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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Change Processの意味・解説 > Change Processに関連した英語例文

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Change Processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1639



例文

This absorption spectrometric apparatus for the semiconductor manufacturing process includes: a channel switching mechanism 50 connected to an exhaust channel of a processing chamber 39 in the semiconductor manufacturing process; and an absorption spectrometric apparatus 51 for multiple reflection type moisture concentration measurement for detecting an absorbance change caused by gas by multiple reflection in the cell of laser light from a laser light source, and measuring the moisture concentration in process gas.例文帳に追加

半導体製造プロセス用吸光分析装置は、半導体製造プロセスの処理チャンバ39の排気流路に接続された流路切換え機構50と、レーザ光源からのレーザ光をセル内で多重反射させてガスによる吸光度変化を検出してプロセスガス中の水分濃度を測定する多重反射型水分濃度計測用吸光分析計51とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method for the block has a process of mixing materials including at least cement; water and a powder other than the cement, a process of filling the mixed materials in a form; and a process of compression-molding the mixed materials by making use of a change in acceleration brought about by striking the form filled with the mixed materials against a vibrating table.例文帳に追加

ブロックの製造方法は、少なくともセメント、水、及びセメント以外の粉体を含む原料を混合する工程と、混合された混合原料を、型に充填する工程と、前記混合原料が充填された前記型を振動テーブルに叩きつけることにより発生する加速度の変化を利用して、前記混合原料を圧縮成型する工程とを備える。 - 特許庁

The control part 5 repeats the first process of recognizing the rotating direction of the shooting handle HD and the second process of changing the level of the shooting strength signals by supplying the appropriate number of change pulses to the strength setting part 11 corresponding to the rotating direction recognized in the first process at every prescribed interval of time on the basis of two-phase signals received from the encoder 15.例文帳に追加

制御部5は、エンコーダ15から受ける二相信号に基づいて、発射ハンドルHDの回転方向を把握する第一処理と、第一処理で把握された回転方向に対応して、強度設定部11に適当個数の変更パルスを供給することで発射強度信号のレベルを変更させる第二処理と、を所定時間毎に繰り返している。 - 特許庁

To provide a control method for use in a chemical process wherein a reaction is caused to proceed by feeding a catalyst while continuously feeding a raw material in a manner maintaining the amount thereof present in a reactor within a predetermined range, capable of stably controlling the chemical process even if the property of the catalyst is caused to change by some kind of disturbance, and a program for controlling a chemical process.例文帳に追加

原料を反応器内での存在量が所定の範囲となるように継続的に供給しながら、触媒を添加することで反応を進行させる化学プロセスにおいて、何らかの外乱により触媒の物性が変化した場合であっても、安定した制御を行なうことが可能な化学プロセスにおける制御方法および化学プロセスを制御するためのプログラムを提供する。 - 特許庁

例文

The control part 5 repeats the first process of recognizing the rotating direction of the shooting handle HD and the second process of changing the level of the shooting strength signals by supplying the appropriate number of change pulses to the strength setting part 11 in accordance with the rotating direction recognized in the first process at every prescribed interval of time on the basis of two-phase signals received from the encoder 15.例文帳に追加

制御部5は、エンコーダ15から受ける二相信号に基づいて、発射ハンドルHDの回転方向を把握する第一処理と、第一処理で把握された回転方向に対応して、強度設定部11に適当個数の変更パルスを供給することで発射強度信号のレベルを変更させる第二処理と、を所定時間毎に繰り返している。 - 特許庁


例文

In a process of forming a silicon nitride film 16, the silicon nitride film 16 is so formed as to have a thickness to enable a reflectance change to become 0.08%/nm or below at an interface between the silicon nitride film 16 and an antireflection film 18 with a thickness change in the silicon nitride film 16 at the formation of the silicon nitride film 16.例文帳に追加

シリコン窒化膜16を形成する工程では、シリコン窒化膜16を形成する際に生ずるシリコン窒化膜16の膜厚の変動に対する、シリコン窒化膜16と反射防止膜18との界面における反射率の変動が0.08%/nm以下となるような膜厚のシリコン窒化膜16を形成する。 - 特許庁

A monitoring control system 20 of water supply and sewerage plant has monitoring control support means 22-24 which monitors a change or a failure of an operation state or a process state of the plant, extracts the change or the cause of the failure, generates monitoring information showing the cause and the impact range, and displays the information on a display screen.例文帳に追加

上下水道プラントの監視制御システム20は、プラントの運転状態またはプロセス状態の変化又は故障を監視し、当該変化又は故障の要因を抽出し、その要因と波及範囲を示す監視情報を生成して、表示画面上に表示する監視制御支援手段22〜24を有する構成である。 - 特許庁

To solve the problems that it is required to wait at parts different from a purpose such as the change of weight, the change of a pressure and the movement of a raw material and waiting time is generated until a state capable of confirmation is attained since simulation is performed by the operation time of an actual process regarding program operation confirmation and the confirmation of an operation.例文帳に追加

プログラム動作確認やオペレーションの確認に関し、実プロセスの動作時間でシミュレーションされているため、重量の変化や圧力の変化、原料の移動等目的とは異なるところで待つ必要があり、確認できる状態になるまで待ち時間が発生するという問題を解決する。 - 特許庁

Prior to the calculation of the blood pressure, air is enclosed in a sphygmomanometry bag to be worn by winding around the sphygmomanometry object part beforehand, and the circumference length of the measurement object part is grasped based on a pressure change (ST1) in a process where the appropriateness of the winding relative to the measurement object part is determined by referring to the pressure change.例文帳に追加

血圧算出に先立って、血圧測定部位に巻付けて装着する血圧測定用袋内に予め空気を封入し、その圧変化を参照して測定部位に対する巻付けの適正判別を行う過程における圧変化に基づき測定部位の周囲長を把握する(ST1)。 - 特許庁

例文

When the maximum synchronous change path cost sum, etc., does not satisfy the end condition, in a process S6, clock timing to be allocated to a synchronous element of a timing allocation object is changed within the range of such a restriction with which a circuit including the synchronous element normally operates in a prescribed clock cycle so as to make a maximum synchronous change path cost sum to be minimum.例文帳に追加

終了条件を満たさない場合には、工程S6では、最大同時変化パスコスト和が最小となるように、タイミング割り付け対象の同期素子を含む回路が所定のクロック周期で正常に動作するという制約の範囲内で、同期素子に割り付けるクロックタイミングを変更する。 - 特許庁

例文

To provide an image formation device and the like which certainly execute a reboot process accompanying the change of setting items, which is inevitable for an image formation device which can change various setting items for the execution of a required operation, so as not to become trouble for other operations while alleviating the burden to a user.例文帳に追加

所要の動作を実行するための各種設定項目の変更が可能な画像形成装置であった、設定項目の変更に伴う装置の再起動処理を、ユーザーへの負担を軽減するとともに他の動作の障害とならないように、確実に実行することのできる画像形成装置等を提供する。 - 特許庁

Image formation is appropriately controlled by estimating change due to VL increase and change due to VL decrease, while taking into account the rotating time of a photoreceptor, stopping time of the photoreceptor, the temperature of atmosphere environment, the absolute humidity of atmosphere environment, and the effect of the fixing device on the heat source for each process station.例文帳に追加

感光体回転時間、感光体停止時間、雰囲気環境の温度、雰囲気環境の絶対湿度、定着装置からの熱源の影響をプロセスステーション毎に考慮して、VLアップとVLダウンによる変動をそれぞれ予測することで、適切な画像形成制御を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The editing process unit 42 updates the integrated finding information 85 and the console control unit 40 changes the arranging order in the finding display area 67 per organ and per finding item, according to a click selection of display-per-organ change buttons 72a and 72b, and display-in-organ change buttons 73a and 73b.例文帳に追加

臓器単位表示変更ボタン72a、72b、臓器内表示変更ボタン73a、73bのクリック選択に応じて、編集処理部42は統合所見文情報85を更新し、コンソール制御部40は臓器単位、所見項目単位で所見文表示領域67の並び順を変更する。 - 特許庁

To provide a manufacturing system for surfactant, which is capable of rapidly detecting abnormality in a process, where the volume of a treating liquid is changed with time and the upper and lower limits of the volume are set corresponding to the change.例文帳に追加

処理流体の容量が時間的に変化し、且その変化に応じて容量の上限値及び下限値を設定している工程における異常を迅速に把握できる界面活性剤の製造システムを提供する。 - 特許庁

To provide a coating method of forming a coating film having excellent high temperature oxidation resistance and corrosion resistance with a simple process of a short production time and a low production cost and without causing deformation or the change of the structure of a base material.例文帳に追加

基材に変形や組織変化を生じさせず、製造時間が短く、製造コストが安い簡単なプロセスで、高温酸化性および耐食性に優れる被膜を形成するコーティング方法を提供する。 - 特許庁

In a high temperature condition during the carding process, data quantity to be held can be reduced, and consequently, erroneous operation of the IC card due to change in the held data can be reduced.例文帳に追加

また、カード工程における高温条件にて、保持しなければならないデータ量を削減することが可能となることから、保持していたデータが変化することによるICカードの誤動作の発生を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a sheet feeding device and an image forming device by which the image of an excellent quality is formed by preventing image slippage from being caused by eliminating the occurrence of a change in speed in a feeding process.例文帳に追加

搬送過程での速度変化の発生をなくして画像ずれを起こさせないようにして高品質の画像を形成することが可能な構成を備えたシート搬送装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In this operation procedure creation device 100, an operation procedure simulator 18 acquires an execution finish time and a state value change time by simulating a process according to an operation procedure candidate.例文帳に追加

本発明に係る操作手順作成装置100では、操作手順模擬実行部18は、操作手順候補に従った処理を模擬的に実施することにより、実行終了時間と状態値変化時間とを取得する。 - 特許庁

A change, addition or integration with other ground objects are performed in an editing integration process of the ground object information, and are edited into a predetermined format, and the creation rule and the creation procedure can be previously created as a rule.例文帳に追加

地物情報の編集統合過程において変更又は付加若しくは他の地物との統合を行い予め定められた形式に編集し、作成規則及び作成手順を予めルール化できる。 - 特許庁

An adhesive is made unnecessary in a process for joining the resin material 2, and the adjustment work associated with the change of environmental conditions etc., is facilitated, so that the quality of the joint can stably be improved.例文帳に追加

帯状の樹脂材料2の接合工程に接着剤を不要とし、環境条件の変化等に伴う調整作業を容易化し、接合部分の品質を安定して向上させることを可能とする。 - 特許庁

To reduce the variation of delay fluctuations of LSI output data caused by LSI process variation, power supply voltage fluctuations, ambient temperature change or the like.例文帳に追加

同一クロックにて動作するLSI間のデータ転送に関して問題となる、LSIプロセスばらつき、電源電圧変動、および周囲温度変化等に起因するLSI出力データの遅延変動のばらつきを低減すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent resolution and etching resistance, capable of giving a resist pattern that undergoes a small dimensional change per unit temperature by a thermal flow process and having good aging stability.例文帳に追加

解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having high Dmax (maximum density) as a material for a photomechanical process, particularly for a scanner or an image setter and capable of giving an image with a slight rise of fog and a slight change of sensitivity in storage.例文帳に追加

写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用としてDmax(最高濃度)が高く、保存時のカブリ上昇および感度変動の少ない画像を得ることが可能な熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a sense amplifier enable signal generating circuit in which difference between a delay characteristic of a path for data-sensing and a delay characteristic of a path for generating a sense amplifier enable signal can be minimized even if change of a process is performed.例文帳に追加

工程変化があってもデータセンシングのためのパスの遅延特性とセンスアンプイネーブル信号発生のためのパスの遅延特性との差を最小化できるセンスアンプイネーブル信号発生回路を提供する。 - 特許庁

A position is obtained by effecting position measuring and operating process in a position operating unit 13 with respect to the receiving signal of the reception processing unit 12A and, further, a speed is operated from a change per unit time of a position in a speed operating unit 14.例文帳に追加

受信処理部12Aの受信信号について位置算出部13で測位演算処理を行って位置を求め、さらに速度算出部14で位置の単位時間当たりの変化から速度を算出する。 - 特許庁

To provide an optical film whose front contrast when it is incorporated into a liquid crystal display device after a polarizing plate forming process is high, whose view angle characteristics are improved, whose dimensional change is comparable to that of other members, and whose manufacturing cost is low.例文帳に追加

偏光板加工プロセスを経て液晶表示装置に組み込んだときの正面コントラストが高く、視野角特性が改善され、他の部材と同程度に寸度変化し、製造コストが低い光学フィルムの提供。 - 特許庁

Then, in the backgrinding process of the step s6, the back on the opposite side of the surface where a semiconductor element 4 is formed in the silicon substrate 1 is ground, and grinding is stopped when a change in a grinding speed is detected.例文帳に追加

そして、ステップs6の裏面研削工程では、シリコン基板1における半導体素子4が形成される面とは反対側の裏面を研削し、研削速度の変化が検出された時点で研削加工を停止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board which can avoid a dimensional change or thermal deterioration of an inner layer plate, can avoid a positional shift between layers, can simplify its process, and can have high accuracy, high density and high reliability.例文帳に追加

内層板の寸法変化や熱劣化も伴わず、層間の位置ズレのないプロセス的にも簡略化できる高精度、高密度、高信頼性を有した多層プリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain an electronic element having a plurality of films, wherein the electronic element can cope with stress relaxation to a film which causes expansion or contraction even a change in material during high-temperature heat treatment in a manufacture process of a semiconductor or the like.例文帳に追加

複数の膜を有する電子素子において、膨張又は収縮を起こす膜に対する応力緩和を、半導体等の製造プロセスにおける高温熱処理時の物性変化においても対応可能とすること。 - 特許庁

In this detection process, the microorganism as a subject to inspection in the specimen comes through the preculture medium and the above entering window and arrives at a detection culture medium where the microorganism is proliferated and the resultant change in the color tone of the detection culture medium is observed.例文帳に追加

検出方法は、被検試料中の検査対象微生物が前培養培地及び進入用窓部を経て検出用培地に到達し、増殖された結果生じる検出用培地の色調変化を観察する。 - 特許庁

The image is formed in the electrophotographic process by using toner and a developer containing a pressure sensitive material, generating at least one of the changes among coloration, fading and discoloration due to the change in the applied pressure.例文帳に追加

加えられる圧力の変化により着色、退色および変色の少なくとも何れかの変化を生じる感圧材料を含むトナー及び現像剤を用い、画像を電子写真方式により形成する。 - 特許庁

As a result, the analysis taking the stiffness of the portions removed by trimming into consideration becomes possible, and the estimation accuracy of the change of the state of the press formed product having the portion trimmed by the post trimming process can be improved.例文帳に追加

これにより、トリムにより除去された箇所の剛性を考慮した解析が可能となり、後トリム工程によるトリム部を有するプレス成形品の状態変化量の予測精度を向上させることができる。 - 特許庁

To execute a designated process without changing description contents of an application and a main program by a user after configuration change even though the configuration of a PE (progressive element) is a changeable dynamic reconfiguration circuit.例文帳に追加

PE(プロセッシングエレメント)の構成が変更可能な動的再構成回路であっても、構成変更後にユーザがアプリケーションおよびメインプログラムの記述内容を変更することなく指定した処理を実行させる。 - 特許庁

In a process for alternately laminating a plurality of insulating layers and a plurality of conductor layers successively, a conductor layer that is formed first is formed by metal foil whose thermal dimension change rate R is ±100 ppm.例文帳に追加

複数の絶縁層と複数の導体層とを、順次、交互に積層する工程において、最も最初に形成する導体層を、熱寸法変化率Rが±100ppmである金属箔によって形成する。 - 特許庁

To provide a wafer processing unit for manufacturing a semiconductor device capable of improving the uniformity of a treatment process by minimizing a temperature change of a wafer treatment solution supplied onto a wafer rotating by a spin chuck.例文帳に追加

スピンチャックによって回転するウェーハ上に供給されるウェーハ処理溶液の温度変化を最小化することで処理工程の均一度を向上させる半導体素子製造用ウェーハ処理装置を提供する。 - 特許庁

The signal corresponding to formation noise representing the abnormality in the machining equipment and the change of conditions is analyzed and fed back to a manufacturing process for continuously conveying and machining the web a such as a photographic film.例文帳に追加

加工設備の異常や条件の変動が現れる地合ノイズ相当の信号を分析することにより、写真フィルム等のウェブaを連続搬送して加工する生産工程にフィードバックすることが可能となる。 - 特許庁

Therefore, the hydroxyl group is removed from the Ga oxide film 108 by heating the GaAs substrate 101 by a hot plate after an etching process in order to change the Ga oxide film 108 into the Ga oxide film 109 having a higher insulation property.例文帳に追加

このため、エッチング後、このGaAs基板101をホットプレートで加熱することにより、このGa酸化膜108から水酸基を取り除き、絶縁性の高いGa酸化膜109に変質させる。 - 特許庁

One mode of the process is characterized in that it has a step of causing the block polymer to form a micelle in response to a change in temperature.例文帳に追加

本発明の一態様は、温度変化に応答してブロックポリマーにミセルを形成させる工程を有することを特徴とする、ブロックポリマー、溶媒、および所定の機能を奏する物質を含む分散性組成物の製造方法である。 - 特許庁

Monitoring of discharged conditions during this grinding process is performed by both of discharge voltage and discharge current, and at least the change rate fg is controlled so as to maintain stable discharge by using the monitored results.例文帳に追加

この研削加工中の放電状態のモニタリングを放電電圧、及び放電電流の双方で行なって、このモニタリングの結果を用いて、安定放電を維持するように、少なくとも変化速度fgを制御する。 - 特許庁

To provide a thermal storage material that can store and release heat at a temperature in a range of 30-200°C, shows no phase change during the process, hardly corrodes peripheral materials, and can store a large amount of heat.例文帳に追加

30℃から200℃付近の温度域で蓄熱、放熱が可能で、その過程で物質の相変化がなく、周辺材料を腐食することがほとんどない、蓄熱量の大きな蓄熱材料を提供する。 - 特許庁

To obtain sufficient outside air shutout property, to prevent color change, oxidation or odor permeation of food, etc., during long storage, to use repeatedly, to freeze and store without bulkiness, and after storage in a freezer to microwave oven process an item stored without the item taken out.例文帳に追加

1)良好な外気遮断性を有し、長期保存時における食品等の臭い移りや酸化、変色を防止することができ、かつ、繰り返し使用することができる冷凍保存用容器を提供すること。 - 特許庁

Thus, when the voice lamp control device 113 receives the prize information command, in the case where there is variable presentation still in process or the number of special pattern holding balls N is 1, continuous change combination presentation can be performed.例文帳に追加

よって、音声ランプ制御装置113が入賞情報コマンドを受信した際に、実行中の変動演出があるか、或いは特図保留球数Nが1であれば、連続チャンス目演出を行うことができる。 - 特許庁

To provide a cellulose ester film and a manufacturing process thereof which can improve the image unevenness in a display screen and change of visibility with passage of time which are generated when it is incorporated in a liquid crystal display, a polarizing plate, an optical compensation film, an anti-reflective film, and a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置に組み込んだときに発生する表示画面での画像ムラや経時での視認性の変化を改善しうるセルロースエステルフィルムの環境に優しい製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the ceramic substrate, a precedent ceramic substrate is fabricated and degrees of change of the precedent ceramic substrate and a precedent electrode pattern up to a process of fabricating the precursor ceramic substrate are recognized.例文帳に追加

本発明に係るセラミック基板の製造方法は、あらかじめ先行セラミック基板を作製し、先行セラミック基板を作製する工程までの先行セラミック基板と先行電極パターンの変形度を把握しておく。 - 特許庁

A processor 2 reads data from a storage unit 3, performs a process described as a program, and notifies a conversion command unit 6 of a command to change a data acquisition method from the storage unit 3 in accordance with content of the data.例文帳に追加

プロセッサ2は、記憶部3からデータを読出して、プログラムとして記述された処理を実行し、データの内容に応じて記憶部3からのデータ取得方法を切替える指令を変換指令部6に通知する。 - 特許庁

To make it possible to read out at high speed by adjusting automatically and optimally timing of charge and discharge even if a change in operation environment such as variation in operation voltage, operation temperature, process parameter is caused in a semiconductor memory device.例文帳に追加

半導体記憶装置において、動作電圧、動作温度、プロセスパラメータのばらつき等の動作環境の変化が生じても、充電、放電のタイミングを最適に自動調整して、高速読み出しを可能にする。 - 特許庁

Even the change of the positions of the insulating substrates 10 and 10 to the pressurizing part 20 to be generated in the cooling process of reflow soldering can be elastically received and absorbed by a spring 20b of the pressurizing part 20.例文帳に追加

また、リフローはんだ付けの冷却工程で生じる、押圧部20に対する絶縁基板10、10の位置の変化についても、押圧部20のばね20bが弾力的にその変化を受け止め、吸収することができる。 - 特許庁

To easily identify an abnormality occurrence place even about an abnormal event changing gradually on a long term basis by collating the qualitative change of each process state value of a plant with a knowledge database about its propagation relation.例文帳に追加

プラントの各プロセス状態値の定性的な変化をその伝播関係に関する知識データベースと照合し、長期にわたり徐々に変化する異常事象についても異常発生箇所を容易に同定すること。 - 特許庁

To provide a resin concrete composition giving a product made lightweight while stably securing the uniform product small in the change of physical properties even under a high temperature in a production process and a method of producing the same.例文帳に追加

本発明は、製造過程の高温下において物性変化が少なく安定的で均一な製品を確保しつつ、軽量化を図ることができるレジンコンクリート組成物およびその製造方法の提供を課題とする。 - 特許庁

例文

To obtain a water meter conformed with the international standards by a simple design change and permit the successive recycle use of a now widely available product by only a minimum additional process thereof.例文帳に追加

簡単な設計変更で、国際規格に合致した水道メータを得ることができるようにするとともに、現在広く流通している製品に最小限の追加加工を行うだけで、引き続きそのリサイクル使用を可能とする。 - 特許庁




  
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