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w.を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 25405



例文

The housing case 1 is formed by pressure forming a synthetic resin sheet 13 with a transparent window 2a and another opaquely decorated portion to deeply draw the sheet 13, thereafter filling a transparent synthetic resin 14 on a rear surface of the sheet, insert molding it and integrally forming a display window W with the window 2a.例文帳に追加

本発明にかかるハウジングケース1は、窓部2aが透明で他を不透明に加飾した合成樹脂製シート13を圧空成形することで深絞り形成し、その後、上記シートの裏面に透明な合成樹脂14を充填してインサート成形し、前記窓部2aに表示窓を一体に成形したハウジングケース1を提案して、上記課題を解決可能する。 - 特許庁

The epitaxial vapor growth film formation apparatus is provided with a horizontal disc-like susceptor 5 to house a wafer W wherein a vapor growth film is formed and a rotary cylinder 6 to hold and rotate the susceptor 5, wherein a plurality of projections 5b provided around the periphery of the susceptor 5 are engaged with a plurality of key-shaped projections 6a provided on the upper side of the rotary cylinder 6.例文帳に追加

気相成長膜を形成するウェハーを収容する水平円盤型のサセプタ5と、前記サセプタ5を保持して回転させる回転胴6と、を備え、前記サセプタ5の周縁部に設けられた複数の突起部5bと、前記回転胴6の上部に設けられた複数の鍵型突起部6aと、を係合させる構成を有することを特徴とする。 - 特許庁

This method has a dropping process step (S4) of dropping a prescribed amount of liquid drops to the position deposited with the foreign matter of the surface of a previously perceived work W and a process step (S6) of removing the foreign matter by irradiating the position deposited with the foreign matter with a laser beam L having energy capable of evaporating at least the liquid drops described above.例文帳に追加

予め知得されている被洗浄物表面の異物付着位置に所定量の液滴を滴下する滴下工程(S4)と、少なくとも前記液滴を蒸発可能なエネルギを有するレーザ光Lを前記異物付着位置に照射して、前記異物を除去する工程(S6)とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

A film deposition method of performing deposition processing to a workpiece W on whose surface an insulation layer 1 is formed includes: a first thin film formation process of forming a first thin film 60 consisting of first metal; an oxidation process of oxidizing the first thin film to form an oxide film 60A; and a second thin film formation process of forming a second thin film 62 containing second metal on the oxide film.例文帳に追加

絶縁層1が表面に形成された被処理体に対して成膜処理を施す成膜方法において、第1の金属よりなる第1の薄膜60を形成する第1の薄膜形成工程と、前記第1の薄膜を酸化して酸化膜60Aを形成する酸化工程と、前記酸化膜上に第2の金属を含む第2の薄膜62を形成する第2の薄膜形成工程とを有する。 - 特許庁

例文

when a detector 2a or transformer 4a for a U phase becomes faulty, the operating circuit 5 is designed so as to output a value obtained by subtracting the sum of the secondary output Ov for a V phase and the secondary output Ow for a W phase from a zero-phase output Oz, that is, Oz-(Ov+Ow), as a secondary output for the U phase.例文帳に追加

演算回路5においては、U相の検出部2aもしくは変換器4aが故障した際は、V相の二次出力Ovと相の二次出力Oとの和を零相出力Ozから減算した値、つまりOz−(Ov+O)をU相の二次出力として出力するようになっている。 - 特許庁


例文

This root vegetable harvester has such a mechanism that the respective leaves/stems Wb of two rows of a root vegetable to be harvested are nipped and conveyed by a nipping lift conveyor 12, and left and right two sets of rising position check guides 46 are provided to make the positions of the leaves/stems Wb of each row of the root vegetable W even separately and respectively.例文帳に追加

収穫対象である2条の根菜の葉茎bを単一の前記挟持引上げ搬送装置12によって挟持搬送するよう構成するとともに、前記上昇位置規制ガイド部46を左右2組備えて、収穫対象である2条の根菜の各条の葉茎bを左右2組の上昇位置規制ガイド部46によってそれぞれ各別に位置揃えするよう構成してある。 - 特許庁

Since the light guide 31a and the light guide 31 are joined at a joining jig 38 into a light guide 35, each light from two light source units 40a and 40b being guided after all through the light guide 35 to a lens system 29 and cast to an edge part of a substrate (W) held by a spin chuck 13 to carry out an edge exposing process.例文帳に追加

ライトガイド31aとライトガイド31bとは合流用治具38においてライトガイド35に合流されるため、2つの光源ユニット40a,40bから出射されたそれぞれの光は結局ライトガイド35によってレンズ系29まで導かれ、スピンチャック13に保持された基板の端縁部に向けて出射されてエッジ露光処理が進行する。 - 特許庁

Resistances Ra and Rb arranged between a power application terminal A and the two mid-points B and C are each divided into two equal parts and a potential difference VWX between the contact W of the equal resistances Ra1 and Ra2 and the contact X of the equal resistance Rb1 and Rb2 is amplified by an amplifier 2, so that the potential difference amplified serves as an inspection output.例文帳に追加

また、電源印加端子Aと2つの中点B、Cとの間に配置された抵抗Ra、Rbを2つに等分割すると共に、等分割した抵抗Ra1、Ra2の接点及び抵抗Rb1、Rb2の接点Xの電位差V_WXをアンプ2によって増幅し、この増幅した電位差を検査用出力とする。 - 特許庁

Bar-shaped heaters 30 are disposed on the inner surface 25b side of an electromagnetic wave transmission window 25 to partially prevent the adhesion of a W film (conductive film) to the inner surface 25b of the electromagnetic wave transmission window 25 by means of heating by the heaters 30, and thus, the flowing of induced current due to electromagnetic wave to the conductive film can be prevented.例文帳に追加

電磁波透過窓25の内面25b側に棒状ヒータ30を配置し、このヒータ30の加熱によって電磁波透過窓25の内面25bに膜(導電性膜)が付着するのを部分的に防止することにより、この導電性膜に電磁波による誘導電流が流れるのを防止するように構成する。 - 特許庁

例文

In an asteroid curve represented by a bit line magnetic field H_x generated by a write bit line current I_B and a word line magnetic field H_y generated by a write word line current I_W, manufacturing variations and a design margin are taken into consideration to assume an asteroid curve AC_out outside all memory cell asteroid curves (located with a hatched area of Figure).例文帳に追加

書込ビット線電流I_Bにより発生するビット線磁界H_xと書込ワード線電流I_により発生するワード線磁界H_yとにより表されるアステロイド曲線において、製造ばらつきと設計マージンを考慮し、全メモリセルのアステロイド曲線(図中ハッチング領域内に収まる)よりも外側にアステロイド曲線AC_outを想定する。 - 特許庁

例文

In the lithographic printing plate material, which is formed by providing an undercoating layer, a hydrophilic layer and an image forming layer in the order named and is wound in a roll, after corona discharge treatment is applied to the surface of the undercoating layer by at least 3 W/m^2 min and below 40W/m^2 min, the hydrophilic layer is coated on the undercoating layer.例文帳に追加

プラスチック支持体上に下引層、親水性層、画像形成層を順次設け、ロール状に巻回される平版印刷版材料において、該下引層表面に3/m^2・分以上、40/m^2・分未満のコロナ放電処理を施した後、親水性層を塗設することを特徴とする平版印刷版材料。 - 特許庁

In forming a miniaturized fine contact, a TiN film 109 is formed inside the contact hole into which contact wiring such as a W film 108 is to be filled, and while heating at 600°C or lower, heat treatment is carried out, by irradiating the film with a light having a main emission wavelength shorter than the optical absorption edge, in a short time of 10 msec or shorter.例文帳に追加

微細コンタクト形成時、膜108などのコンタクト配線が埋め込まれるコンタクト孔内部にSiN膜109を成膜し、600℃以下の温度で加熱しながら10msec以下の短時間でシリコンの光の吸収端よりも短波長側に主たる発光波長を有する光で加熱処理を行う。 - 特許庁

The heat-conductive sheet 1 contains a plate-like boron nitride particle 2, and has 4 W/mK or more of thermal conductivity along a surface direction (orthogonal direction) SD orthogonal to a thickness direction TD of the heat-conductive sheet 1, and 125°C or more of glass transition point determined as a peak value of tanδ obtained in dynamic viscoelastic measurement at 10 Hz of frequency.例文帳に追加

板状の窒化ホウ素粒子2を含有する熱伝導性シート1であり、熱伝導性シート1の厚み方向TDに直交する面方向(直交方向)SDの熱伝導率が、4/m・K以上であり、10ヘルツの振動数にて動的粘弾性測定を行なったときに得られるtanδのピーク値として求められるガラス転移点が、125℃以上である。 - 特許庁

The curable resin composition contains (A) a carboxylic copolymer resin, (B) a compound having two or more reactive groups which is cured by an active energy line, (C) a photopolymerization initiator and (D) an inorganic filler having a thermal conductivity of15 W/m K, wherein a content of the inorganic filler (D) is80 mass% of the total solid content.例文帳に追加

(A)カルボキシル基含有共重合樹脂、(B)活性エネルギー線により硬化する反応基を2個以上有する化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)熱伝導率が15/m・K以上の無機充填材を含有してなり、前記無機充填材(D)の含有率が、固形分中に80質量%以上である。 - 特許庁

When water in the lumber is squeezed out from the lumber by compressing on outer surface of the lumber with liquid by arranging the lumber W in liquid L, the lumber is covered by an elastic component 11 to form water-collecting space 12 between the elastic component and the lumber, the lumber is compressed with the liquid, and the water discharged from the lumber is collected in the water-collecting space.例文帳に追加

液体L中に木材を配置して該木材外面を液体で圧縮することにより、木材内の水分を木材から絞り出す際に、前記木材を弾性部材11で覆い、該弾性部材と木材間に集水空間12を形成して前記液体により木材を圧縮し、該木材から排出される水分を前記集水空間に集める。 - 特許庁

This water treating apparatus is constituted so that a plurality of valves 16, 28 are arranged on a raw water W supplying side and an outlet side of the filter 18 respectively and the purified water filtered by the filter 18 is made to flow through a conduit 32 or flow backward through a normal flow conduit for using the purified water by changing over the valves 16, 28 selectively so as to backwash the filter 18.例文帳に追加

濾過器18の原水の供給側と出力側とに複数個の弁16、28を設け、前記弁を選択的に切替えることによって濾過器18によって濾過された浄水を使用に供するための導管32に連絡させるか、あるいは濾過器18を逆洗するようにしてなる水処理装置。 - 特許庁

In the metallic mold for molding glass consisting of at least a base material and a protective layer, the protective layer consists of at least one selected among Ir, Pt, Rh, Pd and Re and the total concentration of W, Co, Ni, Cr and Fe of a molding surface is not more than10^17 atm/m^2.例文帳に追加

少なくとも母材および保護層からなるガラス成形用金型であって、前記保護層が、Ir、Pt、Rh、Pd、およびReよりなる群より選択された少なくとも1つからなり、成形表面の、Co、Ni、Cr、およびFeの合計濃度が1×10^17atm/m^2以下であることを特徴とするガラス成形用金型。 - 特許庁

Between adjoining supports, among a plurality of supports 2 erected apart from each other in parallel, guide members 6 are provided on tip parts of the support arm parts 5 roughly at the same height position to act as a support point when a wire W is vertically suspended in such a way that the long item 7 is pulled toward the front edge side of the support arm part 5.例文帳に追加

平行離隔状態で立設する複数の支柱2のうち隣り合う支柱間で、ガイド部材6が、ほぼ同じ高さ位置にある支持腕部5の先端部分に架設しているため、ワイヤーを鉛直方向に吊り上げた時に支点となって、長尺物7を支持腕部5の先端側に引き出す方向に働かせる。 - 特許庁

Carbon nano fibers are produced through the catalytic CVD process by using a carbon-containing gas as a raw material in the presence of a catalyst comprising one kind or plural kinds of materials selected from at least Cr, Mn, Fe, Co, Ni or their oxides and one kind or plural kinds of materials selected from Cu, Al, Si, Ti, V, Nb, Mo, Hf, Ta, W or their oxides.例文帳に追加

少なくともCr,Mn,Fe,Co,Ni又はこれらの酸化物よりなる群から選ばれた1つ又は複数の材料と、Cu,Al,Si,Ti,V,Nb,Mo,Hf,Ta,又はこれらの酸化物よりなる群から選ばれた1つ又は複数の材料からなる触媒を使用して、炭素含有ガスを原料とした触媒CVD法によりカーボンナノ繊維を製造する。 - 特許庁

In the golf club head, an epoxy resin whose viscosity is 100 cps is prepared as a matrix resin, and a carbon nano-fiber indicating characteristics that an average fiber diameter is 150 nm and a heat conductivity under a temperature state of 15°C is 1500 W/(m×K) is mixed in the ratio of 3 mass% in the epoxy resin as a micro-carbon fiber 8 to obtain a matrix fiber material.例文帳に追加

マトリックス樹脂として、粘度が100cpsのエポキシ樹脂を準備し、これに微細炭素繊維8として、平均繊維径が150nm、熱伝導率が15℃の温度状態下で1500/(m・K)の特性を示すカーボンナノファイバーを3質量%の割合で混入せしめたマトリックス樹脂素材を得た。 - 特許庁

The transfer device 3 is so constituted that it holds the bead core K hung by a hanger arm 7a, carries it to the bead filler forming device 2 along the guide rail G laid between the transfer device and the bead filler forming device 2 and carries the complete bead W formed by this device 2 to a hanger arm 7b on the lower stage side, so as to put it across this arm.例文帳に追加

トランスファー装置3は、ハンガーアーム7aに吊り下げられているビードコアKを把持し、ビードフィラー成形装置2との間に敷設されたガイドレールGに沿ってビードフィラー成形装置2まで搬送し、ビードフィラー成形装置2で成形された完成ビードを下段側のハンガーアーム7bに搬送して掛渡すように構成する。 - 特許庁

This tea reaper is characterized by having the following scheme: a pruning machine unit 3A for pruning work includes a rotary blade 30A, and a blast tube is arranged above and behind the rotary blade 30A so as to blow out air from a fan 23 rearward over the whole area in the longitudinal direction of the rotary blade 30A to feed delivery wind W turning toward a relay conveyor 5.例文帳に追加

剪枝作業に供する剪枝機ユニット3Aはロータリー刃30Aを具えたものであり、このロータリー刃30Aの上方後方側にファン23からの送風をロータリー刃30A長手方向全域にわたって後方側に吹き出す送風管を具えることにより、中継移送装置5に向かう送り込み風を供給するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

In at least a process from the start of the winding of the unvulcanized rubber ribbon R to the completion of the winding thereof, cooling air is continuously blown against the whole of the region specified by the width direction corresponding to the total width W of the unvulcanized rubber member 5 of the surface of a rotating green tire on the way of molding and a predetermined peripheral direction angle range θ to cool the wound unvulcanized rubber R.例文帳に追加

少なくとも未加硫ゴムリボンRの巻付け開始から巻付け終了までの過程において、回転する成型途中の生タイヤ表面の、前記未加硫ゴム部材5の全幅に対応する幅方向範囲と、所定の周方向角度範囲θとで特定される領域の全体に、冷却気体を連続的に吹き付けて、巻付け済の未加硫ゴムリボンRを冷却する生タイヤの成型方法である。 - 特許庁

In a plasma processing apparatus in which a stage 11 having a placement plane 11a for placing a wafer W of the object of the plasma processing is provided, the placement plane 11a has a flatness with a difference of 100 μm or smaller in height after the stage 11 is deformed at a temperature at which the apparatus is used for the plasma processing and before the stage 11 is not deformed.例文帳に追加

プラズマ処理対象のウェハが載置される載置面11aを有するステージ11を備えたプラズマ処理装置において、載置面11aは、プラズマ処理時の装置使用温度でステージ11が変形した後とステージ11が変形する前の高低差が100μm以下の平坦度を有する。 - 特許庁

In each plasma generating nozzle 31, the nozzle piece 37 is made capable of extentson and shrinkage by a tube 36, and the nozzle piece 37 is made capable of rising and descending by a displacement means 39, and a height detection means 38 to detect the height of the workpiece W is provided, thereby, in response to the detection result, the height of the nozzle piece 37 is controlled.例文帳に追加

各プラズマ発生ノズル31において、チューブ36によってノズルピース37を伸縮可能とし、そのノズルピース37を変位手段39によって昇降可能にするとともに、ワークの高さ検知を行う高さ検知手段38を設け、その検知結果に応答して前記ノズルピース37の高さを制御する。 - 特許庁

The illumination optical system for illuminating the surface (M;W) to be irradiated with light from a light source (1) has a distribution forming optical system (3, 4, 7, 8) including an optical integrator (8) and forming the pupil intensity distribution on an illumination pupil behind the optical integrator, and a correction filter (9) arranged in an illumination pupil space including the illumination pupil behind.例文帳に追加

光源(1)からの光で被照射面(M;)を照明する照明光学系は、オプティカルインテグレータ(8)を有し、このオプティカルインテグレータよりも後側の照明瞳に瞳強度分布を形成する分布形成光学系(3,4,7,8)と、上記後側の照明瞳を含む照明瞳空間に配置された補正フィルター(9)とを備えている。 - 特許庁

This device for forming the linear body is provided by arranging multiple number of the forming lines consisting of forming machines 21, false- twisting machines 22 and straightening machines 23, and also withdrawing capstans 42 and dancers 32 in front for forming the multiple number of steel wires W at the same time so as to supply them into a rubber-coating machine of a tire production process without winding up.例文帳に追加

くせ付け機21と仮捻機22と矯正器23とからなるくせ付けラインを複数ライン配設し、前方に、引取りキャプスタン42とダンサー32を配設して、複数本のスチールワイヤを同時にくせ付け加工し、巻き取らずにタイヤ製造工程のゴムコート機へ供給できるうようにする。 - 特許庁

In the method for producing hydrogen by hydrolyzing hydride (8) in a hermetically sealable vessel (2), the hydride (8) and water (W) are separated from each other by a member formed from a water repellent steam permeable material (7) at least a part of which has steam permeability and water molecule permeated through the water repellent steam permeable material (7) is reacted with the hydride (8) to produce hydrogen.例文帳に追加

密閉可能な容器(2)内で、水素化物(8)を加水分解させて水素を発生させる方法であって、前記水素化物(8)と水()とを、少なくとも一部が水蒸気透過性を有する撥水性水蒸気透過材(7)で形成されている部材によって隔離すると共に、該撥水性水蒸気透過材(7)を透過してくる水分子と前記水素化物(8)と反応させて水素を発生させるものである。 - 特許庁

In the magnetic recording medium, a plurality of non-magnetic metal intermediate layers are formed between a base layer and a magnetic layer, one layer thereof consists of at least one element of Ru, Re and Os and contains oxygen and another layer thereof consists of a CoCr alloy containing at lest one element of Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, Ta, W, Re, Os, Ir and Pt.例文帳に追加

下地層と磁性層との間に複数の非磁性金属中間層を形成した構成とし、その内の一つを、Ru,Re,Osのうちの少なくとも1つの元素からなり、かつ酸素を含有する構成とするとともに、さらに別の一つを、Nb,Mo,Ru,Rh,Pd,Ta,,Re,Os,Ir,Ptのうちの少なくとも1つの元素を含むCoCr合金からなる構成とする。 - 特許庁

In the method of supporting the semiconductor wafer for supporting a semiconductor wafer 120 while sticking it on a support 122 with an adhesive agent 124, a working method for the semiconductor wafer is provided with features that a melting temperature of the adhesive agent 124 is within a temperature range of 40-95°C and a heat conductivity of the support 122 is within a range of 100-300 W/mK.例文帳に追加

半導体ウェハ120を接着剤124で支持体122に貼り付けて支持する半導体ウェハの支持方法において,前記接着剤124の融解温度は,40〜95℃の温度範囲にあり,かつ前記支持体122の熱伝導率は,100〜300/mKの範囲にある,ことを特徴とする半導体ウェハの加工方法が提供される。 - 特許庁

In the EB vapor deposition device, a shielding plate 12 made of a metal having a high melting point such as hafnium(Hf), ruthenium(Ru), iridium(Ir), niobium(Nb), molybdenum(Mo), tantalum (Ta), rhenium(Re) and tungsten(W) is disposed along the inner wall of a magnesia(MgO) crucible 4 so as to prevent direct contact between the cobalt(Co) 13 and the crucible 4.例文帳に追加

このEB蒸着装置においては、マグネシア(MgO)製ルツボ4の内壁に沿ってハフニウム(Hf),ルテニウム(Ru),イリジウム(Ir),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),タンタル(Ta),レニウム(Re),タングステン()等の高融点金属からなる遮蔽板12を配置し、コバルト(Co)13と、ルツボ4とが直接接触しないようにしている。 - 特許庁

A proportion of a surface area of an electrodeposition part 3 is more than 80% of an area of base metal 2 in its region on an inner peripheral part 5 which is the region where width (a) from an inner peripheral edge L of the wheel along a mounting hole 4 is less than 15% against width W to an outer peripheral edge M from the inner peripheral edge L of the wheel.例文帳に追加

取付穴4に沿うホイールの内周縁Lからの幅aが、ホイールの内周縁Lから外周縁Mまでの幅に対して15%以下の領域である内周部5においては、電着部3の表面面積の割合をその領域における台金2の面積の80%以上としている。 - 特許庁

A displacement measuring sensor 1 comprises a projector 2 for casting measuring light to a measuring object W, and a light receiver 5 containing a light receiving element 8 having a light receiving region 8a and a focusing lens 7 forming reflection light on the light receiving region 8a as a focal point P, and a light receiving lens 6 for condensing the reflection light in parallel and emitting to the focusing lens 7.例文帳に追加

変位測定センサ1は、測定対象に測定光を照射する投光部2と、受光領域8aを有する受光素子8と反射光を受光領域8a上に結像点Pとして形成させる結像レンズ7と反射光を集光し平行にして結像レンズ7へ出射する受光レンズ6とを含む受光部5と、を備える。 - 特許庁

In a thin film transistor having a polycrystal silicon thin film formed on a substrate through an insulating film and using the polycrystal silicon thin film as an active layer, the thickness d[cm] is made to satisfy d≥5.0×10-4×k1/2 when the thermal conductivity of a material constituting the insulating film is set to be k[W/(cm.K)].例文帳に追加

基板上に絶縁膜を介して成膜された多結晶シリコン薄膜を有すると共に、この多結晶シリコン薄膜を活性層として用いた薄膜トランジスタにおいて、絶縁膜を構成する素材の熱伝導率をk〔/(cm・K)〕とした場合、当該絶縁膜の厚さd〔cm〕を、d≧5.0×10^−4×k^1/2を満たす厚さとする。 - 特許庁

In the alignment mark Sm composed of a mask mark Mm given to a mask M having a specified pattern and of a work mark Wm given to a substrate W so as to align the mask and the substrate, the work mark is composed of a first reference mark Km_1 formed as penetrating the substrate and of a second reference mark Km_2 formed near the first reference mark and not penetrating the substrate.例文帳に追加

所定のパターンを備えるマスクMに設けたマスクマークMmと、基板に設けたワークマークmとにより前記マスクおよび前記基板の整合作業を行う整合マークSmにおいて、前記ワークマークは、その基板に貫通して形成した第一基準マークKm_1と、この第一基準マークの近傍で前記基板に非貫通に形成した第二基準マークKm_2とから構成される整合マークとした。 - 特許庁

The metallic shaft is internally fitted to the cylindrical body consisting of the ceramic having thermal conductivity70 W/mK, a helical or reciprocating groove for passing the medium for heating/cooling is disposed on the outer peripheral surface which comes in contact with the cylindrical body of the metallic shaft, steps are formed on the outside parts of both edges and D-cut is formed on one side or both sides thereof.例文帳に追加

熱伝導率70/m・K以上のセラミックスからなる円筒体に金属シャフトを内嵌めし、該金属シャフトの上記円筒体と接する外周面に、加熱冷却用媒体を通過させる為の螺旋状又は往復状の溝を設け、その両端外形部に段を設けかつ片側もしくは両側にDカットを設ける。 - 特許庁

The capacitor has the structure comprising an electrode with a primary surface 1 and secondary surface 5 and capacitor dielectric material 2 arranged on the surface of the primary surface of the electrode, where the primary surface of the electrode has the Ra value of no more than 200 nm, the Rz (din) value of no more than 2,000 nm and the W value of no more than 250 nm.例文帳に追加

第1の表面1および第2の表面5を有する電極、および電極の第1の表面上に配置されたコンデンサ誘電物質2とを含み、ここで電極の第1の表面が200nm以下のRa値、2000nm以下のRz(din)値、および250nm以下の値を有する構造。 - 特許庁

To prevent color mixing in a drawing device of a trailing stage due to a solvent of functional liquid, sticking on a bank part surrounding a pixel area, in a drawing device of a precedent stage on a drawing operation line for partially applying the functional liquid by respective drawing operations to many pixel areas on a work W by successively providing drawing devices equipped with droplet discharge heads through a work conveying device.例文帳に追加

液滴吐出ヘッドを備える描画装置の複数台をワーク搬送装置を介して連設し、ワーク上の多数の画素領域に各描画装置で分担して機能液を塗布するようにした描画作業ラインにおいて、画素領域を囲うバンク部に前段の描画装置において付着した機能液の溶剤に起因して後段の描画装置で混色を生ずることを防止する。 - 特許庁

According to the shear reinforcing method and the filler injection method, an impregnating material 40 made of an aqueous solution containing an inorganic crystal proliferator, is sprayed to an internal wall surface of a reinforcing member insertion hole 10 formed in a side wall W, and thereafter a shear reinforcing member is inserted into the reinforcing member insertion hole 10, followed by injecting the filler 30.例文帳に追加

側壁に形成された補強部材挿入孔10の内壁面に無機質系の結晶増殖剤を含む水溶液からなる含浸材40を噴霧した後、補強部材挿入孔10にせん断補強部材を挿入するとともに充填材30を充填するせん断補強方法および充填材の充填方法。 - 特許庁

The water heater A is adapted, such that a refrigerant discharge temperature sensor 422 detects abnormal pressure of a discharged refrigerant or a hot-water supply temperature sensor 512 detects boiling temperature, a controller once interrupts operation, and after frat, even if the operation is successively interrupted owing to the same cause plural number of times, upon restarting, the controller determines a warm water circuit W to have failure.例文帳に追加

給湯装置Aは、冷媒吐出温度センサ422が吐出冷媒の異常圧力を検出するか、給湯温度センサ512が沸騰温度を検出すると、制御器が運転を一旦、停止させ、再起動させても、同じ原因で停止してしまう場合が複数回、続くと、温水回路が故障していると制御器が判定する。 - 特許庁

On a road surface 3, a protruded portion 10 is provided which is protruded stepwise from the road surface 3, and whose protruded width W in a tire axial direction is greater than a grounding width WT of the tire in the tire axial direction; and whose protruded length L in a tire peripheral direction is four times the grounding length LT of the tire in the tire peripheral direction.例文帳に追加

路面3上に、該路面3から段差状に突出しかつタイヤ軸方向の突出巾を前記タイヤのタイヤ軸方向の接地巾Tより大かつタイヤ周方向の突出長さLを前記タイヤのタイヤ周方向の接地長さLTの4倍以上とした突起部10を設ける。 - 特許庁

In the model material comprising a porous cured product which is obtained by curing an O/W type aqueous dispersion comprising a radical polymerization type thermosetting resin, the porous cured product comprises an agglomerate of a finely divided cured resin particle, the cured product having excellent cutting processability, and being suitable for the manufacture of the master type for limited production of diversified products, the molding sample, the model or the like.例文帳に追加

ラジカル重合型熱硬化性樹脂からなるO/型水性分散体を、常温または加熱下に硬化させて得られる多孔質硬化物からなる模型用材料であり、この多孔質硬化物は、微細な硬化樹脂粒子集合体からなり切削加工性に優れており、少量多品種のマスター型や成型見本、模型等の作製に適している。 - 特許庁

In a W-CDMA radio base station, the radio base station device 12 is provided with a diffusion code for inter-base station communication and connects up to the exchange network 14 in a peripheral are by performing radio communication with another BTS that does not lose a communication function with the wire circuit in disaster when the radio base station device 12 is constantly disconnected from the wire circuit in emergency such as the disaster.例文帳に追加

−CDMA無線基地局において、無線基地局装置12は、基地局間通信用の拡散コードを設けて、災害等の非常時に有線回線と恒常的に断になった場合に、災害で有線回線との通信機能を失っていない、別のBTSと無線通信を行うことで、周辺地域の交換機網14まで接続する。 - 特許庁

A Pd silicide layer 7 composed of the compound of palladium and silicon is formed on the surface of the layer 2 on the bottom of the opening section 6, and a metallic electrode 10 is formed by using a metallic film 8 composed of a W film and brought into contact with the Pd silicide layer 7 on the bottom of the opening section 6 and the metallic film 9 consisting of an Al film.例文帳に追加

次いで、開口部6の底部にてエピタキシャル層2の表面にパラジウムとシリコンとの化合物からなるPdシリサイド層7を形成した後、膜からなり開口部6の底部でPdシリサイド層7と接触する金属膜8とAl膜からなる金属膜9を用いて金属電極10を形成する。 - 特許庁

In a coating device where a solvent, which is liquid, and a gas are supplied at the same time to be mixed in the tip end of a spray nozzle 17, and a substrate W to be treated is subjected to spray coating, it is controlled so that only the gas is supplied from a gas supply system 7 to a spray gun 17a for a predetermined time immediately before the spray coating.例文帳に追加

液体である溶媒と気体とを同時に供給してスプレイノズル17の先端部で混合して被処理基板に噴霧塗布する塗布装置において、溶媒噴霧塗布を行う直前にてスプレイガン17aに気体供給系7から所定時間気体のみを供給するよう制御する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device for drawing a predetermined pattern by irradiating a mask with a charged particle beam for drawing an image by setting a grounding body 10 comprising a grounding pin 10c vertically installed in a frame-like frame 10a on a mask W in which a grounding body corresponding to the type of the mask can be set and deterioration in throughput can be prevented.例文帳に追加

マスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、額縁状のフレーム10aにアースピン10cを垂設して成るアース体10をマスクにセットして描画を行うものにおいて、マスクにその種類に応じたアース体をセットでき、且つ、スループットの低下も防止できるようにする。 - 特許庁

The process for preparing the W/O emulsion includes a step of adding water, which forms an aqueous phase of the emulsion, to oil that contains a substance to be emulsified and forms an oil phase of the emulsion, and mixing the oil and the water, wherein the water contains closed vesicles formed from an amphiphilic substance that forms closed vesicles spontaneously, and/or particles of a hydroxyl-containing condensation polymer.例文帳に追加

/Oエマルションの製造方法は、乳化対象を含みかつエマルションの油相になる油に対し、自発的に閉鎖小胞体を形成する両親媒性物質により形成された閉鎖小胞体及び/又は水酸基を有する重縮合ポリマーの粒子を含みかつエマルションの水相になる水を添加し、油及び水を混合する工程を有する。 - 特許庁

This hydraulic brake device is provided with the ECU 32 constituted of a master cylinder 22 for supplying hydraulic pressure to brakes B to regulate rotation of each wheel W of a vehicle, a solenoid block 31 mounted on the master cylinder 22 and the case 34 having a control board 33 performing an opening/closing control of a solenoid valve 31a to distribute hydraulic pressure to each of the brakes B and incorporating the control board 33.例文帳に追加

液圧ブレーキ装置は、車両の各車輪の回転をそれぞれ規制するブレーキBに液圧を供給するマスタシリンダ22と、このマスタシリンダ22に取り付けられたソレノイドブロック31と、ソレノイドバルブ31aを開閉制御して各ブレーキBに液圧を配分する制御基板33を有するとともにこの制御基板33を内蔵するケース34とからなるECU32とを備えている。 - 特許庁

The imaging apparatus images at an imaging timing based on a reference pulse PA by making a work pulse PW, which is output in a interval synchronized with a shape part (W1) of a rotating work W, as a trigger, and images at a imaging timing based on the reference pulse PA every time when the reference pulse PA is output from this imaging timing by a pulse number NP between work pulses PW.例文帳に追加

回転中のワークにおける形状部分(1)に同期した間隔で出力されるワークパルスPをトリガーとして、基準パルスPAを基準にした撮像タイミングで撮像し、この撮像タイミングから基準パルスPAが、ワークパルスP間のパルス数NPだけ出力される毎に、基準パルスPAを基準にした撮像タイミングで撮像するようにした。 - 特許庁

例文

Relatively rotating a hardware for threading (a round die for thread rolling) 27 and a workpiece (a shaft like workpiece constituting a main hardware for a spark plug), the rotational angle position of the tool 27 is detected, an opening commencement signal is announced under a predetermined condition, and the tool 27 begins to threading (thread rolling) sticking fast to the workpiece W.例文帳に追加

ねじ加工用の工具(ねじ転造用丸ダイス)27とワーク(スパークプラグの主体金具となるべき軸状のワーク)とを相対回転させながら、工具27の回転角度位置を検出し、所定条件のもとで寄り付き開始信号が発せられ、工具27がワークに食い付いてねじ加工(ねじ転造)を開始する。 - 特許庁

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