「Depth」に関連した英語例文の一覧と使い方(269ページ目) - Weblio英語例文検索

In the separator material for a fuel cell, a surface layer 6 comprising Cr and Au, and comprising Fe of ≤10 mass% is formed on the surface of a stainless steel base material 2, and the Cr content in a metal state is ≤25 mass% even in any depth of the surface layer.例文帳に追加

ステンレス鋼基材２の表面に、ＣｒとＡｕとを含み、Ｆｅが１０質量%以下含まれる表面層６が形成され、表面層のどの深さにおいても、金属状態のＣｒの含有量が２５質量％以下である燃料電池用セパレータ材料である。 - 特許庁

To increase recording capacity by increasing the recording density of marks on a recording layer of an optical recording medium having a reference plane, which carries information recorded by CAV system, and a recording layer formed at a depth different from the reference plane.例文帳に追加

ＣＡＶ方式により情報記録が行われた基準面と、上記基準面とは異なる深さ位置に設けられた記録層とを有する光記録媒体に関して、上記記録層に対するマークの記録密度の向上を図り、以て上記記録層の記録容量の拡大を図る。 - 特許庁

The elastic property value of a vascular wall is estimated based on the shape of the vascular wall, the quantity of distortion of the vascular wall computed from the distribution of the maximum displacement in the depth direction between the bloodstream-intima boundary and the adventitia-body tissue boundary, and the blood pressure value captured from a blood pressure acquisition part 113.例文帳に追加

血管壁の形状と、血流−内膜境界と外膜−体組織境界との間の最大変位量の深さ方向分布から算出された血管壁の歪み量と、血圧取得部１１３から取り込んだ血圧値と、に基づいて、血管壁の弾性特性値を推定する。 - 特許庁

The manufacturing method of the silicon wafer includes a process to lap a wafer cut down from a silicon single crystal ingot, a process to print a laser mark with a depth of no smaller than 10 μm on the rear surface of the lapped wafer, a process to etch the wafer wherein the laser mark has been printed.例文帳に追加

本発明によるシリコンウェーハの製造方法は、シリコン単結晶インゴットから切り出されたウェーハをラッピングする工程と、ラッピングされたウェーハの裏面に深さ１０μｍ以上のレーザマークを印字する工程と、レーザマークが印字された前記ウェーハをエッチングする工程を有している。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a non-destructive measurement fixture capable of simply and accurately performing non-destructive measurement from an internal wall side concerning a small inside diameter and the depth part of an existing long hollow tube, and to provide a device for measuring a concrete covering thickness using the fixture, and a method for measuring the concrete covering thickness in an SC pile with the measuring device.例文帳に追加

内径が小さく長尺な既製中空管の奥部でも、簡便かつ精度良く内壁側からの非破壊測定を行える非破壊測定用治具、該治具を用いたコンクリート被り厚測定装置、該測定装置によるＳＣ杭におけるコンクリート被り厚測定方法を提供する。 - 特許庁

Notches 16 are provided in a position preventing interference with the joint part 15 at least on one of an outer peripheral face 14a and an inner peripheral face 14b of the cylindrical part 14, and a ratio of the depth d of the notch 16 to the thickness t of the cylindrical part 14 is set to be 0.10-0.95.例文帳に追加

円筒部１４の外周面１４ａと内周面１４ｂの少なくとも一方の面には接合部１５と干渉しない位置に切り込み部１６が設けられ、円筒部１４の肉厚ｔに対する切り込み部１６の深さｄの比率が０．１０〜０．９５である。 - 特許庁

In bathing, a partition plate 1 is inserted into the bathtub to put hot water into a bathtub A, a person goes into an empty bathtub B as it is, a partition plate 2 is inserted, the hot water is transferred from the bathtub A to the bathtub B by a pump, and when the bathtubs A, B have the same depth, the partition plate 1 is pulled out to take a bath.例文帳に追加

入浴時に仕切板▲１▼を差し込み、Ａの浴槽に湯を入れ，Ｂの空の浴槽にそのまま入り、仕切板▲２▼を差し込み、ポンプでＡの浴槽からＢの浴槽に湯を入れ、ＡとＢの浴槽の湯の深さが一緒になったら仕切板▲１▼を抜いて入浴する。 - 特許庁

To provide a head for soil improvement, which secures a predetermined load bearing capacity of ground or a predetermined bearing capacity of soil by a smaller number of stabilizers, by evenly enlarging an excavation diameter at the predetermined depth of an agitating and mixing head for use in the soil improvement on right and left sides, so as to set the diameter of a formed column larger than usual.例文帳に追加

地盤改良に用いる攪拌混合ヘッドの所定深度における掘進径を左右均等に拡大することにより、形成されるコラムの径を通常よりも大きくして、所定の地盤支持力や地耐力をより少ない安定材で確保する地盤改良用ヘッドを提供する。 - 特許庁

A 2D reproduction dedicated block Ln_2D is arranged following a 3D extent block 2001 in which a depth map data block D, a right view data block R, and a left view data block L are interleaved, and a 3D extent block 2002 including a 3D reproduction dedicated block L3_SS is arranged between the 2D reproduction dedicated block Ln_2D and a long jump point LB.例文帳に追加

デプスマップデータブロックD、ライトビューデータブロックR、レフトビューデータブロックLがインターリーブ配置した３Ｄエクステントブロック2001に連続して、２Ｄ再生専用ブロックLn_2Dが配置され、２Ｄ再生専用ブロックLn_2Dとロングジャンプ点LBとの間に３Ｄ再生専用ブロックL3_SSを含む３Ｄエクステントブロック2002が配置されている。 - 特許庁

To provide a method for machining a mounting hole of a countersunk head screw that allows countersinking of a screw hole (a hole before threading) to a fixed depth in a method for machining a mounting hole of a countersunk head screw that countersinks an opening of a screw hole, opened on the upper surface of a workpiece, by a drill, and a simple tool that facilitates the machining of the mounting hole.例文帳に追加

被削物上面に開口したネジ孔の開口部をドリルで皿モミ加工する皿ネジ取付孔の加工方法において、ネジ孔（ネジ下孔）に一定深さの皿モミ加工ができる皿ネジ取付孔の加工方法と、その加工が容易に行なえる簡便な治具を提供する。 - 特許庁

Reflecting plates (13) are driven in from the vicinity of the upper surface of a subsurface layer (3) to the depth of the lower end of a footing (5) in the outer periphery of a group of structures (4), and wave-dissipating concrete blocks (12) made of concrete blocks such as tetrapods are piled up on the reflecting plates (13) to form a surface-wave bulwark against earthquake.例文帳に追加

構造物（４）群の外側周囲に表層地盤（３）の上表面近くから基礎版（５）下端までの深さに反射板（１３）を打ち込み、反射板（１３）の上にテトラポッドのようなコンクリートブロック製の消波ブロック（１２）を積み重ねて地震表面波防波堤とする。 - 特許庁

To obtain a system of outputting the examination result of a beam depth reinforcing material, which can quickly present a kind of a low cost beam and a method satisfying a roof load W, a bending stress σb of a beam, a shearing stress τ of a beam, a deflection δ and the like when a change in a beam is necessary for extension and rebuilding and the like.例文帳に追加

増改築等において梁を変更する必要がある場合に、屋根荷重Ｗ、梁の曲げ応力度σｂ、せん断応力度τ、たわみδ等を満足した安価な梁種及び工法をスピーディーに提示できる梁成補強材検討結果出力システムを得る。 - 特許庁

Emitting a laser beam to the semiconductor device through the glass mask 13 can etch parts other than the characters and the symbol, provide stamped contents that can easily be viewed, and make the depth of the etched parts shallow to realize the stamping method causing no problem from the standpoint of quality.例文帳に追加

ガラスマスク１３を介して、レーザー光を半導体装置に照射することにより、文字、記号以外の部分が、食刻され捺印内容が見やすくなるとともに、食刻部の深さも浅くすることができ品質の面においても問題のない捺印方法が実現できる。 - 特許庁

This fact enables use of a z clipping surface of excessively in the vicinity of the viewpoint/camera plane and the accuracy of the z value to the remaining depth of a scene is secured as evading undesirable visual artifact which is generated when the object rendered in the vicinity of the viewpoint/camera plane is clipped.例文帳に追加

このことは、Ｚクリッピング面を視点／カメラ平面の非常に近くで用いることを可能にし、視点／カメラ平面に近くレンダリングされたオブジェクトがクリッピングされたときに発生する望ましくない視覚的アーチファクトを回避しながら、シーンの残りの奥行きに対してのＺ値精度を確保する。 - 特許庁

A sound ray computation means 16 computes the path length increment and the propagating time increment of the sound ray on the rotational coordinates, while computing the horizontal distance increment and the depth increment of the sound ray, using the sound ray path radius computed in the computational element transforming means 15.例文帳に追加

音線計算手段１６は、計算諸元変換手段１５で計算された音線経路半径を使用して音線の水平距離増分および深度増分を計算するとともに、音線の経路長増分および伝搬時間増分を回転座標上で計算する。 - 特許庁

The data storage system and the associated method are provided wherein a policy engine continuously collects qualitative information about network load to the data storage system in order to dynamically characterize the load, and to continuously correlate the characteristics of a load with the depth of the command queue of data transfer requests.例文帳に追加

ポリシー・エンジンが、負荷を動的に特徴付け、負荷の特徴をデータ転送要求のコマンド・キューの深さに連続的に相関付けるために、データ・ストレージ・システムへのネットワーク負荷に関する定性情報を連続的に収集するデータ・ストレージ・システムおよび関連する方法を提供できる。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device removes semiconductor burr 74 by dry etching using an etching gas having a longitudinal direction etching rate R2 larger than a depth direction etching rate R1 (namely, R1/R2 is smaller than 1) in a word line parallel direction cross section of a groove 72.例文帳に追加

溝７２のワード線平行方向断面における深さ方向エッチレートＲ１よりも横方向エッチレートＲ２が大きい（Ｒ１／Ｒ２が１より小さい）エッチングガスを用いて、半導体バリ７４をドライエッチングにより除去することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A heat insulation plate made of synthetic resin foam which is inserted between floor joists in parallel for use includes at least one plane having a groove of which depth is deeper at the center in the longitudinal direction of the groove than at both ends in the longitudinal direction of the groove.例文帳に追加

並列する根太間に嵌め込んで使用される合成樹脂発泡体製の断熱板であって、少なくとも１つの面に溝が設けられ、該溝の深さが、溝長手方向両端部よりも溝長手方向中央の方が深くなっていることを特徴とする建築用断熱板。 - 特許庁

To provide an agitation type desulfurizing apparatus capable of reducing the impact load applied to a stirring machine and a guide, adjusting the dipping depth of an impeller freely even during agitation and effectively cooling the exposed metal portion of a steel shaft of an impeller and a driving shaft connected tereto.例文帳に追加

撹拌機やガイドに作用する衝撃負荷の低減を図るとともに撹拌中でも自在にインペラの浸漬深さの調整ができ、さらに、インペラの鉄軸の金属露出部分やこれに連結される駆動シャフトの冷却を効果的に行うことができる撹拌式脱硫装置を提案する。 - 特許庁

At this point, the wavelength of the laser light to be irradiated is selected so that the penetration depth (reciprocal number of the absorption coefficient) to the amorphous silicon is larger than the film thickness of the amorphous silicon film, and the absorption coefficient to the amorphous silicon is larger than the absorption coefficient to a crystal silicon.例文帳に追加

このとき、照射するレーザ光の波長として、非晶質シリコンに対する浸透深さ（吸収係数の逆数）が非晶質シリコン膜の膜厚より大きく、かつ非晶質シリコンに対する吸収係数が結晶シリコンに対する吸収係数より大きい波長を選択する。 - 特許庁

Ion energy, ion incident angle to the surface of material, temperature of silicon layer, forming depth of the vertical portion, height of vertical portion and ion passing range to silicon are all determined with reference to the wavelength of the selected waving (vertical) portion in the range of 9 nm to 120 nm.例文帳に追加

イオンエネルギー、前記材料の表面へのイオン入射角、シリコン層の温度、波状起伏の形成深さ、前記波状起伏の高さ、及びシリコンへのイオン貫通範囲は全て、９ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲における波状起伏の選択された波長を基準として決定される。 - 特許庁

Since two or more kinds of spinel-type lithium-manganese compound oxide having different composition are used by mixing, deterioration in capacity after preservation at high temperatures at the depth of discharge 50%-90% which is the characteristic of the spinel-type lithium-manganese compound oxide is suppressed by the mutual action of these.例文帳に追加

異なる組成を示す２種以上のスピネル型リチウムマンガン複合酸化物を混合して用いるので、これらの相互作用によってスピネル型リチウムマンガン複合酸化物に特徴的な放電深度５０％〜９０％での高温保存後の容量劣化が抑制される。 - 特許庁

A lamination structure of a plurality of crystallization ratios corresponding to reflectivity spectrum obtained by calculation for the same spectrum as the reflectivity spectrum measured actually is identified by considering distribution of crystallization ratio in the depth direction of semiconductor as a structure formed of a plurality of layers with different crystallization ratios.例文帳に追加

半導体の深さ方向の結晶化率の分布を複数の異なる結晶化率の層からなる構造と見なして、実際に測定した反射率スペクトラムと同一のスペクトラムを有する計算によって求めた反射率スペクトラムに対応する複数の結晶化率の積層構造を特定する。 - 特許庁

In a state where the light control depth becomes deep by dimming control and a current flowing for one of light-emitting diodes 19-21 becomes 1 mA or less, an output impedance near the operating point of the light-emitting diodes 19-21 is set equal to or lower than 50 kΩ.例文帳に追加

調光制御により調光深度が深くなり、発光ダイオード１９〜２１の発光ダイオード１個に対して流れる電流が１ｍＡ以下になる状態で発光ダイオード１９〜２１の動作点付近の出力インピーダンスが５０ｋΩ以下になるように設定されている。 - 特許庁

By respectively imparting or superimposing a change amount according to a random number to the depth of each recess constituting a step equivalent to a lens or the lens array in a transparent base material, the recessed part with irregular phase changes is formed and the diffraction type lens element 6 is prepared.例文帳に追加

透明基材において、レンズ又はレンズアレイと等価なステップを構成する凹部のそれぞれの深さに対して、乱数に従う変化量を個別に付与又は重畳することにより、不規則な位相変化をもった凹部を形成して回折型レンズ素子６を作成する。 - 特許庁

To provide a simple optical head that can form the first laser beam flux spot on the first recording surface and the second laser beam flux spot in another wavelength on the second recording surface of another depth on the base plate.例文帳に追加

第１のレーザ光束のビームスポットを第１の光記録媒体の記録面上に形成し、波長の異なる第２のレーザ光束のビームスポットを基板厚さの異なる第２の光記録媒体の記録面上に形成できる簡単な構成の光ヘッド装置用対物レンズを提案すること。 - 特許庁

Various techniques, including wavelength, may be utilized to control the depth to which radiation is concentrated and suitable optical systems 212 may be provided to concentrate applied radiation 222 in parallel or in series for selected combinations of one or more treatment portions V.例文帳に追加

波長を含む色々な技術を利用して放射線が集中させる深さを制御することができ、また、適宜な光学系２１２を提供して印加された放射線２２２を１つ又は２つ以上の治療部分Ｖの選んだ組み合わせに対し並列に又は直列に集中させることができる。 - 特許庁

To generate continuous water currents in a toy utilizing water and make floating objects driven by the water currents move more three- dimensionally by making the depth of the toy almost equal with the width thereof and widening the range of the water currents.例文帳に追加

水を用いた玩具において、連続的な水流を発生させるとともに、水流により移動される物体である浮き体が、より立体的な動きをすることができるように、玩具の横幅に対して奥行きを同程度とし、水流の及ぶ範囲を比較的広くする。 - 特許庁

An optoelectronic device includes a passivation layer of a dielectric material having a graded composition that varies with depth, whether continuous or stepwise, to provide a first index of refraction proximate to a semiconductor or conductor material and provide a second index of refraction adjacent to a surrounding material, such as an encapsulant.例文帳に追加

光電子デバイスは、深さと共に連続的または段階的に変化し、半導体または導体材料に近い第１の屈折率を備えるとともに、封入剤などの周囲材料に隣接する第２の屈折率を備える、傾斜組成を有する誘電体材料のパッシベーション層を含む。 - 特許庁

The objective quartz glass crucible for pulling a silicon single crystal is free from ultraviolet absorption at specific wavelength within the wavelength range of 150-400 nm or free from ultraviolet absorption at wavelength of 163 nm or 245 nm caused by the oxygen-deficient defect in a region from the inner surface to the depth of 200 μm.例文帳に追加

(1)内表面からの深さが200μmまでの部位の石英ガラスに、波長150〜400nmの範囲で特定波長の紫外線吸収がないか、または酸素欠損型欠陥による波長163nm、または波長245nmの紫外線の吸収がないシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼ。 - 特許庁

To provide a living body organ support device and method that significantly decrease the motion of living body texture in imaging of living bodies, will not damage the texture, and acquire a laminating image of the depth direction, using a confocal laser microscope.例文帳に追加

生体イメージングにおいて生体組織の動きを大幅に減少させることができるとともに組織に損傷を与えることがなく、共焦点レーザ顕微鏡を用いて深さ方向の積層イメージを得ることを可能とする生体臓器支持装置および方法を提供する。 - 特許庁

The polishing conditions enabling polishing of a thin film formed on a substrate to be designed so as to obtain a desirable height of the thin film and a desirable depth of a groove are predicted by simulation using the determined optimum parameters.例文帳に追加

そして、決定された最適パラメータを用いて研磨条件予測シミュレーションをおこなうことによって、設計対象基板に形成される薄膜を、当該設計対象基板の薄膜の高さおよび溝深さとして与えられた値に研磨することができる研磨条件を予測する。 - 特許庁

The spur holder 61 of the energizing spur 62 provided with a groove having predetermined width and depth and a D-cut shaft 58 having a diameter more than this width and partially cut off by a plane parallel to the shaft are provided and the D-cut shaft 58 is rotated in the groove centering around the shaft center 58a.例文帳に追加

所定の幅と深さの溝が設けられた、付勢拍車６２の拍車ホルダ６１と、この幅以上の直径を有し、軸に平行な平面によって一部が切り取られたＤカット軸５８を設け、溝の中でＤカット軸５８を、軸中心５８ａを中心に回転させる。 - 特許庁

To provide a measurement method usefully applied to the evaluation etc. of the degree of embrittlement of materials used for a power plant, a turbine, etc. based on the width or depth of intergranular corrosion grooves, and used for highly accurately measuring, by image analysis, the width or volume of a recessed part or projecting part existing on a body surface.例文帳に追加

発電プラントやタービン等に用いられる材料の脆化度を粒界腐食溝の幅や深さなどで評価する際等に適用して有用な、物体表面にある凹部或いは凸部の幅やその体積を高精度に画像解析で測定することができる測定方法を提供する。 - 特許庁

Thus, between neighboring retaining walls built with concrete blocks 1, 1, wide joint region 4 continuing to the joint in the same depth is formed adjacently with the joint held between the concrete blocks of both the retaining walls, and the design panel 22 is attached in a state of straddling these both continuous wide joint region.例文帳に追加

隣合う擁壁ブロック１，１間において、目地に同一深さで連続する連続用広目地領域４が両擁壁ブロック間の継ぎ目を挾んで隣接するように形成され、この両連続用広目地領域に跨る状態でデザインパネル２２が取り付けられている。 - 特許庁

To provide a gate door structure including: a lock unit and a gate door structure with excellent operability, not susceptible to limitation of face and depth dimensions of a vertical frame of a gate door, attaining not only unconventional and high design but also good harmony with design of a gate door, and having safety.例文帳に追加

門扉の縦枠の見付けや見込み寸法の制限を受けることがなく、それ自体が斬新でデザイン性が高いだけでなく、門扉のデザインとうまく融合することができ、しかも安全性と操作性にも優れた錠ユニットと門扉構造とを備えた門扉構造を提供する。 - 特許庁

When both depth data and line width data of the determination pixel are smaller than those of the object pixel, the line width data of the object pixel is re-set to the line width data of the determination pixel, and the determination pixel is re-set to a pixel at a position shifted from the object pixel by re-set line width.例文帳に追加

判定ピクセルの深度データと線幅データとが何れも対象ピクセルよりも小さければ、対象ピクセルの線幅データが判定ピクセルの線幅データに再設定されるとともに、対象ピクセルから再設定された線幅分だけシフトした位置の画素に判定ピクセルが再設定される。 - 特許庁

Layer formation condition is set so that a depth of a barrier metal layer 6 may be larger than that of irregularity 11 produced on the surface of a heat sink metal layer 5, and the surface of the heat sink metal layer 5 is not exposed from the barrier metal layer 6 in the irregularity 11 area as a result.例文帳に追加

ヒートシンク用金属層５の表面に生じる凹凸１１の深さよりも、バリアメタル層６の厚さの方が厚く形成されるように層形成条件を設定し、凹凸１１部分においてヒートシンク用金属層５の表面をバリアメタル層６から露出させないようにする。 - 特許庁

When the hole is formed by punching two times, the tip of the punching pressed at the second time is guided to the bend at the depth of the hole formed by the deflection of a tip of the punch at the first time, which causes huge eccentricity, but the guide action is not received, reducing the amount of eccentricity.例文帳に追加

２回のパンチ打ちによる穴あけだと、１回目の穴あけでパンチの先端が曲ることで発生する、穴の奥の曲りに、２回目の穴あけ時に押込まれるパンチの先端がガイドされて心ズレが大きくなるが、本発明ではこのようなガイド作用を受けないから、心ズレを小さくできる。 - 特許庁

When a microscopic video is viewed, the open aperture is selected, then the image can be viewed through the finder of the single-lens reflex camera, on the other hand, in photographing, the small aperture is selected; then a proper image having large depth of field can be photographed easily and surely by the single-lens reflex camera.例文帳に追加

顕微鏡映像を視認する場合には開放絞りを選択することで一眼レフカメラのファインダを覗いて目視することができ、撮影する場合には小絞りとして深い被写界深度による良好な写真を簡易かつ確実に一眼レフカメラにより撮影することができる。 - 特許庁

A related device can quickly and accurately detect the working material, or can perform the precise punching-out or the rivet- connection at a constant prescribed depth, regardless of the change of the quality of a material or the other parameter causing the deformation of the reaction structural body 9 during punching-out process.例文帳に追加

関連した装置は、加工物の速く正確な検知を可能にし、また、孔打ち抜き工程中に反力構造体９の変形をもたらす、材料の品質又は他のパラメータの変化にかかわらない一定の所定の深さでの正確な孔打ち抜きまたはリベット締結を可能にする。 - 特許庁

When x is assumed to be Vickers hardness from the outer most surface of the cutting tool made of a sintered hard alloy having a mounting hole 4 to a position of depth of 1 mm, the surface of the tool has a surface hardening layers 3 having Vickers hardness of 1.1x or more and thickness of 1 μm or more.例文帳に追加

取付孔４が設けられた焼結硬質合金からなる切削工具の最表面から深さ１ｍｍの位置のビッカース硬度をｘとしたとき、ビッカース硬度が１．１ｘ以上で厚さ１μｍ以上の表面硬化層３を工具表面部に具える。 - 特許庁

To provide a method and a device for continuous carburization which can be efficiently adapted to the change in the carburizing depth over an extensive carburizing temperature range and which has increased flexibility in a continuous vacuum carburizing furnace including a heating-up chamber, a carburizing chamber, a diffusion chamber, a cooling-down and holding chamber and a cooling chamber.例文帳に追加

昇温室、浸炭室、拡散室、降温・保持室及び冷却室を含む連続真空浸炭炉において、広い範囲の浸炭温度領域にわたって浸炭深さの変化に効率的に対応しフレキシビリティを増した連続浸炭方法及び装置を提供。 - 特許庁

This antenna is useful for a cellular phone or the like using a frequency of e.g. a 800 MHz band, and the major building block of which comprises a first dielectric board 1 and a second dielectric board 2, and the height of the second dielectric board 2 is about 4.5 cm and the depth is about 7 cm.例文帳に追加

このアンテナは、例えば８００ＭＨｚ帯の自動車電話等に有用なもので、第１の誘電体基板１と第２の誘電体基板２から主な基礎部分が構成されており、第２の誘電体基板２の高さは約４．５ｃｍで、奥行きは約７ｃｍである。 - 特許庁