pl.を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1020件
The second side cover 43 which divides off rotors 35L, 35R of vane pumps PL, PR of right and left comprises a central center plate 37 and a pair of valve plates 38L, 38R which sandwich the both sides of the plate 37, wherein all hydraulic members such as an oil passage, a check valve, an orifice and the like are disposed intensively in the second side cover 32.例文帳に追加
左右のベーンポンプPL,PRのロータ35L,35R間を仕切る第2サイドカバー32を、中央のセンタープレート37と、その両側を挟む一対のバルブプレート38L,38Rとから構成し、この第2サイドカバー32に油路、チェックバルブ、オリフィス等の全ての油圧要素を集中配置する。 - 特許庁
An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are arranged so that the detection of the alignment information on the other substrate W2 (W1) can be performed in parallel when exposing a mask pattern on one substrate W1 (W2) out of substrates retained side by side on a substrate stage ST.例文帳に追加
基板ステージSTに並べて保持された一方の基板W1(W2)にマスクパターンを露光するときに、他方の基板W2(W1)のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系PLと第1および第2のアライメント光学系AA1a,AA1b、AA2a,AA2bを配置する。 - 特許庁
The pattern-determining field (pf) is divided into several domains (D), comprising the apertures configuring a number of zigzag lines (pl); the apertures in domains are mutually offset by the integerfold of the effective widths (w) along the vertical directions to the scanning directions; whereas the offset amounts of the apertures in different domains are each integral fractions of the widths.例文帳に追加
パターン画定フィールド(pf)は、多くのジグザグライン(pl)を成すアパーチャで構成されるいくつかのドメイン(D)に分割され、走査方向に対して垂直な方向に沿って、あるドメインのアパーチャは、実効幅(w)の整数倍だけ互いにオフセットされ、一方、異なったドメインのアパーチャのオフセット量はその幅の整数分数である。 - 特許庁
The face additive average refracting power at an arbitrary point on a lens refracting surface existing at a distance of x (mm) in the horizontal direction from a far sight eye point and existing at y (mm) in a perpendicular direction of the first progressive power lens having the first base curve BCL is defined as ΔPL(x, y) {=PL(x, y)-BCL} (diopter).例文帳に追加
第1ベースカーブBC_Lを有する第1累進多焦点レンズにおいて、遠用アイポイントから水平方向にx(mm)の距離にあり且つ鉛直方向にy(mm)の距離にあるレンズ屈折面上の任意の点における面付加平均屈折力をΔP__L(x,y) {=P_L(x,y) −BC_L}(ディオプター)とする。 - 特許庁
A connection member 6 projecting a connection section 61 equipped with a contact terminal 60 for conducting electricity to the conductor 40 inserted into the terminal of the wiring duct 4 is housed inside a casing 50, while a filter 70 whose one end is connected with a power line PL and whose other end is connected with the contact terminal 60 is housed inside the casing 50.例文帳に追加
配線ダクト4の端部に嵌入され導体40と導通する接触端子60を備えた接続部61を突出する接続部材6をケーシング50内に収納し、一端側が電力線PLに接続されると共に他端側が接触端子60と接続されるフィルタ部70をケーシング50に収納した。 - 特許庁
The blow molding of a chamber molded member is so performed that a blow-molding die parting line PL forming the chamber forming member is positioned at at least either one of a vehicle front surface part 31, the boundary portion between the vehicle front surface part 31 and the other surface, a vehicle rear surface part 32, and a boundary portion between the vehicle rear surface part 32 and the other surface.例文帳に追加
チャンバ形成部材を成形するブロー成形型のパーティングラインPLが、車両前面部31、車両前面部31と他の面との境界部位、車両後面部32、及び、車両後面部32と他の面との境界部位のうち少なくとも何れかに位置するようにブロー成形する。 - 特許庁
On the other hand, to generate an operation clock CK synchronized with the output clock of the FM detecting PLL circuit 8, a PL circuit 9 using 138 MHzVCO is provided, and a signal processing circuit 10 outputs a writing signal in synchronization with the operation clock CK generated by the PLL circuit 9.例文帳に追加
一方FM検波PLL回路8の出力クロックに同期した動作クロックCKを生成するため、138MHzVCOを用いたPLL回路9が設けられ、信号処理回路10はこのPLL回路9により生成される動作クロックCKに同期して書込み信号を出力する。 - 特許庁
The sealing means 16 is furnished with an outer ring 20 and inner ring 25 to make surface contacting in sliding with each other by their abutting surfaces PL approximately parallel with link plates 4 and 6, an O-ring 22 installed on the outer ring 20 and abutting to the outer link plate 4, and another O-ring 28 installed on the inner ring 25 and abutting to the inner link plate 6.例文帳に追加
シール手段16は、リンクプレート4,6に略平行な当接面PLにより互いに摺動自在に面接触するアウターリング20及びインナーリング25と、アウターリング20に設けられ、外リンクプレート4に当接するOリング22と、インナーリング25に設けられ、内リンクプレート6に当接するOリング28と、を備える。 - 特許庁
A saturation temperature TS is calculated from the pressure of the cooling medium PL at a low-pressure side of the outdoor unit measured by a pressure sensor, and the operation of the electronic expansion valve is checked by using the temperature difference TD between the calculated saturation temperature TS and a temperature TE of an indoor heat exchanger detected by a temperature sensor.例文帳に追加
圧力センサで検出される室外ユニットの低圧側の冷媒圧力PLから飽和温度TSを算出し、算出された飽和温度TSと、温度センサで検出される室内熱交換器の温度TEとの温度差TDを用い、電子膨張弁の動作確認を行うようにした。 - 特許庁
The projection optical system PL normally has its imaging performance adjusted, so that hardly an aberration is generated with respect to the wavelength of the exposure beam, so that the position of at least one of the mask and sensitive substrate or the relative positions of the both can be detected in scan exposure with high accuray almost without aberrations by using the exposure beam.例文帳に追加
通常、投影光学系PLは露光光の波長に対して収差が殆どないように結像性能が調整されていることから、走査露光中に露光光を用いて殆ど無収差でマスク及び感応基板の少なくとも一方の位置又は両者の相対位置を高精度に検出することができる。 - 特許庁
A light beam from the front area is converged by a front optical lens Lc, light beams from the left and right areas are converged by left and right 45° rectangular prisms Pl and Pr and left and right optical lenses Ll and Lr, and a light beam from the lower area is converged by a lower 45° rectangular prism Pd and a lower optical lens Ld.例文帳に追加
正面領域からの光は正面光学レンズLcによって集光され、左右領域からの光は左右の45°直角プリズムPl、Prと左右の光学レンズLl、Lrによって集光され、下方領域からの光は下方の45°直角プリズムPdと下方の光学レンズLdによって集光される。 - 特許庁
The voltage control unit 12 controls an output voltage to be constant in accordance with a working voltage, the capacitor C charges or discharges depending on a generated output Pg of the wind power generator G and a selling electric power Pb can be sent out to the commercial electric power system PL through the linkage unit 14.例文帳に追加
電圧制御ユニット12は、キャパシタCの使用電圧に合わせて出力電圧を一定に制御し、キャパシタCは、風力発電機Gの発電電力Pg の変動により充放電し、昇圧ユニット13、連係ユニット14を介して売電電力Pb を商用電力系統PLに送出することができる。 - 特許庁
When stepwise dimming control is performed with the dimmer, if the difference between the present dimming rate PL and the closest 50% dimming rate level of dimming down steps is less than a predetermined value of difference between dimming rates, for example 5%, the dimmer is adjusted to the next rate level of 25%.例文帳に追加
調光装置が段階調光制御を行なう際、現在の調光率PLと調光ダウンする方向で一番近い段階調光率レベル50パーセントとの差が、予め決められた設定調光率差(例えば5パーセント)未満の場合は一段階飛ばした段階調光率レベル25パーセントに調光制御する。 - 特許庁
To provide an antigenic polypeptide sequence of factor VIII, fragments and/or epitopes thereof, for improving the diagnoses and/or treatments of immunological deficiencies including deficiencies induced with factor VIII inhibitors, and inhibitors inhibiting combinations with the von Willebrand factor (vWf) and/or membrane phospholipid (PL) of the factor VIII.例文帳に追加
因子VIII阻害剤ならびに因子VIIIのフォンビルブラント因子(vWf)および/または膜リン脂質(PL)との結合を阻害する阻害剤によって誘導されるものをはじめとする免疫不全の診断および/または治療を改善するための、因子VIIIの抗原ポリペプチド配列、その断片およびエピトープを得ること。 - 特許庁
When the trunnion 35 is displaced by the vibration of an engine output shaft, a spool 203 inside of the control valve 200 is moved by the cam 400 and the lever 402, and the control valve 200 outputs the accelerating pressure PH and the decelerating pressure PL for pushing and returning the displacement of the trunnion 35 to an acceleration chamber 38 and a deceleration chamber 39 of the trunnion 35.例文帳に追加
エンジン出力軸の振動によりトラニオン35が変位すると、上記カム400とレバー402とにより制御弁200内のスプール203が移動して、制御弁200がトラニオン35の変位を押し戻すような増速圧PHと減速圧PLとをトラニオンの増速室38と減速室39とに出力する。 - 特許庁
When a best focus position of an optical system PL is measured during the control, the control unit continues position (Z, θy) control over a table WTB without switching Z heads used for the position (Z, θy) control over the table WTB, and acquires measured values of Z heads 74_i and 76_j in order.例文帳に追加
この制御中に、光学系PLのベストフォーカス位置の計測を行う場合には、制御装置は、テーブルWTBの位置(Z、θy)制御に用いるZヘッドを切り換えることなく、テーブルWTBの位置(Z、θy)制御を続行するとともに、Zヘッド74_i、76_jの計測値を順次取り込む。 - 特許庁
When a first semiconductor light-emitting element 4a of a first light source unit 3 is lit, the emission light is reflected toward a projection lens 2 side by a first reflector 5, then a part of the reflected light is blocked by a shade 6, and a low-beam light distribution pattern PL is formed having a cut-off line CL at an upper end edge.例文帳に追加
第1光源ユニット3の第1半導体発光素子4aを点灯すると、その出射光は第1リフレクタ5により投影レンズ2側に向けて反射され、その反射光の一部がシェード6により遮断されて、上端縁にカットオフラインCLを有するロービーム配光パターンPLが形成される。 - 特許庁
An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are so provided that detection of alignment information for one wafer W2 (W1) is performed in parallel, when the other wafer W1 (W2) which is held side by side on a wafer stage ST is exposed with a mask pattern.例文帳に追加
基板ステージSTに並べて保持された一方の基板W1(W2)にマスクパターンを露光するときに、他方の基板W2(W1)のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系PLと第1および第2のアライメント光学系AA1a,AA1b、AA2a,AA2bを配置する。 - 特許庁
This oil pressure control apparatus has a belt-driven continuously-variable transmission 40, a lockup clutch 26 provided in a torque converter 20, a primary regulator valve 110 that regulates line oil pressure PL that becomes the source pressure of the oil pressure of various parts, and a lockup control valve 140 switched when controlling the engagement or release of the lockup clutch 26 as indicated in Fig.3.例文帳に追加
油圧制御装置は、ベルト式無段変速機40と、トルクコンバータ20に設けられるロックアップクラッチ26と、各部の油圧の元圧となるライン油圧PLを調圧するプライマリレギュレータバルブ110と、ロックアップクラッチ26の係合・解放制御の際に切り換えられるロックアップコントロールバルブ140とを備える。 - 特許庁
Against this backdrop, we all committed to strengthening the CMIM as a part of the regional financial safety net, and unanimously agreed as follows: to double the total size of the CMIM from US$120bn to US$240bn; to increase the IMF de-linked portion to 30% in 2012 with a view to increasing it to 40% in 2014 subject to review should conditions warrant; to lengthen the maturity and supporting period for the IMF linked portion from 90 days to 1 year and from 2 years to 3 years, respectively; and those for the IMF de-linked portion from 90 days to 6 months and from 1 year to 2 years, respectively; to introduce a crisis prevention facility called "CMIM Precautionary Line (CMIM-PL)." 例文帳に追加
このような背景の下、我々は、地域の金融セーフティネットである CMIM の強化にコミットし、全会一致により以下の点に合意。(i) CMIM の資金規模について、現行の 1,200 億ドルから 2,400 億ドルへ倍増(ii) IMF デリンク割合について、2012 年に 30%へ引き上げ、一定の条件のレビューを前提として、2014 年に 40%へ引き上げ(iii) 満期及び最大支援期間について、IMF リンク部分は、各々現行の 90 日から 1年、現行の 2 年から 3 年へ延長。IMF デリンク部分は、各々現行の 90 日から 6か月、現行の 1 年から 2 年へ延長(iv) 危機予防機能(CMIM 予防ライン (CMIM-Precautionary Line (PL))を導入 我々は、サーベイランス、金融セーフティネット及び能力強化の分野において、IMF の関与を継続。 - 財務省
The manufacturing method of an olefinic polymer comprises processing an olefin polymer (PO-X) having as a main constitutional unit a repeat unit originated from at least one kind of the olefins selected from the olefins containing a halogen atom and having 2 to 20 carbon atoms, and a polar polymer (PL-M) containing a dissociable metal atom.例文帳に追加
また、ハロゲン原子を含有する、炭素原子数2〜20のオレフィンから選ばれる少なくとも1種以上のオレフィンに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするオレフィン重合体(PO−X)と、解離性金属原子を含んでなる極性重合体(PL−M)を処理して製造することを特徴とするオレフィン系重合体の製造方法。 - 特許庁
The method includes: the step of separately supplying Zr(BH_4)_4 gas forced to go out by supplying Ar gas to a material tank TK from a massflow controller MFC1, and oxygen atom-containing gas activated by excitation in a microwave plasma source PL to a space on a surface of a substrate S through holes provided in a shower plate 36.例文帳に追加
マスフローコントローラMFC1から原料タンクTKにArガスを供給することによって押し出されたZr(BH_4)_4ガスと、マイクロ波プラズマ源PLで励起することによって活性状態にされた酸素原子を含むガスとを、シャワープレート36に設けられた複数の孔から別々に基板S表面の空間に供給する。 - 特許庁
In model MD6, a fifth moldability detection process determines a moldability surface, that is, fifth moldability M10 by establishing parting line PL dividing a surface in which an undercut is caused by an unmoldability section detection process and which is detected as unmoldability section M8 into cavity direction KH1, core direction KH2, and standard sliding direction KH3.例文帳に追加
モデルMD6では、第5成形可能部検出処理が、成形不能部検出処理によりアンダーカットが発生して成形不能部M8と検出された表面を、キャビティ方向KH1、コア方向KH2及び標準スライド方向KH3とに分けるバーティングラインPLを設定することで成形可能な表面、つまり第5成形可能部M10と判別する。 - 特許庁
The exposure apparatus includes an encoder system on a scale plate 21 covering the moving range of a wafer stage WST1 except the area just below a projection optical system PL, the encoder system measuring positional information for the wafer stage WST1 by emitting measuring beams by use of four heads 60_1-60_4 mounted on the wafer stage WST1.例文帳に追加
露光装置は、投影光学系PL直下の領域を除くウエハステージWST1の移動範囲をカバーするスケール板21に、ウエハステージWST1上に搭載された4つのヘッド60_1〜60_4を用いて計測ビームを照射することによって、ウエハステージWST1の位置情報を計測するエンコーダシステムを備えている。 - 特許庁
A cylindrical elevating ram 65 which is movable vertically and rotatable is arranged below the die holder 47 and an attachment 67 between the elevating ram 65 and the die holder 47 is corresponded to the die D_2 situated on the outer peripheral side tank of the lower turret 13 and the lifter pipe 53 is supported by a projection 67a so that the upper end face of the die D_2 becomes the pass line PL of the workpiece W.例文帳に追加
ダイホルダ47の下方には、上下動かつ回転可能な円筒状の昇降ラム65を配置し、昇降ラム65とダイホルダ47との間のアタッチメント67は、下タレット13の外周側トラックに位置するダイD_2に対応し、凸部67aにより、ダイD_2の上端面がワークWのパスラインPLとなるようリフタパイプ53を支持する。 - 特許庁
In this case, the exposure apparatus EX is equipped with a first liquid immersion mechanism 1, which forms a first liquid immersion region LR1 of first liquid LQ1, between the upper surface 65 of a transparent member 64 provided on the image surface side of the projection optical system PL and a first optical element LS1; and an observation device 60 for observing the state of the first liquid immersion region LR1.例文帳に追加
そして、露光装置EXは、投影光学系PLの像面側に設けられた透明部材64の上面65と第1光学素子LS1との間に第1液体LQ1の第1液浸領域LR1を形成する第1液浸機構1と、第1液浸領域LR1の状態を観察する観察装置60とを備えている。 - 特許庁
When a plurality of conductors 7 aligned nearly in parallel run on a path line PL and the plurality of conductors 7 are pinched from both sides by running insulators 9, 11, laminated and manufactured into a flat cable 3, a flat cable cutting device 1 includes cutting blades 5 to cut end faces of the flat cable 3 in the width direction.例文帳に追加
フラットケーブルの切断装置1は、ほぼ平行に並んだ複数本の導体7がパスラインPL上で走行すると共に、走行する絶縁体9,11で前記複数本の導体7の両側から挟んでラミネートしてフラットケーブル3を製造する際に、前記フラットケーブル3の幅方向の端面を切断する切断刃5を備えている。 - 特許庁
In the ink jet recording method where recording is performed by ejecting ink containing at least fine resin particles, a water soluble dye, water and a water soluble organic solvent toward an ink jet recording medium provided with a layer having an air gap structure on a support, the quantity of ink liquid per single ejecting operation is set in the range of 0.5-3.0 pl (pico liter).例文帳に追加
支持体上に、空隙構造を有する層を設けたインクジェット記録媒体に、少なくとも樹脂微粒子、水溶性染料、水及び水溶性有機溶媒を含有するインクを吐出させて記録するインクジェット記録方法であって、一吐出動作当たりのインク液滴量が0.5〜3.0pl(ピコリットル)であることを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁
The foam molding body 2 has a series of first molding surfaces 2a, 4a, 4b and a second molding surface 4c which cross in a parting line PL, is foam molded with the second molding surface 4b turned upward in the foam molding die 10, and the second molding surface 4c is the surface opposite to the seated person on the seat pad 1.例文帳に追加
発泡成形体2は、パーティングラインPLにおいて交わる一連の第1の成形面2a,4a,4bと第2の成形面4cとを有しており、発泡成形用金型10内において該第2の成形面4bを上向きにして発泡成形されたものであり、該第2の成形面4cがシートパッド1の着座者と反対側の面となっている。 - 特許庁
This switching regulator generates the control pulses PH of voltage higher than the input power voltage which repeats rise and fall quickly, according to the control pulses PL of low voltage, and drives a switching transistor Tr_1 on the final stage, by making use of a comparator 2e and a switch circuit 2f consisting of amplifiers in positive feedback connection in a level shift circuit 2 in itself.例文帳に追加
スイッチングレギュレータのレベルシフト回路2でコンパレータ2eと正帰還接続された増幅器からなるスイッチ回路2fを利用することにより、低い電圧の制御パルスPLに応じて急速に立ち上がりと立ち下がを繰り返す入力電源電圧よりも高い電圧の制御パルスPHを発生し、最終段のスイッチングトランジスタTr1を駆動する。 - 特許庁
The device is equipped with a reagent discharge head 12 capable of discharging respectively a plurality of kinds of reagents in the state of a fine droplet below 10 pl; and a fluorescence detection part 14 for irradiating the excitation light toward the periphery of a position where the reagents are discharged, and receiving and detecting the fluorescence emitted from the liquid sample on the position by an objective lens.例文帳に追加
そして、複数種類の試薬を10pl以下の微細液滴にしてそれぞれ吐出可能な試薬吐出ヘッド12と、試薬が吐出される位置近傍に励起光を照射するとともに当該位置の液状試料から発せられる蛍光を対物レンズで受けて検出する蛍光検出部14とを備えている。 - 特許庁
The oil pressure control device is provided with a belt type continuously variable transmission 40, a lock up clutch 26 provided in a torque converter 20, an oil pressure type forward travel clutch C1 engaged to form power transmission route in travel of a vehicle, and a primary regulator valve 110 regulating the line oil pressure PL which is the source pressure of oil pressures at each part.例文帳に追加
油圧制御装置は、ベルト式無段変速機40と、トルクコンバータ20に設けられるロックアップクラッチ26と、車両の走行に際して動力伝達経路を成立させるために係合させられる油圧式の前進用クラッチC1と、各部の油圧の元圧となるライン油圧PLを調圧するプライマリレギュレータバルブ110とを備える。 - 特許庁
A heavy object carrying apparatus comprises a supporting frame 30 which is formed to mount thereon removal blocks RMa-RMc obtained by cutting a pile PL to be carried, a base frame 10 in which the supporting frame 30 is supported movable vertically by hydraulic cylinders 20 and 20, and casters 12 for moving the base frame 10.例文帳に追加
運搬対象となる杭PLを切断した各撤去ブロックRMa〜cを搭載可能に形成された支持フレーム30と、支持フレーム30を油圧シリンダ20,20により上下に昇降可能に支持するベースフレーム10と、ベースフレーム10を移動させるキャスター12と、を備えていることを特徴とする重量物運搬装置とした。 - 特許庁
This projection aligner EX has a substrate stage PST that moves the substrate P in the optical-axis direction of the projection optical system PL during exposure, and a controlling device CONT that sets at least one of a position in a Z direction on the substrate P and the travel amount for moving the position during exposure for each exposure of the plurality of patterns PA.例文帳に追加
露光装置EXは、露光中に投影光学系PLの光軸方向に基板Pを移動させる基板ステージPSTと、複数のパターンPAのそれぞれの露光毎に、基板PのZ方向の位置と、この位置を露光中に移動させる移動量との少なくとも一方を設定する制御装置CONTとを備えている。 - 特許庁
The exposure apparatus EX, which has an exposure light EL irradiated onto a substrate P, using liquid LQ supplied by a liquid supply mechanism 10 and a projection optical system PL and exposes the substrate P, is provided with a pressure adjusting mechanism 90 that adjusts the pressure of the liquid LQ supplied by the liquid supply mechanism 10.例文帳に追加
露光装置EXは、液体供給機構10から供給された液体LQと投影光学系PLとを介して基板P上に露光光ELを照射して、基板Pを露光するものであって、液体供給機構10から供給された液体LQの圧力を調整する圧力調整機構90を備えている。 - 特許庁
A PL selecting circuit 70R comprises a transistor TE1 which is turned on when a word line WL is selection voltage and supplies a plate line selection signal PS(R) to a plate line LPL(R), and a transistor TE2 which is turned on when the word line WL is non-selection voltage and sets the plate line LPL(R) to a voltage level of GND.例文帳に追加
PL選択回路70Rは、ワード線WLが選択電圧の場合にオンになり、プレート線LPL(R)にプレート線選択信号PS(R)を供給するトランジスタTE1と、ワード線WLが非選択電圧の場合にオンになり、プレート線LPL(R)をGNDの電圧レベルに設定するトランジスタTE2を含む。 - 特許庁
A speed control valve group for controlling hydraulic pressure to be supplied to LOW-5TH clutches comprises three linear solenoid valves, four shift valves and two cut valves for selecting an oil passage to selectively supply line pressure PL or speed control hydraulic pressure to the clutch, and three on-off solenoid valves for controlling the shift valves to be operated.例文帳に追加
LOW〜5THクラッチへの油圧供給制御を行う変速制御バルブ群が、3つのリニアソレノイドバルブと、ライン圧PL若しくは変速制御油圧を選択的にクラッチに供給させるように油路選択を行う4つのシフトバルブ及び2つのカットバルブと、シフトバルブの作動を制御する3つのオン・オフソレノイドバルブから構成される。 - 特許庁
The apparatus comprises a projection optical system PL for projecting a transfer pattern image of a reticle R on a wafer W, an alignment system 22 for measuring the position of either the reticle R or the wafer W to relatively align the reticle R with the wafer W, and an instrument 31 for measuring the wave front aberration of the alignment system 22.例文帳に追加
レチクルRに形成された転写パターン像をウエハWに投影する投影光学系PLと、レチクルRとウエハWとの相対的な位置合わせを行うためにレチクルRとウエハWとの少なくとも一方の位置を計測するアライメント系22と、アライメント系22の波面収差を計測する波面収差計測装置31とを備える。 - 特許庁
The treatment system 101 for the used paper diaper includes a used paper diaper treating device 1 having a stirring separator 10 for stirring and separating the cut used paper diaper D in a treating liquid Q, and a washer 40 for extracting and washing a base material component PL in a regenerating substance P separated by the treating device 1.例文帳に追加
使用済紙おむつの処理システム101は、裁断された使用済紙おむつDを処理用液体Q内で攪拌分離する攪拌分離装置10を有する使用済紙おむつの処理装置1と、処理装置1で分離された再生用物質P中の母材分PLを抽出及び洗浄する洗浄装置40とを備える。 - 特許庁
Moreover, because a light reflection layer 2 has light reflection parts PP on a plurality of prism parts 2a having a saw teeth shape in cross-section, a proper diffusion state can be secured and a bright projection image with uneven brightness or illuminance suppressed can be projected by folding back the projection light PL as the reflection light RL having a desired angle surely diffusing it.例文帳に追加
また、光反射層2が、断面鋸歯状である複数のプリズム部分2aに光反射部PPを有することで、投射光PLを確実に拡散させる所望の角度の反射光RLとして折り返すことで、適度な拡散状態を確保し、輝度又は照度ムラの抑制された明るい投影画像を映し出すことができる。 - 特許庁
This oil pressure control apparatus has a belt-driven continuously variable transmission 40, the lockup clutch 26, an advancing clutch C1 as the frictional engaging element for travel, a primary regulator valve 110 that regulates a line oil pressure PL that becomes a source pressure of oil pressure of various parts, and a lockup control valve 140 switched when controlling engagement/release of the lockup clutch 26.例文帳に追加
油圧制御装置は、ベルト式無段変速機40と、ロックアップクラッチ26と、走行用摩擦係合要素としての前進用クラッチC1と、各部の油圧の元圧となるライン油圧PLを調圧するプライマリレギュレータバルブ110と、ロックアップクラッチ26の係合・解放制御の際に切り換えられるロックアップコントロールバルブ140とを備える。 - 特許庁
The first moving mechanism 30 elevates and lowers the first shutter 20 and second shutter 21 while maintaining a perpendicular posture between in a closing state in which the first shutter 20 closes the opening 17 and the second shutter 21 covers the majority of an upper region 2 AU and in an opening state in which the first shutter 20 and second shutter 21 retract below a path line PL.例文帳に追加
第1移動機構30は、第1シャッタ20および第2シャッタ21を、第1シャッタ20が開口17を閉塞し、第2シャッタ21が上部領域2AUの大部分を覆う閉状態と、第1シャッタ20および第2シャッタ21がパスラインPLよりも下方に退避する開状態との間で、鉛直姿勢を維持させつつ昇降させることができる。 - 特許庁
The vehicle headlight device includes a high beam lamp unit capable of forming a high beam light distribution pattern PH including a region above cut-off lines CL1, CL2, CL3 of a low beam light distribution pattern PL, and having an adjustable optical axis, and a control part for adjusting the optical axis of the high beam lamp unit in accordance with information obtained by a travel environment detecting device.例文帳に追加
ロービーム用配光パターンPLのカットオフラインCL1、CL2、CL3から上方の領域を含むハイビーム用配光パターンPHを形成可能であり、光軸を調整可能に設けられたハイビーム用灯具ユニットと、走行環境検知装置から得られた情報に基づいて、ハイビーム用灯具ユニットの光軸を調整する制御部と、を備える。 - 特許庁
In an embodiment, an offset correction factor γb, a phase correction factor α, an amplitude correction factor β and an offset correction factor γa are calculated based on a difference between a position instruction Pl found by integrating a speed instruction value in a speed control, and a position detection value Pd respectively, and the two-phase sinusoidal signals A and B are corrected based on the correction factors.例文帳に追加
本実施形態では、速度制御時に速度指令値を積分した位置指令Plと位置検出値Pdとの差に基づいて、オフセット補正係数γbと位相補正係数α、振幅補正係数β、オフセット補正係数γaをそれぞれ算出し、これら補正係数に基づいて2相の正弦波信号A、Bを補正する。 - 特許庁
The one end of a capacitor element 26 is connected to the gate electrode of an amplifying transistor 24, and a prescribed voltage or concretely, pulse signals PL whose ground level becomes active are applied to the other end of the capacitor element 26 to turn off the amplifying transistor 24 or put in a deep accumulation state, so that the 1/f noises of the amplifying transistor 24 can be reduced.例文帳に追加
増幅トランジスタ24のゲート電極に容量素子26の一端を接続し、当該容量素子26の他端に所定の電圧、具体的には接地レベルがアクティブとなるパルス信号PLを印加することで、増幅トランジスタ24をオフ状態あるいは深いアキュミュレーション状態とし、増幅トランジスタ24の1/fノイズを低減する。 - 特許庁
This polymer polyol (A), wherein polymer particles (JR) containing an ethylenic unsaturated compound (E) as constituting units are contained in a polyol (PL), is characterized in that the rate of acrylonitrile in the ethylenic unsaturated compound (E) is 0 to 67 mol.%, and the relation of the viscosity of the polymer polyol to a polymer particle content (PC) satisfies a specific relational expression.例文帳に追加
エチレン性不飽和化合物(E)を構成単位とする重合体粒子(JR)がポリオール(PL)中に含有されてなるポリマーポリオールにおいて、エチレン性不飽和化合物(E)中のアクリロニトリルの割合が0〜67モル%であり、ポリマーポリオールの粘性と重合体粒子含有量(PC)の関係が特定の関係式を満たすポリマーポリオール(A)。 - 特許庁
The PL control is carried out when the reflective coefficient operated in a reflective coefficient operation part 22 is entered in one of the inside region of a plurality of inside regions settled in a region setting part 23, and the PF control is carried out when the reflective coefficient above is went out from one of the outside region of a plurality of outside regions.例文帳に追加
反射係数演算部22によって演算された反射係数が、領域設定部23で設定された複数の内側領域のうち、いずれかの内側領域内に入った場合には、PL制御を行い、複数の外側領域のうち、いずれかの外側領域内から外側領域外に出た場合には、PF制御を行う。 - 特許庁
In the ink used in an inkjet printing method comprising injecting an ink onto a base material to a droplet size of ≤10 pl, and then polymerizing, curing, and fixing the ink on the base material by irradiation with active energy rays, the ink comprises a polymerizable compound and 10-30 mass% photopolymerization initiator.例文帳に追加
10pl以下の液滴サイズでインクジェットノズルより基材上にインクを射出し、次いで活性エネルギー線を照射することにより該インクを重合、硬化、該基材に定着させるインクジェット記録方法に用いるインクにおいて、該インクが重合性化合物及び10〜30質量%の光重合開始剤を含有することを特徴とするインク。 - 特許庁
There are a light transmissive member for exchange arranged near the pupil position of the projection optical system PL for forming the image of a first surface onto a second surface, and a lens chamber CH that holds the light transmissive member for exchange and can be pulled out of the lens barrel LB along a direction nearly orthogonally crossing an optical axis AX of the projection optical system.例文帳に追加
第1面の像を第2面上に形成する投影光学系(PL)の瞳位置の近傍に配置された交換用光透過部材と、この交換用光透過部材を保持し且つ投影光学系の光軸(AX)とほぼ直交する方向に沿って鏡筒(LB)から引き出し可能なレンズ室(CH)とを備えている。 - 特許庁
A control signal generation circuit 5 generates a plate signal PL that drives a terminal of the ferroelectric capacitor and generates voltage in the latch circuit in accordance with a polarization direction and a sleep signal SLP that makes the sleep switch SSW conductive after the terminal is driven to activate the latch circuit 14 in returning to an active mode from the sleep mode.例文帳に追加
そして、制御信号発生回路5が、スリープモードからアクティブモードに復帰するときに、強誘電体キャパシタの端子を駆動して分極方向に応じてラッチ回路に電圧を生成するプレート信号PLと、その駆動された後にスリープスイッチSSWを導通させてラッチ回路14を活性化させるスリープ信号SLPとを生成する。 - 特許庁
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