「堆積」に関連した英語例文の一覧と使い方(233ページ目) - Weblio英語例文検索

分配円盤上に散薬を均一に堆積させ、該分配円盤上の散薬を１服用分づつ掻き出して包装する散薬包装装置における散薬が接触する散薬接触部材１において、散薬接触部材１の散薬接触面に散薬を付着させない非付着性メッキ層３を設けた。例文帳に追加

In the powdered medicine contact member 1 in contact with the powdered medicine in a powdered medicine packaging apparatus in which the powdered medicine is uniformly piled on a dispensing disk, and scraped every one dose and packaged, a non-adhesive plated layer 3 to prevent the powdered medicine from adhering thereto is provided on a powdered medicine contact surface of the powdered medicine contact member 1. - 特許庁

リチウムを吸蔵・放出するシリコン３などの活物質からなる薄膜が集電体１上に堆積して形成されたリチウム二次電池用電極であり、集電体の表面に凹凸が形成されており、薄膜の厚み方向において集電体の表面の凹凸の谷部２に向かうにつれて幅が広くなる空隙４が形成されていることを特徴としている。例文帳に追加

This electrode for a lithium secondary battery formed by accumulating a thin film made of an active material such as silicon 3 to store and discharge lithium on a current collector 1 constitutes its characteristic feature of forming irregularities on a surface of the current collector and forming cavities 4 the width of which becomes larger toward trough parts 2 of the irregularities of the surface of the current collector in the thickness direction of the thin film. - 特許庁

ＳＴＩ溝３３が形成されたシリコン基板３０に、過水素化シラザン重合体溶液の塗布膜（ＰＳＺ膜）を堆積し、その後、ＰＳＺ膜を溝中にのみ残置し、マスク部材上のＰＳＺ膜を除去してＳＴＩ溝３３の底部より６００ｎｍ程度以下になるように薄膜化する。例文帳に追加

A hydrogenation silizane polymer solution is coated and deposited a coating film (PZT film) on the silicon substrate 30 on which the STI trench 33 is formed, then the PZT film on the mask member is removed, leaving only the part of the PZT film in the trench, so that the PZT film is thinned with the height from the bottom of the STI trench 33 being the order of 600 nm or less. - 特許庁

多数の長繊維が堆積されてなる不織ウェブに、部分的に熱圧着処理を施し、熱圧着部を形成して該熱圧着部により繊維を拘束し、次いで、ニードルパンチ処理を施すことにより、構成繊維同士を実質的に三次元的に交絡させずに、少なくとも一部の長繊維を切断するとともに、少なくとも一部の熱圧着部に開孔を付与することにより不織シートを得る。例文帳に追加

The nonwoven sheet is produced by partially hot-bonding a nonwoven web composed of a number of deposited filaments to form hot-bonded parts fixing the filaments and needle-punching the product to cut at least a part of the filaments and form through-holes on at least a part of the hot-bonded parts essentially without three-dimensionally interlocking the constituent filaments. - 特許庁

略Ｕ字状の搬送路を搬送される原稿の両面読み取りを行う画像読取装置において、原稿に付着した紙粉等の異物を除去し、また、原稿から落下した異物が搬送路に堆積することを防止することにより、読取手段の読取精度を良好に保つことができる手段を提供する。例文帳に追加

To provide an image reading apparatus for reading both sides of a document to be carried in a substantially U-shaped carrying passage capable of maintaining excellent reading accuracy of a reading means by removing foreign matters such as paper dust deposited on the document, and preventing deposition of the foreign matters fallen from the document. - 特許庁

少なくとも上用紙と下用紙、または上用紙と下用紙との間に１枚以上の中用紙を挟み、所定の順で積み重ねられた堆積体の一端面に、組分け糊を塗布乾燥し感圧複写紙セットを得る感圧複写紙の組分け方法において、該組分け糊が、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウムを含有する感圧複写紙の組分け方法。例文帳に追加

The invention refers to the grouping method of the back-coated paper where a layered body, made of at least an upper paper and an lower paper, or one or more middle paper inserted between the upper and the lower paper with its one side surface coated with a grouping paste, which is dried to form up a set of back-coated paper and the afore-mentioned grouping paste contains polyoxyethylene alkyl ether sodium sulfate. - 特許庁

インクジェットヘッド１のアクチュエータとして、スパッタリングにより形成されたＰｂ、ＺｒおよびＴｉを含むペロブスカイト型構造を有し、成膜時の堆積速度が０．５μｍ／ｈ以上または成膜時のスパッタガス圧が０．５Ｐａ以下による製造方法により作成された圧電膜１８を備えた圧電アクチュエータ１６を用いる。例文帳に追加

As an actuator for the ink-jet head 1, the piezoelectric actuator 16 equipped with the piezoelectric film 18, which has a perovskite structure formed through sputtering operation containing Pb, Zr and Ti and which is formed by a manufacturing method at a deposition speed at film-forming of 0.5 μm/h or higher and lower than the sputtering gas pressure in the film formation of 0.5 Pa or lower. - 特許庁

回転する基板の表面から飛散した処理液がカップの内壁面で跳ね返ることを防止し、処理液がカップの内壁面上に長く留まってカップ内壁面に処理液が付着し乾燥して不純物や処理液成分が堆積することを防止することができる装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus which prevents a treatment liquid scattered from the front surface of a rotating substrate rebounds by the internal wall surface of a cup and which can prevent that the treatment liquid adheres to the inner wall surface of the cup while the treatment liquid stays on the inner wall surface of the cup for a long time, and is dried, to cause the deposition of impurities and a treatment liquid component. - 特許庁

半導体装置の製造方法は、所望の目標パターンにパターニングされるべきマスク材料７０、８０を下地材料１０上に堆積し、目標パターンを含みかつそれよりも広い予備パターンにマスク材料をパターニングし、目標パターンにマスク材料をパターニングし、マスク材料をマスクとして用いて下地材料を処理することを具備する。例文帳に追加

In the manufacturing method of a semiconductor device, mask materials 70, 80 to be patterned on a desired target pattern are deposited on a ground material 10, the mask material is patterned on a spare pattern that contains a target pattern and is wider than it, the mask material is patterned on the target pattern, and a ground material is treated by using the mask material as a mask. - 特許庁

外付け法によりフッ素添加光ファイバ母材などのフッ素添加ガラス物品を製造する際、コア材として細径のものを使用した場合、軟化温度が低いシリカなどからなるものを使用した場合、あるいは多量の嵩密度の低いガラススートを堆積した場合でも、コア材の湾曲が少なく、偏心が小さいフッ素添加ガラス物品を得る。例文帳に追加

To provide a fluorine added glass article having a core material having small curvature and small eccentricity even when one having a fine diameter, one formed from a silica material having a low softening temperature or one formed by depositing a large quantity of low bulk density glass soot is used as the core material in the manufacture of the fluorine added glass article such as a fluorine added optical fiber preform by the outside vapor phase deposition method. - 特許庁

インテークバルブ１１またはエキゾーストバルブ１２の開閉タイミングを可変とする可変バルブタイミング装置３０と、クランク室１５内のブローバイガスを吸気系に導くブローバイガス還元装置４０とを有する内燃機関１の制御装置１０において、吸気ポート３ａ壁面へのデポジットの付着、堆積を低減できるようにする。例文帳に追加

To reduce sticking and sedimentation of a deposit on a wall surface of an intake port 3a, in a control device 10 of an internal combustion engine 1 having a variable valve timing device 30 capable of varying the opening-closing timing of an intake valve 11 or an exhaust valve 12 and a blow-by gas reducing device 40 for introducing blow-by gas in a crankcase 15 to an intake system. - 特許庁

熱硬化性樹脂８の被膜を剥離するときは、板状素子９表面の金属ナノ薄膜１１が堆積していない部分に塗布された熱硬化性樹脂８の被膜に、適度の押圧力で剥離用リール６を当接させて、剥離用リール６を予め定める方向へ回転移動させながら行う。例文帳に追加

When exfoliating the film of the thermosetting resin 8, the reel 6 for lifting is abutted with moderate pressure against the film of the thermosetting resin 8 applied to a part of the front surface of the plate-like element 9 whereon the metal nano thin film 11 is not deposited, and then exfoliation is carried out with a rotational movement of the reel 6 for lifting in a direction determined in advance. - 特許庁

集水器近傍の雨樋管内部に弾性素材の突起４を設けることにより、鳥類が雨樋管内部に侵入することを防止するとともに、ゴミが一定量堆積した場合に、前記ゴミの自重により前記突起４が弾性変形しゴミを雨樋管内部の下方に落下させることを特徴とする雨樋構造を提供する。例文帳に追加

This rain gutter structure is characterized by dropping the refuse in a lower part inside of the rain gutter pipe by elastically deforming a projection 4 by dead weight of the refuse, when the refuse deposits by the fixed volume, while preventing the birds from intruding inside the rain gutter pipe, by arranging the projection 4 of an elastic raw material inside the rain gutter pipe in the vicinity of the catchment unit. - 特許庁

走行機体の後部に水田作業装置を昇降自在に連結した水田作業機において、後輪によって後方に向けて上下広く飛散された泥が水田作業装置の各部に付着堆積することを防止するとともに、水田作業装置の点検整備や清掃を容易に行えるようにする。例文帳に追加

To provide a paddy field working machine in which a paddy field working device is liftably linked to the rear portion of a travel machine body, and which can prevent mud from scattering rearward with rear wheels in the upward and downward wide direction, from mud adhering and accumulating on each portion of the paddy implement and can facilitate checking, maintenance and cleaning of the paddy field working machine. - 特許庁

大きな切粉を初期段階で除去し、自然流下式濾過装置により小さな切粉を濾過ドラムで濾過する濾過装置において、スラッジ等が堆積する場所の清掃作業が不要となり、またヒンジコンべアの戻り側に付着した付着切粉を自然に排除でき、かつ低く構成し、その設置条件に限定を受けることのない濾過装置の提供。例文帳に追加

To dispense with the cleaning work of a place where sludge is accumulated, to naturally exclude a chip adhered to a hinge conveyor on the return side thereof and to dispense with the restriction of an arranging condition because of low constitution in a filter apparatus for removing a large chip in its initial stage and filtering off a small chip by the filter drum of a natural flow-down type filter apparatus. - 特許庁

本発明のアルミニウム配線の形成方法は、配線基板表面に開口部を有する絶縁層を設け、開口部内の底部及び側壁表面並びに絶縁層の表面にシード金属層を堆積し、めっきにより開口部内をアルミニウム又はアルミニウム合金で充填し、開口部内以外のアルミニウム又はアルミニウム合金を含む金属層を除去することを特徴とする。例文帳に追加

In the formation method of aluminum wiring, an insulating layer with an opening is provided to a wiring substrate surface; a seed metal layer is deposited at the bottom and a sidewall surface inside the opening and in the surface of the insulating layer; the opening is charged with aluminum or aluminum alloy through plating; and a metal layer, containing aluminum or aluminum alloy other than the inside of the opening, is removed. - 特許庁

正極活物質層を備えた正極板、または負極活物質粒子を含む負極活物質層を備えた負極板のうち、少なくともいずれかの活物質層上に厚みが０．３μｍ以上３μｍ以下の多孔質絶縁層をスパッタリング法、イオンプレーティグ法、ＣＶＤ法で堆積させる。例文帳に追加

A porous insulation layer having a thickness of not thinner than 0.3 μm and not thicker than 3 μm is deposited on an activator layer of either a positive electrode plate having a positive electrode activator layer or a negative electrode plate having a negative electrode activator layer containing negative electrode activator particles, by a sputtering method, an ion plating method, or a CDV method (chemical vapor deposition method). - 特許庁

壁面に多数の小孔を有する成形型内に、スラリー組成物のカナダ標準フリーネスが５５０ｍｌ以上のスラリーを供給し、該成形型の小孔からスラリーの媒体である水を除去することによってスラリー中の小孔不通過微細成分を成形型内に堆積させて湿潤状態の成形物を形成し、続いて該成形物を乾燥して肉厚リブを有する低密度成形体を得る。例文帳に追加

This low-density molded form with thick-walled ribs is obtained by the following process: a mold with a number of perforations on the wall surface is fed with a slurry having a Canadian standard freeness of ≥550 mL to remove water as the slurry medium through the perforations to accumulate a perforation-impassable fine component in the slurry in the mold, thus forming a wet molded product, which is then dried. - 特許庁

少なくとも１つのターゲット２２を備えたカソード２１を基板１２に対向させ、反応性スパッタリングに基づいてターゲットをスパッタして基板に膜を堆積させるスパッタリング装置であり、反応性ガス供給装置２３から供給される反応性ガスをカソードユニット１４の中央部からターゲット２２の表面に沿って外方へ流す中央ガス導入機構を設けるように構成される。例文帳に追加

The sputtering apparatus for depositing the film on a substrate by arranging a cathode 21 provided with at least one target 22 so as to face the substrate 12, and sputtering the target on the basis of reactive sputtering, has a central gas-introduction mechanism for making the reactive gas supplied from a reactive gas feeding device 23 flow outward from the central part of a cathode unit 14 along the surface of the target 22. - 特許庁

遠心分離装置１は、回転体１０と、回転体１０と連結された回転軸４及び駆動用モータ１３を有する回転機構部３と、ミスト化した懸濁液Ｌを回転体１０の内空間１２に吐出する懸濁液吐出部１４と、堆積層７を掻取るスクレーパ６を備えるスクレーパ剥離機構部１８とを具備する。例文帳に追加

The centrifugal separator 1 comprises: a rotor 10; a rotary mechanism part 3 including a rotary shaft 4 connected to the rotor 10 and a motor 13 for driving; and a suspension liquid discharge part 14 discharging a misted suspension liquid L to the internal space 12 of the rotor 10; and a scraper peeling mechanism 18 provided with a scraper 6 scraping a deposition layer 7. - 特許庁

一つの態様に於て、方法は基板の第一の部分上にマスク材料を適用し、マスク材料はバネ構造体の第一の部分を画定するであろう開口を有し、開口内に構造材料（例えば導電性材料）を堆積し、且つ開口を構造材料で過剰充填し、構造材料の一部を除去し、且つマスク材料の第一の部分を除去することを含む。例文帳に追加

In one embodiment, the method includes applying a masking material over a first portion of a substrate, the masking material having an opening which will define a first portion of a spring structure, depositing a structure material (e.g., conductive material) in the opening, overfilling the opening with the structure material, removing a portion of the structure material, and removing a first portion of the masking material. - 特許庁

プロセスは、被覆する少なくとも一つの表面２４を有する部品１０を用意し、粉末被覆材料が、少なくとも一つの表面２４との衝突の際に溶融せずに塑性変形しかつ少なくとも一つの表面２４に結合するように、非酸化性キャリヤーガスを用いて少なくとも一つの表面２４上に少なくとも一層の粉末被覆材料を堆積させる、各ステップを含む。例文帳に追加

The process comprises a step of providing a component 10 with at least one surface 24 to be coated, and a step of depositing at least one layer of powder coating material onto the at least one surface 24 using a non-oxidizing carrier gas so that the powder coating material plastically deforms without melting and bonds to the at least one surface 24 upon impact with the at least one surface 24. - 特許庁

焼却炉等からの排ガスに含まれる煤塵を集塵除去するパルスジェット式バグフィルタ装置であって、パルスジェットエアーを噴射してろ布２１〜２５に堆積した集塵灰を順次払い落とす際に、パルスジェットエアーを同時に噴射して互いに隣接した複数列のろ布群の集塵灰を同時に払い落とすように構成した。例文帳に追加

This bag filter device is a pulsed jet type bag filter device for collecting and removing dust in a flue gas discharged from an incinerator or the like wherein, when air pulses are jetted to successively sweep away accumulated collected dust/ash from filter cloths 21-25, the air pulses are concurrently jetted to concurrently sweep away the collected dust/ash from a plurality of filter cloth columns placed adjacently to each other. - 特許庁

排気ガス還流装置の流入路が排気通路を形成する排気通路管内に設けられることにより、還流弁に至るまでの流入路を流れる還流排気ガスの温度低下を抑制して、還流弁におけるカーボン等の付着物の堆積を抑制することができ、しかも排気系を構成する管路配置がコンパクトになる排気ガス還流装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust gas recirculating device capable of suppressing reduction of temperature of recirculating exhaust gas flowing in a flow-in passage up to a recirculation valve, suppressing deposition of an adhered substance such as carbon in the recirculation valve, and realizing compact arrangement of pipe passages constituting an exhaust system by providing the flow-in passage of the exhaust gas recirculating device in an exhaust passage pipe forming an exhaust passage. - 特許庁

排気浄化装置は、ディーゼル機関１０の排気通路１７に配置され、同機関１０から排出される排気中の粒子状物質（ＰＭ）を捕集するフィルタ（ＤＰＦ）２２と、ディーゼル機関１０の主噴射燃料噴射後に再生燃料噴射を行なって、ＤＰＦ２２に堆積したＰＭを燃焼除去するＤＰＦ再生制御を行なう電子制御装置４１とを備える。例文帳に追加

The exhaust emission control device includes: a filter (DPF) 22 that is disposed in an exhaust passage 17 of a diesel engine 10 and collects a particulate material (PM) in an exhaust emitted from the diesel engine 10; and an electric control device 41 that performs regenerative fuel injection after main injection fuel of the diesel engine 10 to perform DPF regeneration control for combusting and removing the PM accumulated in the DPF 22. - 特許庁

電子装置の基板１０上での形成方法であり、基板１０をエンボス加工する工程と、基板をくぼみでない部分１１が第１の材料６０の溶液をはじくように表面処理する工程と、エンボス加工によって形成された基板１０上のくぼみ１２に第１の材料６０の溶液を堆積する工程と、を含む。例文帳に追加

A forming method of an electronic apparatus on a substrate 10 comprises the steps of applying a microembossing work to the substrate 10, applying a surface treatment to the substrate so that a non-depressed part 11 has a quality of repelling a solution of a first material 60, and depositing the solution of a first material 60 on a depression 12 on the substrate 10 formed by the microembossing work. - 特許庁

本発明の目的は、半導体基板の処理枚数の増加に伴いガスヘッド表面に堆積する生成物の厚さが徐々に厚くなっていき、見かけ上、ヘッド間隔が小さく変化しても、反応ガスの流速や流路を一定に保ち、ばらつきの少ない膜厚さが得られるとともに、ガスヘッドの清掃に掛かる工数を削減できるＣＶＤ装置及び方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a CVD system and a CVD method in which a variation in film thickness can be suppressed while reducing the man-power required for cleaning a gas head by sustaining the current velocity and the channel of reaction gas constantly even if the products deposited on the surface of the gas head becomes thicker gradually as the number of processed semiconductor substrates is increased and the apparent head interval is decreased. - 特許庁

放射線像変換パネルは、支持体１１上に気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層１２を備えており、この輝尽性蛍光体層１２の下面から支持体１１側に向けて０ｍｍ〜３．０ｍｍの距離に、５０μｍ〜３００μｍの膜厚を有するＰｂ層１５を設ける。例文帳に追加

This radiographic image conversion panel is provided with a photostimulable phosphor layer 12, containing a photostimulable phosphor formed on a support body 11 by a vapor-deposition method, and a Pb layer 15 having 50-300 μm of film thickness is provided at 0-3.0 mm of distance from the under face of the photostimulable phosphor layer 12 directed toward a support body 11 side. - 特許庁

液体原料を気化させて半導体製造装置へ供給するための気化器及び気化供給方法において、原料に過剰な加熱を与えず、しかも原料を所望の濃度及び流量で効率よく気化させることにより高品質の気化ガスが得られ、さらに内壁面への付着物の堆積を防止することが可能な気化器及び気化供給方法を提供する。例文帳に追加

To provide the vaporizer and vaporizing and supplying method in the vaporizer and vaporizing and supplying method for vaporizing a liq. raw material and supplying the vapor to a semiconductor producing device by which the raw material is not overheated, the raw material is efficiently vaporized at desired concn. and flow rate to obtain a high-quality vaporized gas, and further the accumulation of a deposit on the inner wall surface is prevented. - 特許庁

スラストフランジ４の内部に空間１３を設け、空間１３とスラスト軸受板５の内周空間１１とを連結する連結穴１２を設けることにより、動圧発生溝２ｆの増圧部Ｂへの異物の堆積を防止し、動圧気体軸受装置およびこれを用いたディスク記録再生装置の信頼性向上を可能にする。例文帳に追加

Reliability of the dynamic pressure gas bearing device and the disc record reproduction device using it is improved by preventing accumulation of the foreign matter in a booster part B of a dynamic pressure generating groove 2f by providing a space 13 inside of a thrust flange 4 and providing a connecting hole 12 to connect the space 13 and an inner peripheral space 11 of a thrust bearing plate 5. - 特許庁

ダム等に堆積した土砂を取り除く場合、自然脱水が可能で、特殊な機械装置を設けないで、濁水の凝集、撹拌、接触、沈降、脱水などの一連の処理が極めて簡単に行える処理方法であり、スペースをとらない簡単な装置によってダム等の濁水を処理する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating muddy water on a dam or the like by a space-saving simple device which is a treatment method capable naturally dewatering, and extremely simply carrying out a series of treatments such as flocculation, agitation, contact, sedimentation and dewatering of the muddy water without providing a special mechanical device when earth and sand deposited on the dam or the like are removed. - 特許庁

地盤が支持層上に軟弱層が堆積している場合に、軟弱層はモノパイルが根入れされる部位の周辺領域を、水平方向に一定の範囲まで、深さ方向には軟弱層の高さ全域の範囲で地盤改良して、モノパイルの支持に必要とされる水平方向への支持力が確保されている。例文帳に追加

When the ground is constituted by accumulating a soft layer on a supporting layer, the ground is improved in a region of the soft layer around a section in which a monopile is embedded in a scope of the whole region of height of the soft layer in the direction of depth up to a fixed scope in the horizontal direction to ensure supporting force in the horizontal direction required to support the monopile. - 特許庁

電極部劣化防止機構は、エッチング装置の反応室１０に設けられる電極部であって、エッチング処理される基板２６を支持するとともに、開口部２４を複数有する電極部１２と、エッチング処理の前工程または後工程における、開口部２４に対する堆積物の付着を防止するため、開口部２４のそれぞれに通気されるガスを供給するためのガスライン１２２とを具える。例文帳に追加

This electrode degradation preventing system comprises an electrode 12 which is provided in a reaction chamber 10 of an etching device and supports a substrate 26 to be etched and has a plurality of openings 24, and a gas line 122 for supplying a gas passing through respective openings 24 to prevent the adherence of the deposited materials onto the openings 24 during the pre-process or post-process of the etching processing. - 特許庁

鉄、鋼、あるいはこれらの合金からなるマトリックス金属中に、硼化物、炭化物、窒化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の硬質粒子が分散して存在している複合材料の製造方法であって、原料粉末を高密度エネルギー熱源で溶融し基材に堆積させることで前記硬質粒子の平均粒径が１５μｍ以下となるようにした複合材料の製造方法である。例文帳に追加

In the producing method for composite material in which at least one kind of hard grains selected from the group consisting of boride, carbide and nitride are dispersed in the matrix metal composed of iron, steel or the alloy thereof, the average grain diameter of the above hard grains becomes ≤15 μm by melting the raw material powder with high density energy source and depositing the resultant material on the base material. - 特許庁

樹脂基材表面に硬質材料からなる下地層を形成した後に、その下地層の上に微粒子ビーム堆積法によって脆性材料を衝突させ、一部が下地層に食い込んでアンカー部を形成し、多結晶で実質的に結晶配向性がなく更に結晶同士の界面にガラス層からなる粒界面が実質的に存在しない脆性材料構造物が形成されている。例文帳に追加

A substrate layer comprising a hard material is formed on the surface of the resin substrate and a fragile material is allowed to impinge against the resin substrate by a fine particle beam accumulation method so as to be partially embedded in the resin substrate to form an anchor part to form the polycrystalline fragile material structure substantially having no crystal orientation and not substantially having a grain boundary comprising a glass layer in the mutual interface of crystals. - 特許庁

集塵装置１００は、ケーシング１０内にバグフィルタ１５が、予め定められた間隔で複数個横置き固定され、気体流入口１２と気体流出口１３とを有する排気装置が設けられ、さらに、バグフィルタ１５の内側に圧縮エアを吐出させバグフィルタ１５の外側に堆積した粉体を除去する逆洗浄機構を有する。例文帳に追加

In the dust collector 100, a plurality of bag filters 15 is horizontally fixed at predetermined intervals in a casing 10, an air exhauster is installed which has a gas inflow port 12 and a gas outflow port 13, and the backwashing mechanism is installed which discharges compressed air into the inside of the bag filter 15 to remove the powder accumulating on the outside of the bag filter 15. - 特許庁

高速度で応答性よく素早く開閉される第２シャッタ２２によりワークに対する膜厚を高精度にコントロールするとともに、第２シャッタ２２よりも低い速度で開閉する第１シャッタ１２に蒸着材料が堆積しても、それが開閉動作の衝撃により第１シャッタ１２から剥離して落下するのを防止する。例文帳に追加

The highly responsive shutter 22 quickly opened and closed at a high speed, controls thickness of the film onto the workpiece with high accuracy, and prevents the depositing material, even when it is deposited on the first shutter 12 which opens or closes at a lower speed than the second shutter 22, from exfoliating and falling from the first shutter 12 due to a shock of the opening or closing action. - 特許庁

加熱炉の炉床６０に堆積したスケール６１に向かって、二つの回転円盤２３、２３の間に供給された球２０を加速して発射する球発射装置２２と、球発射装置２２に球２０を供給するための球装填装置２１と、球装填装置２１と球発射装置２２を搭載して炉床６０上を移動する自走台車１１とを備える。例文帳に追加

The pulverizer comprises a ball shooting device 22 to accelerate and shoot balls 20 fed between two rotary disks 23 and 23 toward scale 61 deposited on the hearth 60 of a heating furnace, a ball charging device 21 to feed the balls 20 to the ball shooting device 22, and a mobile truck 11 moving on the hearth 60 with the ball charging device 21 and the ball shooting device 22 mounted thereon. - 特許庁

炭素原子含有材料からなる基材の表面に波長５０ｎｍ〜１００ｎｍの真空紫外光を照射しつつ金属の飛散粒子を堆積させて前記基材上に金属膜を形成せしめるメッキ方法、並びに、前記基材の表面に形成された前記金属膜の上に無電解メッキ法及び／又は電気メッキ法により更なる金属膜を形成せしめるメッキ方法。例文帳に追加

In the plating method, scattering particles of metal are deposited on the surface of a base material composed of a material containing carbon atoms to deposit a metallic film on the base material while irradiating the surface with vacuum ultraviolet rays of the wavelength of 50-100 nm, and another metallic film is deposited on the metallic film formed on the surface of the base material by an electroless plating method and/or an electric plating method. - 特許庁

透過率が一定な第１の領域と、透過率が連続的に変化する第２の領域とを有する層を基板３に形成するＮＤフィルターを、前記基板に密着して前記基板を覆う部分と前記基板から所定の間隔離れた位置に保持され前記基板を覆う部分とを有するマスク４ａ、４ｂ、４ｃを介して、前記層の原材料を前記基板に堆積させるようにして製造する。例文帳に追加

The ND filter wherein a layer which has a first area having a fixed transmittance and a second area having a continuously changing transmittance is formed on na substrate is manufactured by depositing raw material of the layer on the substrate through masks 4a, 4b, and 4c having parts which are brought into close contact with the substrate to cover the substrate and parts which are held in positions spaced from the substrate by prescribed gaps. - 特許庁

そして、柱状部を有する半導体堆積層１５０を形成する工程において、チップの境界領域に所定パターンの分離用半導体層１３０を形成し、埋込み絶縁層１２０を形成する工程において、分離用半導体層１３０の少なくとも上面を露出させ、かつ、チップを形成する工程において、分離用半導体層１３０を用いて前記分離が行われる。例文帳に追加

In a step of forming the semiconductor deposition layer 150 having the columnar parts, a predetermined pattern of isolating semiconductor layer 130 is formed in a boundary region of the chip; in a step of forming the embedded insulating layer 120, at least the upper surface of the isolating semiconductor layer 130 is exposed; and in a step of forming the chip, the isolation semiconductor layer 130 is used to realize this isolation. - 特許庁

半導体基板上の絶縁膜に形成された配線溝又はコンタクト孔に配線金属を堆積して前記配線溝又はコンタクト孔に充填する工程と、前記配線金属を研磨して前記絶縁膜を露出する工程と、前記半導体基板を洗浄する工程と、前記配線溝又はコンタクト孔に埋め込まれた前記配線金属表面をリセスエッチングする工程を有している。例文帳に追加

The method includes a step of filling a wiring groove or a contact hole, by stacking a wiring metal in the wiring groove or the contact hole formed on the insulation film on a semiconductor substrate, a step for exposing the insulating film by polishing the wiring metal, a step of cleaning the semiconductor substrate, and a step for recess etching the surface of the wiring metal embedded in the wiring groove or the contact hole. - 特許庁

このガス導入室３ａは、その中心軸３ｂとガス導入通路２の出口部２ｂ付近でのガス状流体の最大速度ベクトル２０の延長線２０ａとが所定の距離を離して交差する関係に設定されているので、ガス導入室３ａ内に渦流を発生させることが可能となり、排気ガス還流装置内へのデポジットの堆積が防止できる。例文帳に追加

Since an axis 3b of the gas introduction chamber 3a and an extended line 20a of the maximum speed vector 20 of gaseous fluid near an outlet part 2b of the gas introduction passage 2 are established in a relation crossing with a predetermined distance separated, a swirl can be generated in the gas introduction chamber 3a and accumulation of deposit on the inside of the exhaust gas recirculation device can be prevented. - 特許庁

複写機、ファクシミリ、プリンターなどの電子写真方式を用いた画像形成装置、特には、潜像担持体あるいはトナー像担持体の表面との間で摺擦が生じるようにその表面に先端を圧接させた板状のブレードを備えたものに関し、ブレードの先端に付着物が堆積することを長期にわたり抑制する。例文帳に追加

To prevent sticking material from heaping on the tip of a blade over a long period, regarding an electrophotographic image forming apparatus such as a coping machine, a facsimile and a printer, particularly such an apparatus equipped with a sheet-like blade whose tip is brought in press contact with the surface of a latent image carrier or the surface of a toner image carrier so that rubbing occurs between the surface and the tip. - 特許庁

設置に多大な土木工事を必要とすることなく、簡単に設置でき、砂等の堆積物からポンプ等の取水又は排水機器を保護することができ、メンテナンスが容易でポンプ等の取水又は排水機器を良好な運転状況に維持できる安価な取水又は排水装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a low priced water intake or drainage device capable of being simply installed without being required for large scaled civil engineering works for its installation, protecting a water intake or drainage system such as a pump or the like from the accumulation of sand or the like and maintaining the water intake or drainage system such as the pump or the like in a good operation state by facilitating the maintenance. - 特許庁