「Depth」に関連した英語例文の一覧と使い方(267ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an auxiliary buoyancy body for a floating type structure and a modification method for the floating type structure capable of prolonging the life of the floating type structure by reducing external force applied to a brace and being used even in a large water depth by increasing buoyancy.例文帳に追加

ブレースに作用する外力を低減して浮体式構造物の寿命を延命することができるとともに、浮力を増大させて大水深においても使用することができる浮体式構造物の補助浮力体及び浮体式構造物の改造方法を提供する。 - 特許庁

From the diffracted lights reflected by the etched object 6 and a diffraction grating pattern 7, the height H1 of the diffraction grating pattern 7 before etching, the distance from the long wavelength semiconductor laser for measurement-side surface of the diffraction grating pattern 7 after etching to the bottom face of a trench, and the depth of the trench, are found.例文帳に追加

エッチング対象物６および回折格子パターン７による回折光に基づいて、エッチング前の回折格子パターン７の高さＨ１と、エッチング後の回折格子パターン７の測定用長波長半導体レーザ側の表面から溝の底面までの距離と、溝の深さとを求める。 - 特許庁

A waste toner recovery container is provided with: a waste toner storage part 31 formed so as to extend along the depth direction; and a waste toner inflow part 32 which is projected upward from the waste toner storage part 31 and is provided with an input port 32a1 communicating with a discharge port 16a of a conveyance pipe 16.例文帳に追加

奥行方向に延在するように形成された廃トナー貯留部３１と、廃トナー貯留部３１の上方に突設されるとともに搬送管１６の排出口１６ａに連通する流入口３２ａ１が形成された廃トナー流入部３２と、を備える。 - 特許庁

To provide a welding method for aluminum or aluminum alloy materials by which a sufficient penetration depth can be obtained and a required throat thickness can be secured even when using an industially usable compound welding machine provided with a laser beam device or a laser beam generator having the output of about 3 to 5kW.例文帳に追加

工業的に使用されている出力が３乃至５ｋＷ程度のレーザ装置又はレーザ発振機を備えた複合溶接装置を使用しても十分な溶け込み深さが得られ、要求されるのど厚を確保することができるアルミニウム又はアルミニウム合金材の溶接方法を提供する。 - 特許庁

The air bag cover 100 is provided with a linear laser cut groove 105 in which holes 105a having a depth within the range of the thickness of the airbag cover 100 are extended discontinuously, and a recess 106 thinned in the thickness direction at the end area of the laser cut groove 105.例文帳に追加

エアバッグカバー１００に、当該エアバッグカバー１００の板厚の範囲内における深さの孔１０５ａが断続的に延在する線状のレーザーカット溝部１０５と、当該レーザーカット溝部１０５の終端領域において板厚方向に関し減肉された凹部１０６とを設ける。 - 特許庁

Before the adhesive is cured, for example, a down member 14 comprising short polyamide fibers is flocked so that most of the down member 14 is extended vertically to a standard surface B passing through an intermediate position in the depth D direction of each recessed part 16 by using an electrostatic spray gun.例文帳に追加

その接着剤が硬化する前に、例えばナイロン等のポリアミド繊維の短繊維からなる毛羽部材１４を、その大部分が静電散布ガンを用いて前記各凹部１６の深さＤ方向の中間位置を通る基準面Ｂに対して垂直に延びるように植毛する。 - 特許庁

A recess 30 for capturing ink is made with a specified depth from the surface 21a of the nozzle plate 21 in order to suction remove ink adhering to a wiping means 11 when ink remaining on the surface 21a of the nozzle plate 21 is wiped off.例文帳に追加

ノズルプレート２１の表面２１ａに残存するインクをワイピング手段１１によって拭った際にワイピング手段１１に付着したインクを吸収してワイピング手段１１から除去するために、ノズルプレート２１の表面２１ａから所定の深さにわたってインク捕捉用凹部３０が形成されている。 - 特許庁

In the carbon analysis method, only an event originating from the carbon in a sample is selected, by simultaneously measuring scattered protons from ^12C(p,p')^12C^* reaction and gamma rays from ^12C^*, and the depth distribution of carbon from the energy spectrum of scattered protons is determined quantitatively.例文帳に追加

<sup/>^12Ｃ(ｐ，ｐ’)^12Ｃ^＊反応からの散乱陽子と^12Ｃ^＊からのガンマ線を同時計測することにより試料中の炭素に由来する事象のみを選択し、散乱陽子のエネルギースペクトルから炭素の深さ分布を定量的に求めることを特徴とする炭素分析方法。 - 特許庁

To provide a substrate mounting device capable of optionally rotating two frames without deepening depth in a narrow frame of a liquid crystal display device e.g. of which the three-dimensional shape of the frame should be changed especially at the time of aging inspection and product shipment.例文帳に追加

本発明は、特にエージング検査時と製品出荷時とでフレームの立体形状が変える必要がある例えば液晶表示装置狭額縁でかつ奥行きを深くすることなく２つのフレームを回転自在にすることのできる基板取付装置を提供することにある。 - 特許庁

At least four or more layers are laminated by sticking together a paramagnetic metal leaf and a diamagnetic metal leaf alternately, while the metal leaf of low resistance having a thickness being equal to or larger than the penetration depth of a high-frequency current having a prescribed frequency is disposed as the outermost layers of the metal laminate.例文帳に追加

常磁性の金属箔と反磁性の金属箔を交互に貼り合わせて、少なくとも４層以上積層させるとともに、所定の周波数を持った高周波電流の侵入深度以上の厚みを持った低抵抗の金属箔を該金属積層体の最外層に配置した。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is enhanced in resolving power, reduced in residue on development and improved in process admissibility such as a margin for exposure and a focal depth in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、現像残査が低減し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide uneven foams which is formed of a melamine foam, manufactured so as to ensure a large difference in unevenness, i.e., a large depth and prevents the melamine foam of low elasticity and brittle structure from leaving any traces of dent or the like during the manufacture, and a manufacturing method of the foam.例文帳に追加

メラミンフォームを材質とし、大きな凹凸の差、すなわち深さを大きく取れるように製造し得ると共に、この製造に際して、弾性が低く構造的に脆い該メラミンフォームに対して押圧等の跡を残さないようにしたメラミンフォームからなる凹凸フォームと、該フォームの製造方法を提供する。 - 特許庁

The switch sheet 5 is provided with an adhesive layer 5B for retaining and fixing the domes for switches 15 onto the substrate 9 and is provided with an indention 19 with another portion leaving out an allowance 17 for adhesion with the substrate 9 having depth which holds down a plurality of domes for switches 15 as a whole simultaneously.例文帳に追加

スイッチシート５は、スイッチ用ドーム１５を基板９上に保持固定するための粘着剤層５Ｂを備え、かつ基板９と貼り合わせる糊代１７を残した他の部分が複数のスイッチ用ドーム１５を全体的に同時に押さえる深さを有する凹部１９を設けている。 - 特許庁

To provide a novel decorative sheet which is free from many problems associated with conventional photogravure printing methods, raw material colored film methods and dyeing methods and having glossiness, depth, coloring properties and/or metallic luster, with a high grade feeling, which cannot be attained by conventional techniques.例文帳に追加

従来のグラビア印刷法、原料着色フィルム法、及び、染色法が持っていた多くの問題点を有せず、かつ、これら従来技術では得られなかった高級感のある艶、深み、てり、発色性、及び、金属光沢を備えた新規な加飾シートを提供する。 - 特許庁

To provide a wall-through installation type combustor capable of reducing the cost by simplifying a structure of an exhaust adaptor, reducing a depth dimension as the whole combustor by shortening a projecting dimension of the exhaust adaptor from an outer package back side, and reducing the restriction on installation.例文帳に追加

排気アダプタの構造の簡略化により低コスト化が計れ、外装背面側からの排気アダプタの突出寸法が短くなることにより燃焼機全体としての奥行き方向寸法を短くすることが可能で、設置上の制約が少ない壁貫通設置型燃焼機を提供する。 - 特許庁

Each recessed part 134 has the width gradually reduced toward the deepest part of the recessed part from a surface of the plane part 133 and has a shape satisfying 28≤W/D≤76 wherein D is a depth from the plane part 133 and W is the longest width of the recessed part on the plane part 133.例文帳に追加

凹部１３４は、平面部１３３の表面から凹部の最深部へ向かって、その幅が徐々に小さくなる形状であり、平面部１３３からの深さをＤとし、平面部１３３での最も長い幅をＷとするとき、２８≦Ｗ／Ｄ≦７６を満たすような形状とした。 - 特許庁

By equalizing the curvature and a height of protrusion h of the convex part of the convex lens 2 and the curvature and a depth of recession h of the concave part of the concave lens 4, the lens effects of the lenses 2, 4 are balanced out, the picture displayed on the liquid crystal display device is not distorted and stably recognized visually.例文帳に追加

凸レンズ２の凸部の曲率及び出っ張り高さｈ並びに凹レンズ４の凹部の曲率及び引っ込み深さｈを同じにすることにより、レンズ2,4のレンズ効果を相殺し、液晶表示装置に表示される像を歪むことがなく、安定に視認できるようにしている。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition for liquid immersion exposure superior in sensitivity and hence resolution, having a satisfactory pattern shape to be obtained, superior margin in focus depth, and a little amount of eluted substance into liquid immersion liquid that is brought into contact therewith during liquid immersion exposure.例文帳に追加

感度が良好であることにより解像度に優れ、得られるパターン形状が良好であり、更に焦点深度余裕に優れ、かつ液浸露光時に接触した液浸露光用液体への溶出物量が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a wave absorbing device having a float and a wave absorption section suspended from the float, capable of sufficiently obtaining wave absorbing performance in an installed state without increasing the weight of the whole device and adaptable to a water area shallow in depth.例文帳に追加

フロートと、このフロートから垂下された消波部とを備えた消波装置に対し、装置全体の重量を大きくすることなく、それでいて、設置状態では消波性能が十分に得ることができ、しかも水深の浅い水域に対しても適用することが可能な消波装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device for observing and repairing the combustion chamber of a coke oven, which can avoid obstacles on the coke oven to observe and repair the whole combustion chamber of the coke oven and further expand the strokes of lances to precisely observe or repair the whole walls of the combustion chamber in the depth direction.例文帳に追加

コークス炉上の障害物を回避してコークス炉の燃焼室の全体の観察や補修を行い、しかも、ランスのストロークを拡大して燃焼室の深さ方向の全壁の観察や補修を精度良く行うことができるコークス炉燃焼室の観察補修装置を提供する． - 特許庁

To provide a structure and a method for installing a steel pipe pole, which can decrease the depth of foundation, which enable the placing of foundation concrete without the arrangement of reinforcements, and which can reduce the cost of foundation work without the need for fastening by an anchor bolt.例文帳に追加

基礎の深さを浅くすることができ、鉄筋を配筋することなく基礎コンクリートを打設することができるとともに、アンカーボルトによる締結も必要とすることなく、基礎工事コストを削減化することができる鋼管ポールの設置構造及びその設置方法を提供することにある。 - 特許庁

In a second step after the first step, the carburizing temperature is increased in a range in which the surface carbon concentration of the work does not exceed the solid solution limit and the carburization depth of the work is increased by gradually dropping the carburizing temperature from the initial set point.例文帳に追加

第１の工程の後の第２の工程においては、浸炭温度を前記初期設定温度から漸減させることで、前記処理対象物の表面炭素濃度を固溶限を超えない範囲で増加させると共に、前記処理対象物の浸炭深さを増加させる。 - 特許庁

In a second step after the first step, by reducing the carbon potential of carburizing gas as the time is elapsed, the gas carburization is advanced so that the carburization depth of the object is increased while the surface carbon concentration of the object is maintained at the final target value.例文帳に追加

第１の工程の後の第２の工程においては、前記浸炭ガスのカーボンポテンシャルを時間経過に伴って減少させることで、前記処理対象物の表面炭素濃度を最終目標値に維持しつつ、前記処理対象物の浸炭深さが増加するようにガス浸炭を進行させる。 - 特許庁

When a p-gate HFET is prepared by conducting a vapor-phase Zn diffusion to an epitaxial wafer, the diffusion depth of Zn is controlled at a change in a temperature of the diffusion coefficient of Zn to a compound semiconductor wafer such as GaAs, AlGaAs or the like.例文帳に追加

エピタキシャルウェーハに気相Ｚｎ拡散を行ってｐ−ｇａｔｅＨＦＥＴを作成する場合、ＧａＡｓやＡｌＧａＡｓ等の化合物半導体ウェーハに対するＺｎの拡散係数が温度によって変化することに着目し、Ｚｎの拡散深さを制御する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical film which does not cause disturbance of cut surfaces in cutting edges of the film even when the laser intensity somewhat varies and requires no time for adjustment of the height of the crest in accordance with film thickness and the depth of the trough of embossed portions.例文帳に追加

光学フィルムの製造方法において、フィルム端部の切断加工において、レーザー強度が多少変動しても、切断面が乱れず、また、フィルムの膜厚に応じて、エンボス部の凹凸の高さを変化させる調整に時間を要することのない光学フィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for silicon wafer capable of removing boron from a silicon wafer surface even if the boron sticks on the surface before heat treatment and also manufacturing a silicon wafer with a uniform boron concentration along the wafer depth direction even when high-temperature heat treatment is carried out in an inactive atmosphere.例文帳に追加

熱処理前にシリコンウェーハ表面にボロンが付着していても、表面のボロンを除去でき、かつ、不活性雰囲気で高温熱処理を行っても、ウェーハ深さ方向における均一なボロン濃度のシリコンウェーハを製造できるシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The grommet mounting tool is to mount each grommet 3 of cylindrical shape in a circular hole 4a formed in a flat, thick plate 4, the grommet 3 being formed so that its peripheral wall is tapered from both end faces toward the axis of the cylinder and furnished with a groove 3a having a prescribed width and depth.例文帳に追加

外周壁の形状が両端面から筒の中心軸に向ってテーパ形状であり、かつ、前記外周壁に所定の幅及び深さを有する溝部３ａを具備する筒形状のグロメット３を、厚みの有る平板４の円形穴４ａに装着するためのグロメット取付け工具である。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for a nickel plating film which can deal with the alternation of an extremely slight depth in the surface of a nickel plating film causing deterioration in adhesive properties without exerting an influence on the essential film surface properties, and can attain the recovery of the adhesive properties or the like.例文帳に追加

接着性の劣化の起因となるニッケルめっき被膜の表面のごくわずかな深さの変質に、本質的な被膜表面性状に影響を与えることなく対処し、接着性回復などを図ることができるニッケルめっき被膜の表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

A sensor 10 is a transmission optical sensor, which comprises a semiconductor laser element 12 and a photodiode 14 placed at an another position, and detects the presence of a detected substance W that is placed at the back of a light shielding wall 18 at the center of the depth of a rectangular concavity 16.例文帳に追加

本光センサー１０は、半導体レーザ素子１２と、別の位置に設けられたフォトダイオード１４とを備えた透過光型光センサーであって、長方形凹部１６の奥中央で光遮蔽壁１８の裏に配置されている被検出物体Ｗの有無を検出する。 - 特許庁

Thus, carbon of a concentration required for suppressing a diffusion of boron is added to a film, and further a concentration of carbon is equal to or higher than a concentration of boron in any depth area, so that an offset is not caused in entrapping of carbon and boron into the silicon/germanium mixed crystal film.例文帳に追加

これにより、膜中にボロンの拡散を抑制するのに必要な濃度の炭素を添加させるとともに、任意の深さ領域で炭素の濃度をボロンの濃度と同等若しくは高くして、炭素とボロンとのシリコン−ゲルマニウム混晶膜中への取り込みにずれが生じないようにする。 - 特許庁

The semiconductor device 10 has a structure in which insulating layers 24, 26, 28 each having a compressive stress against a substrate and insulating layers 25, 27 each having a tensile stress against the substrate are alternately stacked repeatedly in a trench 20 in the depth direction thereof.例文帳に追加

半導体装置であって、トレンチ２０内に、基板に対して圧縮応力を有する絶縁層２４、２６、２８と、基板に対して引っ張り応力を有する絶縁層２５、２７とが、深さ方向に交互に繰り返し積層されている構造を有する半導体装置１０。 - 特許庁

The buried strap on a capacitor center electrode 105 is enabled to come into contact with the backside of an SOI layer 60 by increasing the depth of a recess at the upper part of the trench and laterally undercutting the insulating layer, thereby increasing the degree of vertical separation between the passing wordline 214 and the strap.例文帳に追加

トレンチ上部でリセスの深さを増やし、絶縁層を横方向にアンダーカットすることは、キャパシタ中心電極１０５上の埋め込みストラップがＳＯＩ層６０の裏面に接触することを可能にし、それによって、パッシング・ワード線２１４とストラップと間の垂直分離を増加させる。 - 特許庁

The calculation unit calculates a statistic of pixel values included in a specific area in a first image of time-series images, and in each composition indicating a prepared depth structure pattern, calculates a first evaluation value for selecting a composition matching the first image based on the statistic.例文帳に追加

算出部は、時系列の画像のうち第１画像内の特定領域に含まれる画素値の統計量を算出し、予め用意された奥行き構造パターンを示す構図毎に、前記第１画像と適合する構図を選択するための第１の評価値を前記統計量に基づいて算出する。 - 特許庁

It is preferable that the plastically deformed portion is a smooth notched portion having a depth deeper than half of a plate thickness along the separating portion, and the portion other than the plastically deformed portion is covered with a coating material, which is insoluble for the etching liquid, to reduce the dissolution of the portions other than the plastically deformed portion in the etching work.例文帳に追加

塑性変形部は、分離部に沿って平滑に板厚の半分以上の深い切込みになっているのが好ましく、また、エッチング加工に際しては、塑性変形部以外の溶解を低減するため、塑性変形部以外をエッチング液に対して不溶性の被覆材で覆うのが好ましい。 - 特許庁

A projecting section piece 5 provided at the front end of the external assembling section piece 4b' of the first aluminum extruded profile 1 is engaged with a groove 8 formed to a base section on the external surface side of the external assembling section piece 6b' of the second aluminum extruded profile 2, and each external assembling section piece is superposed mutually in the depth direction.例文帳に追加

第一アルミ押出し形材１の前記外側組付け部片４ｂ´の先端に設けた突部片５を、前記第二アルミ押出し形材２の前記外側組付け部片６ｂ´の外面側の基部に設けた溝８に係合して各外側組付け部片を互いに見込み方向に重合する。 - 特許庁

Then, a loosening preventing part 18 is provided by filling the depth of 1/2 of a dent bottom side fully in the width direction of a dent over the center angle of about 15 degrees at the same position in a peripheral direction in respective two rotations from a base part among the spirals of the dent part 16a1 of the male screw part 16a.例文帳に追加

雄ねじ部１６ａの谷部１６ａ１の螺旋のうち基部から２回転のそれぞれにおける周方向同一位置に、約１５度中心角にわたり谷底側の２分の１の深さを谷の幅方向における全部埋めて緩み止め部１８を設ける。 - 特許庁

The N type impurity concentration in each of the plurality of second N type diffusion regions 20 is 5×10^17 or more and 3×10^19 or less pieces/cm^3 in the range of 0 or more and 0.2 or less μm in the depth direction with a bottom 30b of the STI region 30 as a reference point.例文帳に追加

複数の第２のＮ型拡散領域２０の各々におけるＮ型の不純物濃度は、ＳＴＩ領域３０の底部３０ｂを基点に深さ方向で０μｍ以上、０．２μｍ以下の範囲内で、５×１０^17個／ｃｍ^3以上、３×１０^19個／ｃｍ^3以下である。 - 特許庁

To provide a mold for injection molding by which there exists no possibility of generating creases on a transfer material and cracks on a transfer layer even when a depth D of a curved part of a cross-section tends to be increased and a curvature radius and a draw angle of a movable mold tend to be decreased by a design specified by an end user.例文帳に追加

エンドユーザーのデザイン指定により断面曲線部の深さＤが大の傾向になったり、曲率半径と可動型抜き勾配Ａが小の傾向になったりしても、転写材にしわが発生したり、転写層にクラックが発生したりしない射出成形用金型を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, capable of making a pattern groove which is provided to a resin film by irradiating the film with a laser beam stable in depth and high in accuracy, stabilizing the characteristics of a pattern which is formed on a board through printing by the use of the resin film as an intaglio, easily forming a pattern groove of high accuracy, and improving an electronic part in productivity.例文帳に追加

樹脂フィルムにレーザー光線によって形成するパターン溝の深さが安定し、精度の高いパターン溝ができ形成、この樹脂フィルムを凹版として印刷により基板に形成するパターンの特性値が安定し、精度が高いパターン溝が容易に形成でき、生産性が高まる。 - 特許庁

After a bonding collet 5 is shifted above a die bonding agent container 4 while sucking a semiconductor element, a bonding head 6 is lowered down to a predetermined depth such that the rear surface of the semiconductor element 1 touches the upper surface of die bonding agent 3 thus applying the die bonding agent 3 to the rear surface of the semiconductor element 1.例文帳に追加

半導体素子１をボンディングコレット５で吸着し、ボンディングコレット５をダイボンド剤容器４上へ移動した後、ダイボンド剤３の上面に半導体素子１の裏面が接触するようにボンディングヘッド６を一定深さまで降ろして半導体素子１の裏面にダイボンド剤３を付着させる。 - 特許庁

The rendering order control 101 then compares the display priority of a sprite read from the SAT 100 and the display priority order stored in the depth buffer 103 and, only if reading out a sprite of higher display priority, overwrites the image data in the line buffer 102.例文帳に追加

そして、描画順位制御１０１は、ＳＡＴ１００から読み出したスプライトの表示優先順位とデプスバッファ１０３に格納された表示優先順位とを比較し、表示優先順位がより高いスプライトを読み出した場合にのみ、ラインバッファ１０２の画像データを上書きする。 - 特許庁

The hydrogen separator is a hydrogen separator provided with a porous substrate 2 having a number of fine holes connected from the surface 5 of No.1 to other surfaces and a hydrogen separating layer 3 that is provided on the surface 5 of No.1 in the substrate 2 with the same penetrated from the surface 5 of No.1 to a predetermined depth.例文帳に追加

その一の表面５から他の表面まで連通する多数の細孔を有する多孔質基体２と、多孔質基体２の一の表面５に、一の表面５から所定深さまで浸入した状態で配設された水素分離層３とを備えた水素分離体１である。 - 特許庁

The surface roughness parameter Ryni shows a mean value of a maximum height for every reference length, in other words, the distance between the top line and the bottom line of the roughness curve measured in the direction of the depth magnification for the reference length in the direction of the average line of the roughness curve.例文帳に追加

表面粗さパラメータＲｙｎｉとは、基準長毎最大高さの平均値、すなわち、粗さ曲線から、その平均線の方向に基準長さだけ抜き取り、この抜き取り部分の山頂線と谷底線との間隔を粗さ曲線の縦倍率の方向に測定した値である。 - 特許庁

To provide a confocal microscope device capable of changing independently depth-directional excitation light intensity distributions, on a sample face, of a laser beam for stimulating a sample, and a light for acquiring an image; and to provide an observation method using the same.例文帳に追加

標本に刺激を加えるレーザ光と画像取得のための光との標本面上での深さ方向の励起光強度分布をそれぞれ独立に変化させることができる共焦点顕微鏡装置及び共焦点顕微鏡装置を用いた観察方法を提供すること。 - 特許庁

When microcrystal is formed on the amorphous dielectric medium 2 by heat treatment to increase the refractive index n_2, the magnitude Δn of structural double refraction becomes large, so that the phase difference ΔΦ of a rugged grating pattern by the rectangular grating 3 becomes large without increasing the groove depth D of the rectangular grating 3.例文帳に追加

そして、熱処理により誘電体媒質２に微結晶を生成し屈折率ｎ_２を大きくすると、構造複屈折の大きさΔｎが大きくなるので、矩形格子３の溝深さＤを大きくすることなく、矩形格子３による凹凸状格子パターンの位相差ΔΦが大きくなる。 - 特許庁