとも１つのエンボス加工された蛇行形状の支持ビード、又は、カップ状凹部の２次元パターン及び関連する隆起部を有する領域である。 - 特許庁

The number of lines in a background pattern contained in a document image read from a document (S2) is detected (S3), it is determined (S4) whether the detected number of lines is the specified number of lines (less than 65) and in accordance with determination results, copying is permitted (S5) or restricted (S6).例文帳に追加

原稿から読み取られた（Ｓ２）原稿画像に含まれた地紋パターンの線数を検出して（Ｓ３），その検出された線数が既定の線数（６５線未満）であるか否かを判断し（Ｓ４），その判断結果により前記原稿についての複写を許可（Ｓ５）或いは制限（Ｓ６）する。 - 特許庁

This golf ball includes a combination of low CoR core and cover materials coupled with a less aerodynamic dimple pattern that achieves a eduction in carry and overall distance of 15 and 25 yards versus a conventional golf ball, while still providing the look, sound, feed and apparent flight of a conventional golf ball.例文帳に追加

ゴルフボールは、低ＣｏＲのコアおよびカバー材料の組み合わせに、通常のゴルフボールに較べてキャリーおよび総合距離が１５および２５ヤード短いが、見た目、サウンド、フィーリングおよび飛行外観は通常のゴルフボールのままになるようにする低空力ディンプルパターンを結合する。 - 特許庁

Surface shape precision is also enhanced in macroscopic view of the lens OL, by bringing the injection rate into 30 cm^3/sec or less, while filling an inside of the cavity CV moderately to prevent a transfer rate of the diffraction pattern FP from getting low ununiformly.例文帳に追加

また、射出率を３０ｃｍ^３／ｓｅｃ以下とすることで、キャビティＣＶ内を緩やかに充填して回折パターンＦＰの転写率が不均一に低下することを防止しつつ、レンズＯＬを巨視的に見た場合の表面形状精度を向上させることができる。 - 特許庁

In the gravure coating apparatus 10 provided with a gravure roller 12 for coating a lower surface of a traveling band-like flexible support 16 with a coating liquid, the runnout in radial direction at no loading is set to 15 μm or less at all positions of a pattern part formed with a cell on a surface of the gravure roller.例文帳に追加

走行する帯状可撓性の支持体１６の下面に塗布液を塗布するグラビアローラ１２を備えるグラビア塗工装置１０において、グラビアローラ表面におけるセルが形成されているパターン部の全ての箇所において、無負荷時の半径方向の振れ量を１５μｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a magnetic one-component toner excellent in image density and resolution, capable of obtaining sufficient image density even in an environment at high temperature and high humidity as well as at low temperature and low humidity, and less liable to cause image density unevenness of a ripple pattern due to uneven transport and charge on a sleeve in a recycled cartridge.例文帳に追加

画像濃度、解像度に優れ、低温低湿下のみならず、高温高湿下においても十分な画像濃度を得ることができると共に、リサイクルカートリッジにおいて、スリーブ上における搬送帯電ムラによるさざ波模様の画像濃度ムラが生じにくい磁性一成分トナーを提供する。 - 特許庁

Then it is decided that the partial image can be outputted as characters when the difference between the extracted features quantity and the that of a standard character that a recognition control part 111 has is minimum and less than a threshold, and then its character code are outputted, and an image data conversion part 110 generates a character pattern.例文帳に追加

そして、この特徴量と認識制御部１１１が有する標準文字の特徴量との差が一番小さくなったときであって、その差は閾値未満の場合に、その部分画像は文字として判定し、その文字コードを出力し、イメージデータ変換部１１０が文字パターンを発生する。 - 特許庁

In the generator for a color correction table to correct a color of an image output device of this invention, first and image output device 30 generates a pattern with a plurality of gradations with respect to number of colors less than element colors used by the image output device.例文帳に追加

本発明による画像出力装置の色補正を行なうための色補正テーブルの生成装置によれば、まず、画像出力装置３０によって、前記画像出力装置の使用する要素色よりも少ない色数に対して、複数階調のパターンが生成される。 - 特許庁

To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two-layer resist system.例文帳に追加

高感度であり、０．２μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するフォトレジストを与え、しかも二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

HV-ECU performs a program comprising a step (S100) detecting the number of motor rotations and a motor temperature, a step (S102) reading a map and setting a restriction pattern, and a step (S106) for restricting a torque command value when the motor temperature is not less than a load factor deterioration start temperature (YES in S104).例文帳に追加

ＨＶ−ＥＣＵは、モータ回転数とモータ温度とを検出ステップ（Ｓ１００）と、マップを読み出して制限パターンを設定するステップ（Ｓ１０２）と、モータ温度が負荷率低下開始温度以上であると（Ｓ１０４にてＹＥＳ）、トルク指令値を制限するステップ（Ｓ１０６）とを含む、プログラムを実行する。 - 特許庁

A difference |L1-L2| between dimensions L1 and L2 on both sides by sandwiching the center line C of the dynamic pressure grooves 3a and 3b is set to 1% or less of the total length (L1+L2), so as to restrain generation of the shaft directional flow of the lubricating fluid caused by shaft directional asymmetry of herringbone pattern.例文帳に追加

動圧溝３ａ（３ｂ）の中心線Ｃを挟んでその両側の寸法Ｌ_1とＬ_2 の差｜Ｌ_1 −Ｌ_2 ｜を、その全長（Ｌ_1 ＋Ｌ_2 ）の１％以下とすることにより、ヘリングボーンパターンの軸方向への非対称性に起因する潤滑流体の軸方向への流れの発生を抑制する。 - 特許庁

A conductor pattern 7 set at a pitch IP of respective inner leads 9 to 60μm or less is formed on a front surface of an insulating layer 2 of the tape carrier 1 for the tape automated bonding, and a reinforcing layer 4 made of a stainless steel foil is formed along a longitudinal direction at both lateral side edges of the layer 2 on its rear surface.例文帳に追加

ＴＡＢ用テープキャリア１の絶縁層２の表面に、各インナリード９のピッチＩＰが６０μｍ以下に設定されている導体パターン７を形成し、その裏面に、ステンレス箔からなる補強層４を、絶縁層２の幅方向両側縁部において長手方向に沿って形成する。 - 特許庁

A quasi multi-gradation forming section 2 is provided to output, as the output data D2, the higher n bits of data D1, obtained by adding a noise pattern to the higher n bit data of input m-bit signals D0 with respect to an integer m which is equal to or larger than 9, and n which is larger than 8 and less than m.例文帳に追加

９以上の整数ｍおよび８以上ｍ未満の整数ｎに対し、ｍビットの入力信号Ｄ０の上位ｎビットデータにノイズパターンを付加して得られるデータＤ１の上位ｎビットを出力データＤ２として出力する、擬似多階調化部２を設ける。 - 特許庁

The length La of parts of the line patterns 121 in contact with the surface of the current collector layer 11 in a longer direction Y of the line pattern 121 is not less than four times as large as the width Da of parts of the line patterns 121 in contact with the surface of the current collector layer 11 in a direction X of the width.例文帳に追加

しかも、ライン状パターン１２１の長手方向Ｙにおいて集電体層１１表面と接するライン状パターン１２１の長さ寸法Ｌaが、幅方向Ｘにおいて集電体層１１表面と接するライン状パターン１２１の幅寸法Ｄaの４倍以上となっている。 - 特許庁

To provide a substrate processing method with less damage such as a pattern peel-off when performing a processing of removing a residual substance such as a sacrifice film after etching a film to be etched, by solubilizing this residual substance in a prescribed liquid and subsequently removing the residual substance by this prescribed liquid.例文帳に追加

被エッチン膜をエッチング後、犠牲膜等の残存物質を除去する処理を、その残存物質を所定の液に可溶化し、次いで、その所定の液により残存物質を除去することで行う際に、パターンはがれ等のダメージが少ない基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnesium alloy plate polishing method in which any polish burn is hardly formed on a surface of a magnesium alloy plate, and any stripe pattern is less conspicuous when the surface of the magnesium alloy plate is subjected to the wet polishing to be smooth, and a magnesium alloy plate produced by the polishing method.例文帳に追加

マグネシウム合金板の表面を平滑に湿式研磨した場合に、その表面に研磨焼けが生じにくく、縞模様が目立たないようにすることができるマグネシウム合金板の研磨方法およびその研磨方法によって作製されたマグネシウム合金板を提供する。 - 特許庁

When detecting that a count switch 23 for detecting an entry to the big winning port is turned on while the value of a special pattern process flag is less than 4 (while a big winning game is not performed), a microcomputer 560 for game control transmits an abnormal winning reporting specifying command.例文帳に追加

遊技制御用マイクロコンピュータ５６０は、特別図柄プロセスフラグの値が４未満であるとき（大当り遊技が行われていないとき）に、大入賞口への入賞を検出するカウントスイッチ２３がオンしたことを検知すると、異常入賞報知指定コマンドを送信する。 - 特許庁

To solve the problem that word line and data line ends are short-circuited or broken at boundary parts between a memory array and a sub-word driver or a sense amplifier due to interference of diffracted light generated at a pattern end part when a fine word line and a data line having a line width less than a wavelength are patterned in a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決する。 - 特許庁

To improve the transfer efficiency of multi-value data by solving the problem that a pseudo contour is generated due to a specific dot pattern, in recording an image using dots corresponding to each of N-values by combinations of the dots of i×j pixels (i, j being a value of power of 2, not less than 2).例文帳に追加

ｉ×ｊ画素（ｉ・ｊは２以上の２のべき乗）のドットの組合せでＮ値の夫々に対応したドットを用いて記録を行う際に、特定のドットパターンによって擬似輪郭が発生するという問題を解決し、多値データの転送効率を向上させる。 - 特許庁

To obtain a wall covering material that emits no poisonous gas in combustion like vinyl wallpaper, diffuses no volatile organic compound after application, has an uneven pattern being soft, having a volume feeling and less liable to cause loss in shape and has excellent embossing processability, workability and fire resistant properties.例文帳に追加

ビニル壁紙のように燃焼時に有害ガスの発生がなく、施工後に揮発性有機 化合物の放散がない壁装材であって、ソフトでボリューム感がありしかも型崩れ が生じにくい凹凸模様を有し、エンボス加工性や施工性、更には防火性の優れた 壁装材を提供することにある。 - 特許庁

A short run shift command generating device outputs a constant acceleration terminal timing signal to the time series speed pattern generating device when a remaining travel distance to the predetermined stop position of the car becomes less than a car stoppable distance before the car speed becomes the constant speed.例文帳に追加

そして、ショートラン移行指令発生装置は、かご速度が一定速度になる前に、かごの停止予定位置までの走行残存距離がかごの停止可能距離以下になったときに、時系列速度パターン発生装置に一定加速終了タイミング信号を出力する。 - 特許庁

In this case, during the period from the reception of a varying pattern command to the reception of the reservation memory counts subtraction designation command, it is determined whether the performance for successive advance notices should be executed on the basis of the determination that the reservation memory counts are less by one than the counts added by the reservation memory counts addition designation command.例文帳に追加

ただし、変動パターンコマンドを受信してから保留記憶数減算指定コマンドを受信するまでの期間、その保留記憶数加算指定コマンドによって加算された数よりも保留記憶数が１つ少ないと判断して連続予告演出を実行するか否かを決定する。 - 特許庁

The size of a crystallite measured by a Hall method from the integration width of each diffraction peak acquired from an X-ray diffraction pattern is larger than 600 Å and less than 800 Å in the cathode active substance for the lithium secondary battery.例文帳に追加

前記正極活物質において、Ｘ線回折パタ−ンから得られる各回折ピ−クの積分幅からＨａｌｌ法によって測定した結晶子の大きさが600Åより大きく、800Å未満であることを特徴とするリチウム二次電池用正極活物質である。 - 特許庁

A process used for Homongi that results in a type of kimono that differs greatly from Tsukesage (simpler, less formal kimono), eba is performed by the following steps: first, craftsmen cut the material into panels in accordance with the measurements; next, they sew the panels together to make the initial kimono; after that, they draw a pattern on the initial kimono that continues beyond its seams; next, they remove the stitches from the initial kimono to break it down into the original panels again; after that, they dye each panel; and finally, they sew them together again. 例文帳に追加

これは最初に生地を採寸通りに裁断して仮縫いし、着物として仕立てた時点でおかしくならないよう絵を描いた後、再びほどいて染色作業をするもので、これが付け下げとの最大の違いである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A signal reading a character and a pattern, which are not bar codes, is removed by judging whether information of a white bar or a black bar are the bar codes or not with calculation quantity which is less than that when decoding is tried by using information of an extremum in the respective bars of the bar code just before black/white discrimination or decoding.例文帳に追加

白黒判別時若しくはデコード直前に、バーコードの各バーにおける極値の情報を用いて、デコードを試みるよりも少ない計算量で白バー及び黒バーの情報がバーコードであるかどうかを判断することにより、バーコードでない文字や模様を読み取った信号を除去する。 - 特許庁

As for the CuKα-ray diffraction pattern of a negative electrode material, the peak intensity ratio of a peak A corresponding to a tin element existing in a region of 31.5-32.5 degree, to a peak B corresponding to Cu_6Sn_5 existing in a region of 29.5-30.5 degree (A/B) is 0.2 or less.例文帳に追加

ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンにおいて、３１．５〜３２．５度の領域内に表れる錫単体に対応するピークＡと、２９．５〜３０．５度の領域内に表れるＣｕ_６Ｓｎ_５に対応するピークＢとのピーク強度比（Ａ／Ｂ）が０．２以下であることを特徴としている。 - 特許庁

A reach (li-zhi) count value memorized at the foremost part in a parameter memory area is set as a reach counter value in a second missing reach type table till a fluctuation number of times of a fluctuation pattern after starting or completion of a special prize till generation of the next special prize is 100 or less (S51: NO-S52).例文帳に追加

起動後又は「大当たり」終了後次回の「大当たり」が発生するまでの変動図柄の変動回数が「１００回以下」までは、パラメータ記憶エリア２７Ｆに最先に記憶された「リーチカウント値」を第２ハズレリーチタイプテーブル４３の「リーチカウンタの値」とする（Ｓ５１：ＮＯ〜Ｓ５２）。 - 特許庁