「surface pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(181ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for inspecting the transfer mold comprising the translucent material and having steps formed on one surface and forming a transfer shape of a wiring pattern, the transfer mold 1 comprises the translucent material such as glass and acrylic resin, etc.例文帳に追加

この発明では、光透過性の素材から構成され、一方の面に形成された段差が配線パターンの転写形状をなす転写用型の検査方法において、転写用型１は、ガラス類やアクリル系樹脂など、光透過性の素材から構成される。 - 特許庁

The problem is solved by the operation device having a chassis with a built-in electronics device requiring input/output, a spinner so arranged that a part projects out of the chassis, and a pattern formation layer laid on a curved surface for the whole or the part on the curved plane of the spinner.例文帳に追加

入出力を必要とする電子機器を内蔵した筐体と、その筐体から一部突出するように配置された回転体と、該回転体曲面上の全体又は一部に敷設されたパターン形成層とを有する操作装置により解決された。 - 特許庁

To prevent connection failures between the connecting surface of a conductive pattern of a board and an electrode of an electronic component, as well as a shortcircuit between adjoining connecting surfaces.例文帳に追加

本発明は電子部品実装体とその製造方法とそれを用いた電子機器に関するもので、基板の導電パターンの接続面と、電子部品の電極との接続不良を防止すること、および隣接する接続面間の短絡を防止することを目的とする。 - 特許庁

To prevent pecking by sharingly supporting at a plurality of required points the top surface of a die by post means, in accordance with a piercing pattern for each thin substrate of a laminated ceramic substrate for mounting high density IC chips such as BGA (ball grid array) and CSP (chip size package).例文帳に追加

ＢＧＡ（ボール・グリッド・アレイ）、ＣＳＰ（チップ・サイズ・パッケージ）等の高密度化するＩＣチップを搭載するセラミックス積層基板の各薄肉基板に穿孔パターンに応じて、ダイのトップ面所要位置複数箇所をポスト手段で分担して支承してペッキングを防止する。 - 特許庁

In the semiconductor module 100, a circuit element such as a power semiconductor 2 or a driving IC 3 is connected to a circuit pattern of a lead frame 1 by bonding wires 4, 5 and is covered with a molding resin 6, and a ceramics insulating layer 7 is formed in a reverse surface of the molding resin 6.例文帳に追加

パワー半導体２または駆動ＩＣ３等の回路素子をボンディングワイヤ４，５によりリードフレーム１の回路パターンに接続して成形樹脂６で覆い、この成形樹脂６の反対面に、セラミックス絶縁層７を形成した半導体モジュール１００とした。 - 特許庁

The method of crystallization includes: providing a cap film on a laser beam incident surface of a non-single crystal semiconductor film; and irradiating the non-single crystal semiconductor film with a laser light of a light intensity distribution having an upside-down triangularly-profiled peak pattern formed of an alternate repetition of monotonous increase and monotonous decrease.例文帳に追加

非単結晶半導体膜のレーザ光入射面上にキャップ膜を設け、単調増加と単調減少を繰り返す断面逆三角形状ピークパターンを有する光強度分布のレーザ光を非単結晶半導体膜に照射する。 - 特許庁

To provide a projection type lighting device of which ornamental property at the environmental area of a light source is improved by enhancning the utilization rate of the light source around the surface of a dinner table, and enabling to project the light including colored or colorless pattern like a character even around the light source with a necessary lightness.例文帳に追加

食卓等のテーブル面において光源の光の利用率を高め、光源の周囲をもキャラクタ等の光の有色あるいは無色模様を含め所要の明るさで投光するを可能にして、光源周囲の装飾性を高めるようにする。 - 特許庁

In synchronization with this, an area 303 on the terrain model 23, on which color representing water and an image pattern having a design are projected by a projector 22 is expanded so as to be matched with an area where the three-dimensional model goes below the surface of water in the virtual three-dimensional world (a2 and a3).例文帳に追加

また、これに同期して、仮想三次元世界中の三次元モデルの水没領域に整合するように、投影装置２２によって水を表す色、模様を有する画像パターンを投影する地形模型２３上の領域３０３を拡大する（ａ２、ａ３）。 - 特許庁

Respective evaluating patterns MP1-MP6 are arranged respectively on wiring layers L1-L6 being the same as metallic circuits arranged in an insulating film 2 with a stepped form so that the evaluating pattern, formed at a deeper position from the upper surface of the IC 10, is formed so as to be longer in the direction of plane.例文帳に追加

各評価用パターンＭＰ１〜ＭＰ６は絶縁膜２中に配設されたメタル配線と同じ配線層Ｌ１〜Ｌ６にそれぞれ配設され、階段状に、ＩＣ１０上表面から深い評価用パターンほど平面方向に長く形成されている。 - 特許庁

A surface material comprising this acrylic BMC for decoration and a backing material comprising a fiber-reinforced thermosetting resin molding material (a general-purpose SMC or the like) not containing a pattern material for decoration are laminated and subjected to hot-press molding in a mold to give a decorative molded article.例文帳に追加

この加飾用アクリル系ＢＭＣからなる表面材と加飾用柄材を含有しない繊維補強熱硬化性樹脂成形材料（汎用のＳＭＣなど）からなる裏側材とを重ね、これを金型内で熱圧成形することにより加飾成形品を得る。 - 特許庁

A conductor pattern 11 formed on the surface of a substrate layer 10-1 composing a drive coil L1 and each of the interfaces of substrate layers 10-1 to 10-n is electrically connected through a through hole 12 penetrating the substrate layers 10-1 to 10-n.例文帳に追加

駆動コイルＬ１を構成する基板層１０−１の表面及び基板層１０−１〜１０−ｎの界面それぞれに形成される導線パターン１１は、基板層１０−１〜１０−（ｎ−１）を貫通するスルーホール１２を通じて電気的に接続される。 - 特許庁

The complex device including the FIB lens barrel and the SEM lens barrel has a slit formed into a shape to be worked at an aperture for the FIB, whereby ion beam work is performed by transferring a pattern to a sample surface instead of running a converged ion beam thereon.例文帳に追加

本発明はＦＩＢ鏡筒と、ＳＥＭ鏡筒を備えた複合装置において、ＦＩＢ用のアパーチャに加工形状のスリットを備えることにより、集束したイオンビームの走査ではなく試料面にパターンを転写することによりイオンビーム加工するようにした。 - 特許庁

To provide a curable composition for color filters having good pattern forming property and excellent adhesion to a hard surface as a substrate even when the composition contains a colorant at high concentration.例文帳に追加

着色剤を高濃度に含有する場合であっても、良好なパターン形成性を有し、基材である硬質表面との密着性に優れたカラーフィルタ用硬化性組成物、解像力の着色パターンを形成してなるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Instead of this, a specific certification pattern may be formed by moving the substrate 1 at a variable speed by passing through the nozzles 4 or adjusting pressure of the nozzles 4 or an interval of the nozzles 4 from a surface of the substrate while moving the substrate 1 by passing through the nozzles 4.例文帳に追加

これに代えて、基板１を可変の速度でノズル４を過ぎて動かすか、ノズル４の圧力または基板の表面からのノズル４の間隔を基板１がノズル４を通過して動く間に調節することにより特定の証明パターンを生成してもよい。 - 特許庁

To provide a concealment card which is of a simple construction having a sharp fluorescent pattern which can be certainly distinguished by ultraviolet irradiation from the surface of a concealing layer but is not visible by a solar light or an indoor illumination, and a method for manufacturing this concealment card.例文帳に追加

簡単な構成を有する隠蔽カードであって、隠蔽層表面からの紫外線照射によって確実に識別でき、かつ太陽光や室内光によっては視認できない鮮明な蛍光絵柄を有する隠蔽カード、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The light path changing function layer 2 is formed by feeding the flowable PDSM on the flat surface of the glass substrate 1, pressing a stamper 4 provided with a pattern forming part 5 thereon to cure the PDSM and after that, peeling off the stamper.例文帳に追加

ガラス基板１の平坦面上に流動性のあるＰＤＭＳ原材料を流し、その上からパターン成形部５を設けたスタンパ４を圧接してＰＤＭＳを硬化させた後、スタンパを剥離して、ガラス基板の上面に光路変更機能層２を形成する。 - 特許庁

An insulator 9 having high adhesion to the conductive adhesive 8 is increased in area by being exposed in an anode pattern 51 or cathode pattern 41 on a capacitive element connection terminal surface of the conversion substrate 2, and when the conductive adhesive 8 and exterior resin 3 are connected, fixation reliabilities of the conversion substrate 2 and exterior resin 3, and the conversion substrate 2 and conductive adhesive 8 are improved.例文帳に追加

変換基板２のコンデンサ素子接続端子面の陽極パターン５１または陰極パターン４１の中に絶縁体９を露出させることにより、導電性接着剤８と密着性の高い絶縁体９の面積を拡大させ、導電性接着剤８、及び外装樹脂３を接続した際、変換基板２と外装樹脂３、及び変換基板２と導電性接着剤８の固着信頼性を向上させる。 - 特許庁

The liquid crystal display panel is constituted of a black matrix 402 of a resin material formed in a prescribed region extended from one end part of a first substrate 401 and a boundary region between pixels, a color filter 403 formed corresponding to each pixel, a seal pattern 406 formed on an upper surface of the black matrix 402 and a second substrate 407 stuck to the first substrate 401 by the seal pattern 406.例文帳に追加

第１基板４０１の一端部から延長される所定領域及び画素間の境界領域に形成された樹脂材のブラックマトリックス４０２と、前記各画素に対応して形成されたカラーフィルタ４０３と、前記ブラックマトリックス４０２の上面に形成されたシールパターン４０６と、前記シールパターン４０６により前記第１基板４０１と合着される第２基板４０７と、を含んで液晶表示パネルを構成する。 - 特許庁

To make a plurality of numbers of variable holding storage be the same as much as possible by deciding variation time by referring to respectively different numbers of the variable holding storage and the variation time of patterns in a pinball game machine provided with holding storage display parts corresponding to respective pattern variation display parts together with the plurality of pattern variation display parts on one game board surface.例文帳に追加

本発明は一つの遊技盤面上に複数の図柄変動表示部位と共に各々の図柄変動表示部位に対応した保留記憶表示部位を設ける弾球遊技機において、各々が別の変動保留記憶数や図柄の変動時間を参照して変動時間の決定を行うことで、複数の変動保留記憶数がなるべく同一になる形に向かうようにすることを目的とする。 - 特許庁

The method for producing the artificial leather involves forming the nap on the surface of the nonwoven fabric by using a grinding material having the uneven pattern by rubbing the nonwoven fabric with the grinding material while pushing the grinding material to the nonwoven fabric, or by rubbing the nonwoven fabric while pushing the nonwoven fabric to the grinding material by using a member having the uneven pattern.例文帳に追加

かかる人工皮革の製造方法は、１デシテックス以下の極細繊維を含む不織布を立毛化するに際し、凹凸模様を有する研削材を用いて、この研削材を該不織布に押しつけながら擦過するか、または、凹凸模様を有する部材を用いて該不織布を、研削材に押しつけながら擦過するかのいずれかの手段により、該不織布の表面に立毛を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁

Since a semiconductor film on the surface of a substrate is obliquely irradiated with a laser beam while the substrate is moved at a constant speed of 20-200 cm/s, the semiconductor film on the large-sized substrate can be uniformly irradiated with the laser beam, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern is reduced in a semiconductor device being manufactured.例文帳に追加

本発明によれば、２０〜２００ｃｍ/ｓの間の一定の速度で基板を移動させながら、前記基板の表面上の半導体膜にレーザ光を斜めに照射させるので、大型の基板上の半導体膜においても均一なレーザ光を照射することができ、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減した半導体装置を作製することができる。 - 特許庁

The pattern wiring sheet or the electronic device chip has an electric function developing material layer formed of an electric function developing material, using a spray head employing ink jet principles, on a surface of a soft sheet base provided on a mount base of paper, resin, etc., or a hybrid material of both with an adhesive layer interposed therebetween, so the novel pattern wiring sheet or electronic device chip is provided.例文帳に追加

パターン配線シートあるいは電子デバイスチップは、紙、樹脂等、あるいは両者のハイブリッド材料である台紙基材上に粘着層を介して設けられた柔軟性シート基材の表面に、インクジェッド原理の噴射ヘッドを使用して、電気的機能発現材料により形成される該電気機能発現材料層を形成するので、新規なパターン配線シートあるいは電子デバイスチップを実現することが可能となる。 - 特許庁

The method of correcting the transmissivity of a photomask includes steps of: doping a front surface of the transparent substrate 205 with impurity ions; forming a photoresist pattern on a semiconductor substrate and measuring critical dimensions of the photoresist pattern; and doping the entire region or a partial region of the corresponding photomask 200 with impurity ions so as to improve the dispersion of the critical dimensions or to make the average of the critical dimensions closer to the target critical dimension.例文帳に追加

また、透明基板２０５の前面に不純物イオンをドーピングするステップと、半導体基板上にフォトレジストパターンを形成して臨界寸法を測定した後、その分散を改善させるか、または臨界寸法の平均値を目標臨界寸法に合わせるために、対応するフォトマスク２００の全体または一部領域に不純物イオンをドーピングするステップと、を含むフォトマスクの透過率補正方法である。 - 特許庁

The rolling mold for transcribing the fine structural thin film has a roller with an outer peripheral surface and a thin filmy metallic template with the transcribing pattern for a fine structure and in which the thin filmy metallic template is replaceably bound to the roller by magnetic attraction or vacuum suction and the fine structural thin film can be formed by transcribing the transcribing pattern with the fine structure by pressing it while rotating the roller.例文帳に追加

外周表面を有するローラと、微細構造薄膜転写パターンを有する薄膜金属テンプレートとを備え、磁気吸着または真空吸着により薄膜金属テンプレートが取り替え自在にローラに結合され、ローラを回転させつつ押圧させることで、微細構造薄膜転写パターンにより微細構造薄膜が転写形成される微細構造薄膜転写用ローラモールドを提供する。 - 特許庁

In the illumination method generating a proximity field light by projecting an irradiation light 210 to a mask 201 having a mask pattern of micro openings not larger than the wavelength size on a mask base material, i.e. a transparent substrate, an illumination means generating the proximity field light is arranged to illuminate the boundary surface of the transparent substrate and the mask pattern with the irradiation light obliquely from the transparent substrate side.例文帳に追加

マスク母材である透明基板上に波長サイズ以下の微小開口によるマスクパターンを有するマスク２０１に、照射光２１０を入射させ近接場光を発生させる照明方法であって、前記照射光により、前記透明基板と前記マスクパターンとの境界面を、該透明基板側から斜めに照明するようにして、近接場光を発生させる照明手段を構成する。 - 特許庁

A continuous member 20 includes a first substrate 21; a second substrate 22 juxtaposed with the first substrate; a first electrode pattern 23 formed within an area of the first substrate and a second electrode pattern 24 formed within an area of the second substrate 22; electrode wiring sections 26 and 27 connected to the electrode patterns respectively; and a connecting section 25 protruded from a side surface of the second substrate in an integrated manner.例文帳に追加

第１基材２１と、第１基材と並設された第２基材２２と、第１基材の領域内に形成された第１電極パターン２３及び第２基材２２の領域内に形成された第２電極パターン２４と、各電極パターンに接続された電極配線部２６，２７と、第２基材の側面から一体となって突出した接続部２５と、を有して連設部材２０が構成されている。 - 特許庁

The method of forming the fine flow channel 40 includes the processes of: forming a mask pattern 20 on a substrate 10; coating an exposed part 10a of the substrate 10 with noble metal particles 30; and forming the fine flow channel 40 on the surface of the substrate 10 by dipping the substrate 10 in an etching solution to etch the substrate 10 under the exposed part 10a of the substrate using the mask pattern 20 as a mask.例文帳に追加

基板１０上にマスクパターン２０を形成する工程と、貴金属微粒子３０を前記基板１０の露出部１０ａに塗布する工程と、前記基板１０をエッチング溶液に浸漬して前記マスクパターン２０をマスクとして前記基板の露出部１０ａ下部の基板１０をエッチングすることにより、前記基板１０表面に微細流路４０を形成する工程と、を含む微細流路４０の形成方法である。 - 特許庁

At least one layer of conductive film is formed on an insulating surface, a resist pattern is formed thereon, and then the conductive film having the resist pattern is etched to form a metallized wiring having a tapering angle αcontrolled depending on the bias power density, ICP power density, temperature of a lower electrode, pressure, total flow rate of etching gas, and the ratio of oxygen or chlorine in the etching gas.例文帳に追加

本発明は、絶縁表面上に少なくとも一層の導電膜を形成し、前記導電膜上にレジストパターンを形成し、前記レジストパターンを有する導電膜にエッチングを行い、バイアス電力密度、ＩＣＰ電力密度、下部電極の温度、圧力、エッチングガスの総流量、エッチングガスにおける酸素または塩素の割合に応じてテーパー角αが制御された金属配線を形成することを特徴としている。 - 特許庁

The pattern wiring sheet or electronic device chip has an electric function developing material layer formed of an electronic function developing material on a surface of a flexible sheet base, provided on a mount base of paper, resin, etc., or a hybrid material of both with an adhesive layer interposed therebetween, using an injection head of ink jet principle, so the novel pattern wiring sheet or electronic device chip is provided.例文帳に追加

パターン配線シートあるいは電子デバイスチップは、紙、樹脂等、あるいは両者のハイブリッド材料である台紙基材上に粘着層を介して設けられた可撓性シート基材の表面に、インクジェッド原理の噴射ヘッドを使用して、電気的機能発現材料により形成される電気機能発現材料層を形成するので、新規なパターン配線シートあるいは電子デバイスチップを実現することが可能となる。 - 特許庁

In the method of manufacturing a diffraction optical device having at least two optical materials 1, 3 which are substantially transparent in the wavelength region to be used and having a relief pattern 2 on at least one interface of the two different optical materials, the second material 3 having ≤5,000 mPa.s viscosity is laminated on the first optical material 1 having the relief pattern 2 on at least one surface.例文帳に追加

使用する波長帯域で実質的に透明である少なくとも２つの光学材料１，３と、その少なくとも１つの互いに異なる光学材料１，３の境界面にレリーフパターン３を有する回折光学素子の製造方法において、少なくとも一方の面の上記レリーフパターン２を有した第１の光学材料１の上に、粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以下の第２の光学材料３を積層する。 - 特許庁

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

The diffraction optical element 201 has a relief pattern formed on a surface of thereof, wherein a fine periodic structure 203 having a pitch shorter than the minimum wavelength of working wavelengths is formed on the relief pattern 202, and by changing parameters such as pitch, width and height (or depth) of the fine periodic structure 203, the wavelength dependency of effective refractive index in the fine periodic structure 203 is adjusted.例文帳に追加

本発明は、表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子２０１において、前記レリーフパターン２０２上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造２０３を形成し、該微細周期構造２０３のピッチ、幅、高さ（または深さ）などのパラメータを変えることにより微細周期構造２０３における有効屈折率の波長依存性を調整する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device having the resistance element 41 comprising a resistance pattern 17b and a metal silicide layer 40 formed on a surface thereof, the method has a step S5 of designing the resistance element 41 so that contact resistance R_c between the resistance pattern 17b and metal silicide layer 40 is included in a design resistance value R_d of the resistance element 41.例文帳に追加

抵抗パターン１７ｂとその表面に形成された金属シリサイド層４０とで構成される抵抗素子４１を備えた半導体装置の製造方法であって、抵抗パターン１７ｂと金属シリサイド層４０との接触抵抗R_cを抵抗素子４１の設計抵抗値R_dに含めて抵抗素子４１を設計するステップＳ５を有することを特徴とする半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

A method includes the steps of: preparing a substrate; sequentially forming a lower semiconductor layer, an active layer, and an upper semiconductor layer on the substrate; forming a photoresist pattern on the upper semiconductor layer so that its side wall is inclined to an upper surface of the substrate; and sequentially etching the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer by using the photoresist pattern as an etching mask.例文帳に追加

基板を用意する段階と、前記基板上に、下部半導体層、活性層及び上部半導体層を順次形成する段階と、前記上部半導体層上に、その側壁が前記基板の上部面に対して傾斜するように、フォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして使用し、前記上部半導体層、活性層及び下部半導体層を順次にエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

There is provided a medicine bag 1 having an opening 6, wherein at least one bag piece in a bag upper piece 2 and a bag lower piece 3 forming the medicine bag is either transparent or opaque, and its front surface side becomes a printed surface P and further adhesive agent for use in adhering the upper bag piece 2 and the lower bag piece 3 is coated in a predetermined intermittent pattern.例文帳に追加

開口部６が施された薬袋であって、該薬袋の袋部を形成する袋上片身２と袋下片身３の内、少なくとも一方が透明又は半透明であると共にその表面側がプリント面Ｐとされてなり、かつ、前記袋上片身２と前記袋下片身３とを接合する接着剤が所定の間欠パターンにて塗布されてなることを特徴とする薬袋１。 - 特許庁

The elastic crawler C is equipped with a crawler body made of a resilient material of rubber formed in the shape of endless belt where a plurality of driving projections 2 laid in line at a certain spacing in the crawling circumferential direction are provided on the inside surface 1a and a bunch of lugs 3 formed on the outside surface 1b of the crawler body 1 rigidly with a specified lug pattern.例文帳に追加

無端帯状に形成されたゴム製の弾性体よりなりかつクローラ周方向Ｘにおいて一定間隔おきに並ぶ複数の駆動突起２が内周面１ａに設けられたクローラ本体１と、このクローラ本体１の外周面１ｂに所定のラグパターンで一体に形成された複数のラグ３よりなるラグ群とを備えている弾性クローラＣである。 - 特許庁

In a method of manufacturing the layered capacitor, recessed sections produced by an electrical insulating section are flattened by etching a dielectric layer by performing a step of forming a dielectric, a step of treating the surface of the dielectric, a step of forming a pattern on a metallic electrode, a step of forming the metallic electrode, and a step of treating the surface of the metallic electrode in the same vacuum tank.例文帳に追加

同一真空槽内で、誘電体を形成する工程と、誘電体の表面を処理する工程と、金属電極にパターンを形成する工程と、金属電極を形成する工程と、金属電極表面を処理する工程を有し、誘電体層を蝕刻して電気絶縁部により生ずる凹部を平坦化することを特徴とする積層コンデンサの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank 20 storing a liquid resist agent 21 to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤２１を収容した液槽２０からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank storing a liquid resist agent to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

To provide a film forming method and a film forming device which form a uniform film in a region to which photo lithography process is applied for the purpose of forming a propagation path or an electrode pattern, etc. of resist films, a sensitive film, etc. on a surface of spherical material to be coated in manufacturing process of a spherical surface acoustic wave element.例文帳に追加

球状弾性表面波素子の製造過程において、被塗布物である球状基材の表面にレジスト、感応膜等の被膜を伝搬路又は電極パターンを形成すること等を目的としたフォトリソグラフィープロセスの適用される領域に均一な被膜を形成するための被膜形成方法及び被膜形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A method for manufacturing the reflection type LCD is characterized in that a stage for forming one color layer 11 over nearly entire surface of a display region on a substrate 6, a stage for forming a reflection layer 12 over nearly entire surface of the one color layer 11 and a stage for exposing a pattern of the one color layer 11 through the reflection layer 12 left by partially removing the reflection layer 12.例文帳に追加

基体６上の表示領域のほぼ全面に一つの色層１１を形成する工程と、その一つの色層１１上のほぼ全面に反射層１２を形成する工程と、その反射層１２を部分的に除去することにより残った反射層１２を通して前記一つの色層１１のパターンを露呈する工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A CPU 401 of a printer 400 produces an object indicating logical sum of variable objects included in a variable printing job, mirror-image inverts the produced object, fills the mirror-image inverted object with a predetermined filling pattern, and controls the filled object to be arranged on a rear surface of a surface where the variable objects are arranged and to be printed.例文帳に追加

印刷装置４００のＣＰＵ４０１が、バリアブル印刷ジョブに含まれる各バリアブルオブジェクトの論理和を示すオブジェクトを生成し、該生成したオブジェクトを鏡像反転し、該鏡像反転したオブジェクトを予め定められた塗りつぶしパターンで塗りつぶし、該塗りつぶしたオブジェクトを、前記各バリアブルオブジェクトが配置される面の裏側面に配置して印刷するように制御する。 - 特許庁

In an IC mount region 60 of an element substrate 10, wide light shield patterns 63 which form parallel stripes and an insulating layer 64 for short-circuit prevention which covers the surface sides of those light shield patterns 63 are formed in an area overlapping with an IC 4 in a plane, and a narrow inspection pattern 69 is formed on the surface of the insulating layer 64 for short-circuit prevention.例文帳に追加

素子基板１０のＩＣ実装領域６０において、ＩＣ４と平面的に重なる領域には、ストライプ状に並列する幅広の遮光パターン６３と、これらの遮光パターン６３の表面側を覆う短絡防止用絶縁層６４とが形成され、短絡防止用絶縁層６４の表面には、幅の狭い検査パターン６９が形成されている。 - 特許庁

The exposed photoresistor is developed, and the vacuum-deposited two layers of gold (platinum) and titanium (chromium) around the patterned photoresistor are etched in order, and then the desired pattern surface is made smooth by etching the glass surface, and after removing titanium (chromium) and gold (platinum), a nickel plating layer is laminated on a glass substrate, and the nickel plating layer is released from a mold to produce a master.例文帳に追加

露光された前記フォトレジスタを現像し、２層に真空蒸着されたゴールド（白金）、チタニウム（クロム）をパターニングされたフォトレジスタを中心に順次にエッチングした後、ガラス表面をエッチングして所望のパターン表面を滑らかにし、チタニウム（クロム）、ゴールド（白金）を除去してからガラス基板にニッケル鍍金層を積層し、ニッケル鍍金層を離型させてマスターを製作する。 - 特許庁

The method for forming the pattern on a dyed fabric is characterized by including water in the dyed fabric, then bringing the dyed fabric into contact with the ozone gas in a contact bath in the absence of fluid water, then decoloring only the surface layer of the dyed fabric, subsequently shaving off the surface layer of the decolored fabric and thereby exposing deep-color parts in the interior of the fabric.例文帳に追加

染色布帛への模様柄形成方法であって、染色布帛に水分を含有させた後、流動水が存在しない接触槽内でオゾンガスと接触させて、前記染色布帛の表面層のみを脱色した後に、脱色された布帛の表面層を削り取ることによって布帛内部の濃色部分を露出させることを特徴とする模様柄形成方法である。 - 特許庁