「surface flow method」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

There is provided the method for producing the sheet-form electrolytic copper, wherein, in a stage of electrowinning the metallic copper from the halide base copper electrolyte, the liquid is electrolyzed while stirring the same in the vicinity of a cathode surface at a velocity of flow of at least ≥1 mm/s, so as to produce the dense, homogeneous sheet-form electrolytic copper.例文帳に追加

ハロゲン系銅溶液から金属銅を電解採取する工程において、カソード面近傍の液を少なくとも１ｍｍ／ｓ以上の流速で攪拌しながら電解することにより、緻密で均質な板状の電気銅を製造する板状電気銅の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for operating the separation membrane module mounted with the spiral membrane element formed by winding the bag-like separation membrane together with the raw water spacer around the outer peripheral surface of a filtrate collecting pipe and which periodically or irregularly changes the flow direction of the raw water of the separation membrane module.例文帳に追加

透過水集水管の外周面に袋状の分離膜を原水スペーサーと共に巻回してなるスパイラル型膜エレメントを装着する分離膜モジュールの運転方法であって、該分離膜モジュールの原水の流れ方向を定期又は不定期に反対方向へ変更する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a fixing roll where spiral patterns formed at applying liquid material for an adhesive layer and a mold releasing layer on the outer surface of a cylindrical or columnar core material by a flow-coating method are reduced, and stripes caused by the spiral patterns are prevented from appearing in the image quality at fixing the image.例文帳に追加

円筒状または円柱状の芯材の外表面に、フローコート方法を使って、接着層や離型層用の液状材料を塗布する際に生じるスパイラル模様を軽減させ、前記スパイラル模様に起因する筋が定着時の画質に表れないようにすることが可能な定着ロールの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mounting substrate for a semiconductor and a mounting method whereby the extension of excessive adhesive can be prevented when mounting and the flow of liquid adhesive is controlled to spread the adhesive over a mounting surface, regarding a mounting substrate, on which a semiconductor device is mounted by liquid adhesive, and a mounting method.例文帳に追加

本発明は、液状接着剤により半導体装置が実装される実装基板及び実装方法に関し、実装時に余分な接着剤のはみ出しを防ぐとともに、液状接着剤の流れを制御して実装面全体に接着剤が行き渡るよう構成した半導体用実装基板及び実装方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the method for producing electrodeposited copper sheet, regarding a copper electrowinning stage in a method of recovering copper from a halogen based copper electrolytic solution, the halogen based electrolytic solution is made to flow to the surface of a cathode at a rate of 1 to 6 m/s, and electrolysis is caused at a cathode current density of 300 to 3,000 A/m^2, so as to produce dense electrodeposited copper sheet.例文帳に追加

ハロゲン系銅電解液からの銅を回収する方法における銅電解採取工程において、前記ハロゲン系電解液をカソード表面に対し1m/秒以上、6m/秒以下の速度で流し、カソード電流密度300A/m^2以上3000A/m^2以下で電解し、緻密な板状の電気銅を製造する板状電気銅の製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor substrate is used which includes a process of conducting the epitaxial growth of the SiC crystal layer on the 4H- or 6H-type c-surface SiC substrate having a tilt angle in the range between 1° to 6° using a proximity sublimation method having a tendency of step flow growth, and a process of growing a plurality of nitride semiconductor layers on the SiC crystal layer.例文帳に追加

１度から６度の範囲の傾斜角の４Ｈ型または６Ｈ型ｃ面ＳｉＣ基板上に、ステップフロー成長の傾向が大きい近接昇華法を用いてＳｉＣ結晶層のエピタキシャル成長を行う工程と、さらにその上に複数の窒化物半導体層を成長する工程とを含む半導体基板の製造方法を用いる。 - 特許庁

The blood flow contacting medical metallic material comprising subjecting the composite of the quaternary ammonium salt and at least one antithrombotic mucopolysaccharides applied to the blood contact surface of the blood flow-contacting medical metallic material to an irradiation treatment with UV rays from 180 to 365 nm in main wavelength and from 2 to 48 J/cm^2 UV ray doses and the method of manufacturing the same.例文帳に追加

上記課題を解決するため、血流接触医療用金属材料の血流接触面に塗布された第４級アンモニウム塩と少なくとも１種の抗血栓性ムコ多糖の複合体に、主波長１８０から３６５ｎｍで、紫外線量２から４８Ｊ／ｃｍ^２の紫外線を照射処理したものであることを特徴とする血流接触医療用金属材料およびその製造方法である。 - 特許庁

When an interlayer insulation film LI2 is formed by a plasma CVD method, the flow rate of porogen supplied into a CVD device is adjusted to 30% or more but not exceeding 60% of the total flow rate of porogen and methyl diethoxysilane to reduce the size of holes 10 formed within the interlayer insulation film LI2, thereby preventing an altered layer CL from being formed on the surface of the interlayer insulation film LI2 by process damage.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法によって層間絶縁膜ＩＬ２を形成する際にＣＶＤ装置内に供給するポロジェンの流量を、ポロジェンおよびメチルジエトキシシランの合計の流量の３０％以上６０％以下とすることで、層間絶縁膜ＩＬ２内に形成される空孔１０の大きさを小さくし、プロセスダメージによって層間絶縁膜ＩＬ２の表面に変質層ＣＬが形成されることを防ぐ。 - 特許庁

The method of forming the fine flow channel 40 includes the processes of: forming a mask pattern 20 on a substrate 10; coating an exposed part 10a of the substrate 10 with noble metal particles 30; and forming the fine flow channel 40 on the surface of the substrate 10 by dipping the substrate 10 in an etching solution to etch the substrate 10 under the exposed part 10a of the substrate using the mask pattern 20 as a mask.例文帳に追加

基板１０上にマスクパターン２０を形成する工程と、貴金属微粒子３０を前記基板１０の露出部１０ａに塗布する工程と、前記基板１０をエッチング溶液に浸漬して前記マスクパターン２０をマスクとして前記基板の露出部１０ａ下部の基板１０をエッチングすることにより、前記基板１０表面に微細流路４０を形成する工程と、を含む微細流路４０の形成方法である。 - 特許庁

In the ignition control unit, the method of supplying the thermosetting resin to the rear space and the surface space 48 includes a first process for injecting the thermosetting resin to the rear space 47 and subsequently, and a second process for allowing the thermosetting resin in the rear space to flow into the surface space 48 through a clearance 46 between the printed circuit board and the sidewalls of the resin case.例文帳に追加

この点火制御ユニットにおいて、裏面側空間及び表面側空間へ熱硬化樹脂を供給する方法が、裏面側空間４７に熱硬化樹脂を注入する第１工程と；その後、プリント基板と樹脂ケースの側壁との間のすきま４６を通して裏面側空間内の熱硬化樹脂を表面側空間４８に流入させる第２工程と、とを含む。 - 特許庁

A measuring cell is constituted by bonding glass substrates 1, 2 and a flow channel groove 6 is formed in the bonding surface of the glass substrate 1 by photofabrication technique and wet etching technique and through- holes 9, 10 for introducing and discharging a liquid sample are formed in the glass substrate 2 and an optically opaque Si film 3 is formed in the bonding surface as a slit by a sputtering method.例文帳に追加

ガラス基板１、２を接合して構成され、ガラス基板１の接合面にはフォトファブリケーション技術およびウェットエッチング技術により流路溝６が形成されるとともに、ガラス基板２には液体試料導入および排出のための貫通孔９、１０が形成され、接合面にスパッタ法等により光学的に不透明なＳｉ膜３をスリットとして形成する。 - 特許庁

To provide an anticorrosive treatment construction method of a concrete skeleton surface, an anticorrosive treatment structure and an anticorrosive panel used therefor, capable of effectively preventing the anticorrosive panel for securing anti-corrosiveness of the concrete skeleton surface from being rolled by tearing off from a concrete skeleton by a fluid flow in a water tank and a waterway over a long period.例文帳に追加

コンクリート躯体表面の耐蝕性を確保する耐蝕性パネルが、水槽や水路などにおける流体流れによって当該コンクリート躯体から剥がされ、捲れることを長期的かつ効果的に防止することが可能なコンクリート躯体表面の耐蝕処理工法及び耐蝕処理構造、並びにそれらに用いられる耐蝕性パネルを提供する。 - 特許庁

As a result, the surface area of the active catalyst can easily be sufficiently enlarged and the active catalyst can be arranged in the flow passage of the reactive substance while dispensing with the masking method so that the manufacturing step of the micro reactor 1 can be simplified and the yield of the micro reactor can be improved.例文帳に追加

これにより、触媒活性物質の表面積を十分に大きくすることが容易であり、また反応性物質の流路に触媒活性物質を設ける際には、マスキングを行うような必要がなく、マイクロリアクタ１の製造時における製造工程を簡略化すると共に歩留まりを向上することができる。 - 特許庁

To provide a method and a system for forming a wood grain pattern having a natural flow by measuring the distribution information on diving angles of fibers on the surface of a natural wood so as to model a three dimensional pattern of a wood grain on the basis of the measurement in order to extract a wood grain vessel pattern from the wood grain pattern.例文帳に追加

天然木材の表面における繊維の潜り角の分布情報を測定し、これを基に木理の三次元的なパターンをモデリングし、この木理パターンを用いて木目導管パターンを抽出することにより、自然な流れを持つ木目模様の生成を行う方法およびそのためのシステムを提供する。 - 特許庁

The method of preventing moisture from condensing in a phosphating treatment tank includes forming a laminar flow of fresh air beneath the undersurface of the top plate, by preparing an opening at an opposite position of a fume absorption duct in the top plate of the phosphating treatment tank in which the phosphating liquid is sprayed onto the surface of the steel sheet.例文帳に追加

鋼板表面にリン酸塩処理液を噴射するボンデ処理槽において、前記ボンデ処理槽の天板のヒューム吸引ダクトに対向する位置に開口部を設けることにより、前記天板の下面にフレッシュエアーの層流の流れを形成することを特徴とするボンデ処理槽における結露防止方法。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device 100 includes: a step in which an insulating layer formed on the upper surface of a silicide layer 104 containing Ni is dry-etched to expose the silicide layer 104 containing Ni; and a step for cleaning the silicide layer 104 containing Ni in a return flow having reducibility.例文帳に追加

半導体装置１００の製造方法は、Ｎｉを含むシリサイド層１０４の上面に形成された絶縁層をドライエッチングして、Ｎｉを含むシリサイド層１０４を露出させる工程と、Ｎｉを含むシリサイド層１０４を還元性を有する還元水で洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a single crystal which can stably manufacture single crystal having a uniform oxygen concentration over the entire length by controlling the gap size between the radiation shield and the surface of the melt liquid and by controlling the flow speed of the gas flowing between the radiation shield and the single crystal.例文帳に追加

輻射シールドと融液面との間のギャップ寸法を所定の範囲に制御し、且つ、輻射シールドと単結晶との間を流れるガスの流速を制御することにより、全長に亘り酸素濃度が均一な単結晶を安定して製造することのできる単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

The treatment method for the mold includes: a step where a liquid containing metal ions is placed on the recessed part present in the surface of a metal mold; and a step where an electrode is installed so as to come in with the liquid, and an electric current is made to flow between the metal mold and the electrode to thereby precipitate a metal at the inside of the recessed part.例文帳に追加

金属金型の表面に存在する凹部の上に、金属イオンを含む液体を置く工程と、該液体に接するように電極を設置し、金属金型と電極との間に電流を流すことにより、凹部の内部に金属を析出させる工程と、を備える金型の処理方法である。 - 特許庁

The method further comprises the steps of: coating a dual radiation curing/thermosetting sealing resin 20 between the peripheral part of the circuit element 10 and the wafer 1; curing the external surface of the sealing resin 20 by irradiating the sealing resin 20; and stopping the flow of the sealing resin 20 to the gap between the circuit element 10 and the wafer 1 at a predetermined position.例文帳に追加

回路素子１０の周縁部と基板１との間に放射線・熱硬化両用型の封止樹脂２０を塗布し、封止樹脂２０に放射線を照射して封止樹脂２０の外表面を硬化させ、回路素子１０と基板１との隙間への封止樹脂２０の流れを所定位置で停止させる。 - 特許庁

The method comprises steps of: heating the substrate 1 to a nitridation temperature between 400°C and 940°C while exposing the substrate 1 to a nitrogen gas flow; and subsequently depositing the group Ill-nitride, e.g. GaN layer 5, onto the Ge surface 3 at a deposition temperature between 100°C and 940°C.例文帳に追加

この方法は、基板１を４００℃と９４０℃の間の窒化温度に加熱するとともに、基板１を窒化ガスの流れに露出させる工程と、続いて、１００℃と９４０℃の間の堆積温度で、Ｇｅ表面３の上に、例えばＧａＮ層５のようなＩＩＩ族−窒化物を堆積する工程を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrophotographic photosensitive member having superior characteristics of the electrophotographic photosensitive member, which achieves the inhibition of a high-humidity flow by reducing the adsorption of moisture and an electrification product on the surface of the electrophotographic photosensitive member, while enhancing abrasion resistance by enhancing the hardness and reducing energy consumption.例文帳に追加

硬度向上による耐摩耗性向上と消費エネルギー低減を両立しつつ、電子写真感光体の表面への水分や帯電生成物の吸着低減による高湿流れ抑制を実現する電子写真感光体特性の優れた電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the film deposition method for performing film deposition treatment where prescribed film is deposited on the surface of a wafer W by using high-melting-point metallic compound gas and reducing gas in a treatment chamber 4 capable of evacuation, oxidizing gas is allowed to flow through the treatment chamber in the course of or immediately after the film deposition treatment.例文帳に追加

真空引き可能な処理容器４内にて高融点金属化合物ガスと還元ガスとを用いて被処理体Ｗの表面に所定の膜を堆積させる成膜処理を行なう成膜方法において、前記成膜処理中に、或いは前記成膜処理の直後に、酸化ガスを前記処理容器内へ流すようにする。 - 特許庁

To provide a method for mutually fusion-bonding tubular members made of a synthetic resin, capable of obtaining piping not obstructing the flow of a fluid by reducing the protrusion quantity of the inner surface of a bead part to the utmost noticing the bead part necessarily present in the mutual bonding of tubes made of a synthetic resin, and an apparatus therefor.例文帳に追加

合成樹脂製チューブ同士の接合において必然的に存在するビード部に着目し、このビード部内面の凸量を極力小さくし、よって、流体の流れを阻害することがない配管を得ることを可能にする合成樹脂製管状部材同士の溶着方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a hydrocarbon preparation method suppressing variation in a ratio and flow rates of a light hydrocarbon oil and a heavy hydrocarbon oil supplied to a rectifier, the variation occurring when the deviation of reaction temperature from a set value or variation in a slurry liquid surface height occurs in an FT (Fischer-Tropsch) synthesis reaction.例文帳に追加

ＦＴ合成反応における一時的な反応温度の設定値からの乖離又はスラリー液面高さの変動が生じた際の、精留塔に供給する軽質炭化水素油と重質炭化水素油との比率及び流量の変動を抑制できる炭化水素の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process of manufacturing multilayer carbon nanotubes by a catalytic vapor phase growth method in which a carbon source gas is made to flow in a heated atmosphere held at a predetermined temperature in the presence of a catalyst and multilayer carbon nanotubes are grown from the surface of the catalyst, an iron-containing garnet powder is used for the catalyst.例文帳に追加

触媒が存在し且つ所定温度に保持された加熱雰囲気内に炭素源気体を流通し、前記触媒の表面から多層カーボンナノチューブを成長させる触媒気相成長法によって多層カーボンナノチューブを製造する際に、前記触媒として、鉄含有のガーネット粉末を用いることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a dispensation method in which the thinning of a sample and a reagent is minimized as much as possible by liquid which performs suction and discharge and is dispersed through flow of an air layer and liquid film of a piping wall surface occurring when the sample and the reagent are sucked, and accuracy in concentration calculation of a biological sample component is improved.例文帳に追加

本発明の目的は、サンプル・試薬を吸引する際に生じる空気層と配管壁面の液膜の流れを通して拡散する吸引吐出を行う液体によるサンプル・試薬の薄まりを極力小さくし、生体サンプルの成分の濃度算出の正確性を向上させる分注方式を提供することにある。 - 特許庁

To provide a substrate transferring method and a semiconductor manufacturing apparatus for it, wherein a plurality of load ports are provided while the foot print of an apparatus is suppressed to a minimum and the substrate surface during transportation is kept clean by an air flow mechanism, while the idea of a 'mini environment' is introduced to a semiconductor manufacturing factory.例文帳に追加

半導体製造工場へミニエンバイラメントの思想を導入した際に、装置のフットプリントを最小限に押さえながらロードポートを複数設けることと、搬送中の基板表面をエアフロー機構により清浄に保つことを可能にした、基板搬送方法およびそれを行う半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing silicon carbide single crystal, the supply of a raw material gas is once stopped on the way of the growth of a silicon carbide single crystal 22, and the growing surface temperature of the silicon carbide single crystal 22 is measured with a pyrometer 30 through a pipe 10 for supplying the raw material gas to a silicon carbide single crystal substrate 8, while making argon gas flow there.例文帳に追加

炭化珪素単結晶２２の成長途中に原料ガスの供給を一旦停止するとともにアルゴンガスを流しながら、炭化珪素単結晶２２の成長表面温度を原料ガスの炭化珪素単結晶基板８への供給用の管１０を通してパイロメータ３０で測定する。 - 特許庁

To provide a method for controlling flow of molten steel in a casting mold, in which a cast slab with a superior surface property is stably manufactured while avoiding contamination of mold powder into the molten steel by quantitatively controlling the manner of an electromagnetic force being formed in an electromagnetic stirring device, and thereby more effectively accelerating float of argon bubbles.例文帳に追加

電磁撹拌装置の電磁力の形成のされ方を定量的にコントロールすることにより、より効果的にアルゴン気泡の浮上を促進し、溶鋼中へのモールドパウダーの巻き込みを回避して表面性状の良好な鋳片を安定して製造することができる鋳型内の溶鋼流動制御方法を提供する。 - 特許庁

For example, an alloy melt composed of 6 mol% Nd, 91 mol% Fe, and 3 mol% B is filled in a nozzle 21 heated with a heating coil 24 and discharged out through the nozzle tip 22 at a proper flow rate onto the surface of the rotary metal roll which rotates at a high speed for forming amorphous thin pieces 25 through a quenching method.例文帳に追加

この例として、Ｎｄ６ｍｏｌ％、Ｆｅ９１ｍｏｌ％、Ｂ３ｍｏｌ％の組成からなる合金溶湯１を、ノズル２１に注入して加熱コイル２４で加熱しながら、ノズル口２２から高速回転している回転金属ロール２３上に適量づつ排出させて急冷法でアモルファス薄片２５を作成する。 - 特許庁

The substrate cleaning method includes a step of cleaning the substrate by striking cleaning particulates carried in a flow of dry air or inert gas against a surface of the substrate, and a step of removing the cleaning particulates.例文帳に追加

基板の表面にドライエア又は不活性ガスの気流にのせた洗浄用の微粒子を基板に衝突させて、前記基板の洗浄を行う洗浄工程と、前記洗浄用の微粒子を除去する除去工程と、を有することを特徴とする基板洗浄方法を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

This method comprises repeating a plurality of times a series of a chemical polishing step of allowing the etchant to flow downwardly along the surface of the glass sheet GL which is kept slanted, an immersion step of immersing the glass sheet having been subjected to the chemical polishing step in a removing liquid, and a washing step of washing the glass sheet taken out from the removing liquid with a washing liquid.例文帳に追加

傾斜状態に保持されたガラス板ＧＬの表面に沿って、エッチング液を流下させる化学研磨工程と、化学研磨工程を経たガラス板を除去液に浸漬する浸漬工程と、除去液から取り出したガラス板を洗浄液で洗浄する洗浄工程とを複数回繰り返す。 - 特許庁

To provide a progressive freeze concentration method which enables the formation of a uniform thin layer of ice crystal on a heat transfer surface of the flow passage of the liquid to be concentrated of a freeze-concentrator before freeze concentration of a liquid to be concentrated, thereby efficiently performing the freeze concentration of the liquid to be concentrated by a simple operation in a short time.例文帳に追加

被濃縮液の凍結濃縮に先立ち、凍結濃縮器の被濃縮液流路の伝熱面に、簡単な操作で短時間に氷結晶の均一な薄層を形成し、よって被濃縮液の凍結濃縮を効率的に行なうことができる前進凍結濃縮法を提供する。 - 特許庁

To provide the vaporizer and vaporizing and supplying method in the vaporizer and vaporizing and supplying method for vaporizing a liq. raw material and supplying the vapor to a semiconductor producing device by which the raw material is not overheated, the raw material is efficiently vaporized at desired concn. and flow rate to obtain a high-quality vaporized gas, and further the accumulation of a deposit on the inner wall surface is prevented.例文帳に追加

液体原料を気化させて半導体製造装置へ供給するための気化器及び気化供給方法において、原料に過剰な加熱を与えず、しかも原料を所望の濃度及び流量で効率よく気化させることにより高品質の気化ガスが得られ、さらに内壁面への付着物の堆積を防止することが可能な気化器及び気化供給方法を提供する。 - 特許庁

To provide an activated sludge filtering method capable of setting the flow velocity of the descending flow on the surface of a filter body to a suitable value regardless of aeration quantity and the shape or dimension of a bioreactor tank or the shape or dimension of the filter body immersed and arranged in the bioreactor tank.例文帳に追加

生物反応槽内の活性汚泥混合液内に活性汚泥が通過する濾過体を浸漬配置し、該濾過体に生物汚泥のダイナミック濾過層を形成させ、該活性汚泥混合液を該濾過体の表面に沿って流通させながら濾過する活性汚泥濾過方法において、濾過体表面の下向流の流速はダイナミック濾過層を良好に形成するのに重要な因子であるにも係わらず、その値を操作するのに有効な手段が見出されていない。 - 特許庁

To prevent adhesion and penetration of dust to an opening part, to secure operation to locally absorb and relax a pressure fluctuation due to disturbance of a vane flow, and to reduce the generation of aerodynamic noise due to interference with a vane surface for a long period by a method wherein the surface of a porous layer is covered with a given diameter mesh member.例文帳に追加

多孔質層の表面を所定径のメッシュ部材でカバーすることにより、開口部への塵埃の付着、侵入を防止し、翼面流れの乱れによる圧力変動を局所的に吸収緩和させる作用を確保するようにして、翼面との干渉による空力騒音の発生を長期に亘って低減できるようにした送風機用羽根車及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an air diffuser which can optionally deflect the direction of an air bubble flow to be formed by a jet, merely by making a simple remodeling of an air diffusion pipe and also, can optionally adjust the magnitude of the membrane rocking motion and significantly enhance the cleaning effect of the membrane surface, as well as a method of operating the air diffuser and a dipping type membrane separator with the air diffuser.例文帳に追加

散気管に簡単な改良を加えるだけで、噴射流により形成される気泡流の方向を任意に偏向させることができ、膜の揺動の大きさを任意に調整することができ、膜面の洗浄効果を著しく高めることができる散気装置、その運転方法及び同散気装置を備えた浸漬型膜分離装置を提供する。 - 特許庁

In a method of communicating a fluid through the cold plate assembly, a fluid is communicated from a layer of an upper fluid passage B fin structure 46 through an entrance opening of a channel and an intermediate divider 48, and goes down on an inclined surface provided in a fluid passage A closing bar 50 to adjacently flow to a lower divider 54 in a lower fluid passage A fin structure 52.例文帳に追加

コールドプレートアセンブリを通して流体を連通させる方法は、上部流体通路Ｂフィン構造体４６の層から、チャネルおよび中間仕切板４８の入口開口部を通して連通し、流体通路Ａ閉鎖バー５０に設けられた傾斜面を下って下部流体通路Ａフィン構造体５２における下部仕切板５４に隣接して流れる。 - 特許庁

The silicon wafer heat-treating method is of the type of heat-treating the silicon wafer by a vertical heat treatment furnace, wherein the inert gas flow rate immediately after the start of putting the silicon wafer into the furnace is ≥30 L/min and ≤45 L/min and the thickness of an oxide film formed on the silicon wafer surface when the wafer is put into the furnace is ≤16 Å.例文帳に追加

本発明にかかるシリコンウエハの熱処理方法は、縦型熱処理炉を用いてシリコンウエハを熱処理する熱処理方法であって、前記シリコンウエハの炉入れ開始直後の不活性ガス流量を３０Ｌ／ｍｉｎ以上４５Ｌ／ｍｉｎ以下とし、炉入れ時にシリコンウエハ表面に形成される酸化膜厚を１６Å以下になすことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a filter for use in filtration capable of keeping suitable porosity, excellent in water resistance, acid resistance, chemical resistance and alkali resistance, and having high hydrophilicity, a long filtering life and an excellent permeation flow rate, prepared by modifying the surface of a microporous membrane comprised of a crystalline polymer and having an asymmetric pore-structure subsequent to making a cartridge from the same; and a method of producing a filter for use in filtration.例文帳に追加

非対称孔構造を有する結晶性ポリマー微孔性膜をカートリッジ化後に表面改質することにより、空孔率を確保でき、耐水性、耐酸性、耐薬品性、及び耐アルカリ性に優れ、親水性が高く、濾過寿命が長く、透過流量に優れた濾過用フィルタ及び濾過用フィルタの製造方法の提供。 - 特許庁

To carry out a waterproofness in a loose laying method without boring a through-hole to a waterproof sheet made of a vulcanized rubber, to sufficiently make a covering material under a melted state flow even to the irregular section of the surface of the waterproof sheet, to increase adhesive force between a fixing plate and the waterproof sheet and to strengthen even a fixing onto a backing of the waterproof sheet.例文帳に追加

加硫ゴム製の防水シートに貫通孔を開けることなく絶縁工法での防水を施すことができ、溶融状態になった被覆材が十分に防水シート表面の凹凸部分にも流れ込むことができ、固定プレートと防水シートとの間の接着力を高くし、防水シートの下地への固定も強固なものとする。 - 特許庁

To provide a semiconductor element that can suppress the flow of adhesive toward a semiconductor element active surface, even when the thickness of the semiconductor element is made thin, and secure sufficient adhesive strength of the semiconductor element to a wiring board, even with a small creep-up amount, a semiconductor device, and to provide a manufacturing method of the semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の厚みを薄くした場合にも、接着剤が半導体素子能動面のほうに流れ込むことを抑制でき、かつ少ない這い上がり量でも半導体素子の配線基板への密着力を十分確保することができる半導体素子、半導体装置、およびその半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

(1) This control method in operation stop of the fuel cell, having a separator 18 in which at least the surface is made of metal makes a humidifying fluid 35 flow through at least an anode gas passage 27 of reactant gas passages 27, 28 of the separator 18 for the specified time, from soon after the operation of the fuel cell is stopped.例文帳に追加

（１）少なくとも表面が金属からなるセパレータ１８を有する燃料電池の運転停止時制御方法であって、燃料電池の運転停止直後から所定時間、前記セパレータ１８の反応ガス流路２７、２８の少なくともアノードガス流路２７に加湿流体３５を流す燃料電池の運転停止時制御方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the bar for the lead frame includes the stages of forming the bar having the irregular-shaped cross section, having at least two kinds of thicknesses in a width direction of the bar; forming a groove on one surface of the thick portion of the bar; and forming the flow passage for fluid in the inside of the thick portion by covering the groove.例文帳に追加

リードフレーム用条材の製造方法は、条材の幅方向において少なくとも２種類の肉厚を有する異型断面条材を成形する工程と、前記条材の厚肉部の一方の面に溝を形成する工程と、前記溝に蓋をすることによって前記厚肉部の内部に流体用の流路を形成する。 - 特許庁

The method comprises the steps of forming substantially a monolayer of fine particles of the thermoplastic powder on the surface of a soft elastomer, heating the powder so as to make it cohesive, transferring the powder to the base supporter under a pressure, and heating the base supporter to a temperature where the uniform monolayer is made to flow thereon.例文帳に追加

軟質のエラストマーの表面に熱可塑性の粉末の実質的に単一微粒子の層を形成すること、粉末を、それを粘着性にするために、加熱すること、圧力の下で基礎支持体へ粉末を転写すること、及び均一な層が基礎支持体より上で流出するまである温度へ基礎支持体を加熱することを含む。 - 特許庁