「First steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

A tapered part formed in an aperture 23 of a shaft insertion hole 21 of the hosel 4 is composed in two steps; the first tapered part 11 and the second tapered part 12 larger in the taper angle than the first tapered part 11 toward a hosel end face 24.例文帳に追加

ホーゼル部４のシャフト挿入穴２１の開口部２３に形成されたテーパ部が、ホーゼル端面２４に向かって、第一テーパ部１１と、該第一テーパ部１１よりもテーパ角度が大きい第二テーパ部１２との２段階に構成されている。 - 特許庁

The method for producing the novolak type phenol resin comprises the following steps: a first step of reacting the phenols with aldehydes in the presence of phosphoric acids in the heterogeneous system and a second step of adding a water-insoluble organic solvent and water after the first step and recovering the separated aqueous layer.例文帳に追加

フェノール類とアルデヒド類とを、リン酸類の存在下で不均一系反応させる第一工程と、前記第一工程後に非水溶性有機溶剤及び水を添加し、分離した水層を回収する第二工程とを有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the air gap type FBAR includes the steps of: forming a laminated resonant part on a first substrate; forming a cavity on a second substrate; and mutually bonding the first substrate on the second substrate to position the laminated resonant part within the cavity.例文帳に追加

このエアギャップ型ＦＢＡＲの製造方法は、第１基板上に積層共振部を形成する段階、第２基板上にキャビティを形成する段階、キャビティ内に積層共振部が位置するように第２基板上に第１基板を相互に接合する段階を含む。 - 特許庁

A first and a second focus information of a projection optical system are determined by forming images of patterns in a plurality of part area in a first and a second regions on a substrate at every focal points (steps 407-425).例文帳に追加

投影光学系によりパターンの像をフォーカス位置毎に基板上の第１の領域内及び第２の領域内の複数の部分領域にそれぞれ形成し（ステップ４０７〜４２５）、投影光学系の第１のフォーカス情報及び第２のフォーカス情報を求める。 - 特許庁

The method includes steps for irradiating a first area including a collection vessel and a second area not including the collection vessel with electromagnetic waves of several tens GHz to several THz, and correcting a principal physical quantity related to an the intensity of the electromagnetic wave which has transmitted the first area by an auxiliary physical quantity related to the intensity of electromagnetic wave which has transmitted the second area.例文帳に追加

捕集容器を含む第１部位と捕集容器を含まない第２部位とに周波数が数10GHz 〜数THz の電磁波を照射し、第１部位を透過した電磁波の強度に関連した主物理量を第２部位を透過した電磁波の強度に関連した補物理量で補正する。 - 特許庁

During pre-rotation when forming the image, the constant voltage to be applied to a primary transfer roller 54Y during first image formation is set by applying specified voltage at two steps to a primary transfer part T1 and measuring voltage and current characteristic in the first ATVC control.例文帳に追加

画像形成時の前回転時、１回目のＡＴＶＣ制御では、二段階の規定電圧を一次転写部Ｔ１に印加して電圧電流特性を測定して初回の画像形成で一次転写ローラ５４Ｙに印加する定電圧を設定する。 - 特許庁

This method has steps of: preparing a first and a second sliding member each having a diamond thin film on the surface of a basis material made of ceramics; and smoothing the respective surfaces of the diamond thin films by allowing the respective diamond thin films of the first and the second sliding part to rub together.例文帳に追加

セラミック製の基材表面にダイヤモンド薄膜を有する第一摺動部材と第二摺動部材とを用意する工程と、第一摺動部と第二摺動部のダイヤモンド薄膜同士を擦り合わせることでダイヤモンド薄膜表面を平滑にする工程とを具える。 - 特許庁

This image forming device has a fixing unit 5 to be used commonly in a first and second fixing steps, and a paper form accumulation tray (recorded sheet storage) 6 for once storing the paper forms (recorded sheet) P with images tentatively fixed in the first fixing step.例文帳に追加

１次定着工程と２次定着工程の双方を行う共通の定着器５を備えるとともに、１次定着工程でトナー像を仮定着した用紙（記録シート）Ｐをいったん蓄積する用紙蓄積トレイ（記録シート蓄積手段）６を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a transfer mask includes steps of forming: an opening in a first substrate; a pattern forming part by bonding the first substrate in which the opening has been formed and a second substrate; and a charged particle beam through-hole in the pattern forming part.例文帳に追加

第１の基板に開口部を形成する工程と、開口部が形成された第１の基板と第２の基板とを接合してパターン形成部を形成する工程と、パターン形成部に荷電粒子線透過孔を形成する工程と、を含むことを特徴とする転写マスクの製造方法。 - 特許庁

This method for setting a data transfer rate comprises steps for: initializing a first data transfer rate between the host and the device; transferring a change instruction for the data transfer rate; and initializing a second data transfer rate different from the first data transfer rate in response to the change instruction.例文帳に追加

データ伝送速度の設定方法は、ホストとデバイスとの間の第１データ伝送速度を初期化する段階、データ伝送速度の変更命令を伝送する段階と、及び前記変更命令に応答して前記第１データ伝送速度と異なる第２データ伝送速度を初期化する段階を含む。 - 特許庁

The method of fabricating a semiconductor device includes the steps of forming a first electrode, a light-emitting layer containing zinc sulfide and manganese on the first electrode, and forming a second electrode on the light-emitting layer; and after the formation of the light-emitting layer, applying thermal treatment to the light-emitting layer.例文帳に追加

第１の電極を形成し、前記第１の電極上に、硫化亜鉛及びマンガンを含む発光層を形成し、前記発光層上に第２の電極を形成し、前記発光層を形成後、前記発光層を加熱処理する工程を有する半導体装置の作製方法に関する。 - 特許庁

The target component is calculated, while acquiring a spectrum relative to the measuring object and a reference in the first and second steps, and while acquiring a difference Δ between a light quantity measured in the first step and a light quantity measured in the second step as a spectrum in the third step.例文帳に追加

第１および第２ステップにおいては、測定対象およびリファレンスについてスペクトルを取得し、第３ステップにおいては、第１ステップにおいて測定された光量と、第２ステップにおいて測定された光量との差分Δをスペクトルとして取得しつつ目的成分を演算する。 - 特許庁

The method includes the steps of programming the first reference cell to a first voltage threshold level that is centered within a data bit '1' distribution of the core cells, and programming the second reference cell to a second voltage threshold level that is centered within a data bit '0' distribution of the core cells.例文帳に追加

本方法は、前記第１基準セルを、前記コアセルのデータビット“１”分布にて中央にある第１電圧閾値レベルにプログラミングするステップ、及び前記第２基準セルを、前記コアセルのデータビット“０”分布にて中央にある第２電圧閾値レベルにプログラミングするステップより成る。 - 特許庁

In another example, a method for actuating the ultrasonic system includes the steps of releasing the first signal in a first frequency range from the transducer to actuate in the k_31 mode, emitting the signal into a living body, and detecting the second signal limited within a second frequency range.例文帳に追加

他の実施例では、超音波システムを動作させる方法は、ｋ_３１モードで動作するトランスデューサから第１の周波数範囲内の第１の信号を放出する段階と、信号を体内へ放射する段階と、第２の周波数範囲に制限された第２の信号を検出する段階とを含む。 - 特許庁

The method includes the steps of: detecting a touch of a screen; and setting a luminance value of the screen of a screen area to which touch is detected, to a first value and setting a luminance value of the screen of the residual screen area to a second value that is lower than the first value.例文帳に追加

該方法は、画面のタッチを感知する過程と、タッチが感知された画面領域の画面の明るさの値を第１値に設定し、残りの画面領域の画面の明るさの値を前記第１値より低い第２値に設定する過程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A process for preparing the highly concentrated antibody compositions includes: a step of subjecting a first antibody preparation to a first ultrafiltering, thereby providing a second antibody preparation; and a step of diafiltering the second antibody preparation; and then subjecting the second antibody preparation to second ultrafiltering, wherein one or more of the steps are accomplished at about 30°C to about 50°C.例文帳に追加

第一抗体調製物に第一限外濾過を施して第二抗体調製物を提供し、当該調製物をダイアフィルトレーション、及び第二限外濾過を施し、上記プロセスの一以上が約３０℃〜約５０℃で行なわれる抗体組成物の濃縮方法。 - 特許庁

A method for manufacturing stacked oxide material comprises steps of: forming an oxide member on a base member; forming a first oxide crystal member which is made crystal growth from a surface toward the inside of the oxide member by applying heat treatment; and stacking and forming a second oxide crystal member on the first oxide crystal member.例文帳に追加

下地部材上に、酸化物部材を形成し、加熱処理を行って表面から内部に向かって結晶成長する第１の酸化物結晶部材を形成し、第１の酸化物結晶部材上に第２の酸化物結晶部材を積層して設ける積層酸化物材料の作製方法である。 - 特許庁

This method includes steps (80 and 82) for giving a previously fixed number of configuration accesses given from a primary bus to the first secondary port and steps (80 and 84) for giving the configuration access given from the primary bus to the secondary port after the previously fixed number of configuration accesses.例文帳に追加

この方法は、プライマリバスから与えられる予め定められる数のコンフィギュレーションアクセスを、第１のセカンダリポートに与えるステップ（８０および８２）と、予め定める数のコンフィギュレーションアクセスの後、プライマリバスから与えられるコンフィギュレーションアクセスを、第２のセカンダリポートに与えるステップ（８０および８４）とを含む。 - 特許庁

Then, the phase comparator 13 is connected to the DLL loop by the switching circuit 15 at a timing of rise edge of the input clock CLK1, the number of steps of delay cells of the first variable delay circuit 11 is set at the number of steps corresponding to a counter value of the counter 14, and a usual DLL locking operation is performed.例文帳に追加

そして、入力クロックＣＬＫ１の立上りエッジのタイミングで、切換回路１５により位相比較器１３をＤＬＬループに接続するとともに、カウンタ１４のカウンタ値に相当する段数に、第１可変遅延回路１１の遅延セル段数を設定してから、通常のＤＬＬロック動作を行わせる。 - 特許庁

Reflecting members 30 are aligned in the vicinity of the rear face of the light guide 20 at a constant interval 28, and are provided with second diffusion steps 31 reflecting the irradiation light α1 toward the first diffusion steps 24 of the light guide 20 at the front face, as well as second step faces 32 as reflecting surfaces for reflecting the irradiation light α1.例文帳に追加

反射部材３０は、導光体２０の後面近傍で一定の間隔２８を保って配置され、出射光α１を導光体２０の第１拡散ステップ２４へ向けて反射する第２拡散ステップ３１を前面に有し、出射光α１を反射する反射面である第２ステップ面３２を有している。 - 特許庁

The method for semiconductor solidification includes steps for: forming a bath of molten semiconductor 103 from a first charge 120 of semiconductor which includes dopants; and solidifying the molten semiconductor 103, and in addition includes, during solidification, the implementation of one or more steps for the addition of supplementary charges 120 of semiconductor, which also contains dopants, to the bath of molten semiconductor 103.例文帳に追加

ドーパントを含む第一の半導体チャージ１２０から溶融半導体１０３のバスを形成する段階と、溶融半導体１０３の凝固段階とを含み、更に、ドーパントを含む補充半導体チャージ１２０を溶融半導体１０３のバスに添加する一つ以上の段階を、凝固中に実施することを含む。 - 特許庁

The cover 12 is constituted so as to move in a plurality of steps and a socket 61 to which a USB connector 60 can detachably be connected is provided on the case 11, so that the lens 17 is opened in a first step of opening the cover 12, and the sockets 61 are opened in second and third steps of opening the cover 12.例文帳に追加

蓋体１２を複数段階に移動可能に構成すると共に他の電子機器のＵＳＢコネクタ６０が着脱自在に接続されるソケット６１を筐体１１に設け、蓋体１２の開放時の第１段階において対物レンズ１７が開放され、開放時の第２段階又は第３段階においてソケット６１が開放されるようにする。 - 特許庁

This method comprises steps of (a) supplying a semiconductor substrate into a reactor; (b) supplying a first precursor gas into the reactor in a pulse state; (c) supplying a second precursor gas into the reactor in a pulse state; (d) supplying an inert atmosphere into the reactor; and (e) repeating the steps of (b) to (d).例文帳に追加

この方法は、ｆ’）半導体基板を反応器内に供給するステップと、ｇ’）第１の前駆体ガスをパルス状で反応器内に供給するステップと、ｈ’）第２の前駆体ガスをパルス状で反応器内に供給するステップと、ｉ’）不活性雰囲気を反応器内に供給するステップと、ｊ’）ステップ（ｇ）からステップ（ｉ）までを繰り返すステップとを含んでいる。 - 特許庁

The process steps from forming the diffusion-barrier base film to forming the first copper film are performed continuously in vacuum without exposing the semiconductor substrate to the atmospheric air, and during the process steps, the diffusion barrier base film is heated after the vacuum condition is reached to a vacuum level of 1 × 10^-4 Pa or lower.例文帳に追加

拡散バリア用下地膜の形成から前記第１の銅膜形成までの工程が、前記半導体基板を大気に晒すことなく真空一貫の状態で行われると供に、当該工程の間に、到達真空度で１×１０^-4Ｐａ以下の真空状態にしてから前記拡散バリア用下地膜が加熱される。 - 特許庁

In the moving sidewalk having a plurality of steps which circularly move while maintaining the same vertical plane between an entry port side and an exit port side, the steps are comprised of a first step 2a and a second step 2b which are alternately arranged while a front edge side and a posterior edge side formed in different shapes along a moving direction abutting on each other.例文帳に追加

乗り口側と降り口側との間を同一垂直面内で循環移動する複数の踏段を有する動く歩道であって、踏段は、異なる形状に形成されて移動方向に沿った先端側と後端側とを互いに当接させて交互に配置された第１踏段２ａと第２踏段２ｂとからなる。 - 特許庁

When depositing the colossal magneto-resistive material thin film which has epitaxially grown after crystal orientation on a base electrode by sputtering using facing targets, a sputtering process having at least two steps are used, a deposition rate is relatively slowed down in the sputtering process in a first step, and the deposition rate is relatively accelerated in the sputtering process in later steps to form the thin film.例文帳に追加

対向ターゲットを用いたスパタッリングによって下地電極上の結晶方位に倣ってエピタキシャル成長した巨大磁気抵抗材料薄膜を成膜する際に、少なくとも２段階のスパッタリング工程を用い、第１段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に遅くし、その後の段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に速くして薄膜を形成する。 - 特許庁

An FFT circuit 100 comprises; a first FFT processing section 110 which performs (M-1) steps of FFT processing to two parallel 2^M-1 digital signals; a second FFT processing section 120 which performs (N-M+1) steps of FFT processing to 2^N digital signals; and a third FFT processing section 130 which performs one step of FFT processing to 2^Mdigital signals.例文帳に追加

ＦＦＴ回路１００は、２つの並列した２^Ｍ−１個のデジタル信号に対して（Ｍ−１）段のＦＦＴ処理を行う第１のＦＦＴ処理部１１０と、２^Ｎ個のデジタル信号に対して（Ｎ−Ｍ＋１）段のＦＦＴ処理を行う第２のＦＦＴ処理部１２０と、２^Ｍ個のデジタル信号に対して１段のＦＦＴ処理を行う第３のＦＦＴ処理部１３０とを有する。 - 特許庁

An exposure system 100 with a plurality of units contains a planning means for planning a processing step in each lot, a coupling means for coupling the processing steps which have been planned by the planning means, and relate to a first and second lot to be successively processed, and a control means for controlling the plurality of units based on the processing steps coupled by the coupling means.例文帳に追加

複数のユニットを有する露光装置１００は、各ロットに関して処理工程を計画する計画手段と、前記計画手段により計画された、連続して処理されるべき第１及び第２のロットに関する処理工程を結合する結合手段と、前記結合手段により結合された処理工程に基づいて、前記複数のユニットを制御する制御手段とを有する。 - 特許庁

Methods (400, 500) for forming the active area or the flat panel (200, 300) in the X-ray detection device include steps (410, 510) for forming at least one flat shape factor panel of first dimensions on a substrate of second dimensions, and steps (412, 520) for extending at least one contact point of at least one flat shape factor panel.例文帳に追加

Ｘ線検出装置におけるアクティブ領域又はフラットパネル（２００、３００）を形成する方法（４００、５００）は、第１の寸法の少なくとも１つのフラット形状因子パネルを第２の寸法の基板上に形成する段階（４１０、５１０）と、少なくとも１つのフラット形状因子パネルの少なくとも１つの接点を延長する段階（４１２、５２０）とを含む。 - 特許庁

First, a schema information element is prepared from schema information in a database (steps 51 to 53) and it is utilized as a template for reading and converting a database item and preparing a data information element (steps 54 to 57), thereby converted XML data is made to have an XML document instance form.例文帳に追加

まず、データベースのスキーマ情報からスキーマ情報エレメントを作成し（ステップ５１〜５３）、それをテンプレートとして、データベース項目の読み出し、変換、およびデータ情報エレメントの作成などに利用する（ステップ５４〜５７）ことにより、変換後のＸＭＬデータを、ＸＭＬ文書インスタンス形式とする。 - 特許庁

A method for inspecting the compressor includes steps for: operating the compressor at a first output level; measuring a flow rate of the working fluid at the first output level; adjusting a pressure of the working fluid to equal a first predetermined pressure; and measuring operating parameters of the compressor at the first output level.例文帳に追加

本圧縮機を検査する方法は、第１の出力レベルで圧縮機を作動させるステップと、第１の出力レベルで作動流体の流量を測定するステップと、作動流体の圧力を第１の所定の圧力に等しくなるように調整するステップと、第１の出力レベルで圧縮機の作動パラメータを測定するステップとを含む。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a first film by coupling a first compound having an acid dissociable group to a substrate; forming a second film by using the composition; exposing the second film to remove a protective group from the first film corresponding to an exposed portion; removing the second film; and coupling a second compound to the portion in the first film where the protective group is removed.例文帳に追加

本方法は、酸解離性基を有する第１化合物を基板に結合して第１膜を形成する工程、第１膜上に、組成物を用いて第２膜を形成する工程、第２膜を露光して、露光された部分に対応する第１膜から保護基を除去する工程、第２膜を除去する工程、第１膜のうち保護基が除去された部位に第２化合物を結合する工程、を備える。 - 特許庁

The image obtaining method includes the steps of: obtaining a first image captured by directing light having a first wavelength to the observation area and receiving light emitted from the observation area, and a second image captured by directing light having a second wavelength shorter than the first wavelength to the observation area and receiving light emitted from the observation area; and obtaining the deep portion image of the observation area by subtracting the second image from the first image.例文帳に追加

被観察部への第１の波長の光を照射することによって被観察部から発せられた光を受光して撮像された第１の画像と、被観察部へ第１の波長よりも短い第２の波長の光を照射することによって被観察部から発せられた光を受光して撮像された第２の画像とを取得し、第１の画像から第２の画像を減算することによって被観察部の深部画像を取得する。 - 特許庁

The method comprises the steps of: generating the first signal by performing a first operation using a first channel signal in the multi-channel signals; and generating the second signal by performing a second operation using a combination of the first channel signal and a second channel signal in the multi-channel signals.例文帳に追加

多チャンネル信号を構成する第１チャンネルの信号を利用して、所定の第１演算を行って、第１信号を生成するステップと、第１チャンネルの信号及び前記の多チャンネル信号を構成する第２チャンネルの信号を組み合わせて利用して、所定の第２演算を行って、第２信号を生成するステップとを含むことを特徴とする符号化方法。 - 特許庁

This method includes the steps of cutting out a first lamella to form a first scleral valve 10, lifting the same toward the cornea 4 to make a first recessed part 11, cutting out a second lamella to form a second scleral valve 12, and lifting the same toward the first scleral valve 10, thereby pouring an extension medium into a serum tube 5 through an exposed part.例文帳に追加

第１層板を切開して第１強膜弁１０を形成し、それを角膜４方向に持ち上げ第１陥凹部１１を作り、そこで第２層板を切開して第２強膜弁１２を形成しそれを第１強膜弁１０方向に持ち上げ露出された部分を通じて拡張媒体をシュレム管５に注入する段階を含む方法を提供する。 - 特許庁

A method for front-end image processing of small viewfinder images and large still images captured by the device comprises the steps of: capturing a first image with a device; processing the first image using line buffers sized to accommodate an image width of the first image; and using the device to capture a second image having an image width larger than the image width of the first image.例文帳に追加

デバイスによって取得された小さなビューファインダ画像及び大きな静止画像のフロントエンド画像処理のための方法は、デバイスを用いて第１の画像を取得することと、第１の画像の画像幅を収納できる大きさのラインバッファを用いて第１の画像を処理することと、デバイスを用いて、第１の画像の画像幅よりも大きい画像幅を有する第２の画像を取得することとを備える。 - 特許庁

The method of fabricating the liquid crystal display device comprises steps for: providing the first and the second substrates having the display region and the driver region; forming the first sealant overlapping the driver region on at least one of the first and the second substrates; and forming a liquid crystal layer between the first and the second substrates.例文帳に追加

また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、画像表示領域とドライバ領域を持つ第１基板及び第２基板を形成する工程と、第１基板及び第２基板の少なくとも一つの上に、ドライバ領域と重畳される第１シーラントを形成する工程と、第１基板及び第２基板間に液晶層を形成する工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes the steps of forming a first insulating film 25 on the upper side of a silicon substrate 10, forming an impurity layer 22 to the first insulating film 25 by implanting impurity ion in the predetermined depth of the first insulating film 25, and thereafter reforming the impurity layer 22 to a barrier insulating film 23 by annealing the first insulating film.例文帳に追加

シリコン基板１０の上方に第１絶縁膜２５を形成する工程と、第１絶縁膜２５の所定の深さに不純物をイオン注入することにより、第１絶縁膜２５に不純物層２２を形成する工程と、不純物層２２を形成した後、第１絶縁膜をアニールすることにより、不純物層２２をバリア絶縁膜２３に改質する工程とを有する半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

This manufacturing method also includes steps of exposing parts outside the opening in the first photosensitive organic film 1, removing the parts outside the opening in the first photosensitive organic film 1 by development, and forming a first organic film 11 by curing parts in the opening in the first photosensitive organic film 1 with ultraviolet light.例文帳に追加

この製造方法は更に、第１感光性有機膜１において開口外の部位を露光する工程と、第１感光性有機膜１において開口外の部位を現像により除去する工程と、第１感光性有機膜１において開口内の部位を紫外線により硬化させることによって第１有機膜１１を形成する工程を有する。 - 特許庁

This manufacturing method of the printed circuit board comprises the steps of forming a circuit pattern which includes the land on one side of a first substrate; forming the paste bump on the land on the first substrate; and laminating an insulating material on the one side of the first substrate so that the paste bump penetrates the insulating material, wherein the paste bump is formed so as to cover the land of the first substrate.例文帳に追加

印刷回路基板の製造方法は、第１基板の一面にランドを含む回路パターンを形成する段階と、第１基板のランド上にペーストバンプを形成する段階と、及びペーストバンプが絶縁材を貫通するように第１基板の一面に絶縁材を積層する段階とを含み、ペーストバンプが第１基板のランドをカバーするように形成されることを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises steps of: driving a varying current through a stack during an opening phase including a first opening stage and a second opening stage; driving the stack during the first opening stage with a first opening current level for a first opening time period; and driving the stack during the second opening stage with a second opening current level for a second opening time period (SOT).例文帳に追加

この方法は、第１の開弁段階および第２の開弁段階を含む開弁フェーズ中に、積層体を通して変化電流を駆動するステップと、第１の開弁段階中に、第１の開弁期間の間、第１の開弁電流レベルで積層体を駆動するステップと、第２の開弁段階中に、第２の開弁期間（ＳＯＴ）の間、第２の開弁電流レベルで積層体を駆動するステップとを含む。 - 特許庁

The method for fabricating the LCD includes steps of loading a first substrate having liquid crystal dropped thereon and a second substrate having sealant coated thereon on a bonding chamber, aligning the first and the second substrate, bonding the first and the second substrates with a varied pressure applied thereto and unloading the bonded first and second substrates.例文帳に追加

本発明は、液晶が滴下された第１基板とシール剤が付与されている第２基板を合着機チャンバ内にローディングする工程と、前記第１、第２基板を整列する工程と、圧力を可変して前記第１、第２基板を合着する工程と、また、前記合着された第１，第２基板をアンローディングする工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

A manufacturing method of an alloy wiring board includes steps of forming a first wiring layer, by printing ink containing a first metal particle on a substrate, corresponding to a circuit pattern; laminating a second wiring layer on the first wiring layer, by printing the ink containing a second metal particle on the substrate; and (c) sintering the first wiring layer and the second wiring layer.例文帳に追加

本発明の 合金配線基板製造方法は、回路パターンに対応して基板上に第１金属粒子を含むインクを印刷して第１配線層を形成する段階と、基板上に第２金属粒子を含むインクを印刷して第１配線層上に第２配線層を積層する段階と、（ｃ）第１配線層及び第２配線層をシンタリングする段階とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the microwire includes steps of: preparing an electrode assembly comprising a first electrode and a second electrode between which a space having a first wide width and a second width smaller than the first width are formed; supplying the solution to the space; and applying a voltage to the first electrode and the second electrode to apply a three-dimensional electric field to the solution.例文帳に追加

ここで、微細ワイヤの製造方法は、広幅及び前記広幅より狭い狭幅を有する空間部が間に形成される、第１電極及び第２電極を含む電極部を準備する段階と、前記空間部に前記溶液を提供する段階と、及び、前記第１電極及び前記第２電極に電圧を印加して、前記溶液に３次元電場を印加する段階とを含む。 - 特許庁

In first and second electrode printing steps, a plurality of internal electrode patterns 611 to 616 are formed by screen-printing in a first region of a ceramic green sheet 51 in a first direction, and a plurality of internal electrode patterns 611 to 616 are formed by screen-printing in a second region in a second direction opposite to the first direction.例文帳に追加

第１及び第２の電極印刷工程において、セラミックグリーンシート５１の第１の領域に第１の方向へスクリーン印刷して複数の内部電極パターン６１１〜６１６を形成し、第２の領域に第１の方向と逆方向の第２の方向へスクリーン印刷して複数の内部電極パターン６１１〜６１６を形成する。 - 特許庁