「First steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

After the first lining is completed, a form for second lining is provided so that the work stage 40 is surrounded, the work stage 40 is allowed to rise in steps, and at the same time concrete is placed between a first lining concrete wall 81 and the form for second lining for secondary lining.例文帳に追加

１次覆工終了後は、作業ステージ４０を囲むように２次覆工用型枠を設け、作業ステージ４０を段階的に上昇させながら、１次覆工コンクリート壁８１と２次覆工用型枠との間にコンクリートを打ち継ぎ２次覆工を行なう。 - 特許庁

The charging battery is charged after successively performing the following steps, that is, constant current charging (a step S2) by a first constant current value ICC1, constant current charging (a step S4) by a second constant current value ICC2 smaller than the first constant current value ICC1, and constant voltage charging (a step S5).例文帳に追加

第１の定電流値ＩＣＣ１による定電流充電（ステップＳ２）と、第１の定電流値ＩＣＣ１よりも小さい第２の定電流値ＩＣＣ２による定電流充電（ステップＳ４）と、定電圧充電（ステップＳ５）とを順次に経て充電池を充電する。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device of the present invention includes the steps of: forming the groove portion on the semiconductor substrate; forming a first separation film and a second separation film by growing the oxide film on a bottom surface of a first opening and a bottom surface of the groove portion; and forming the PiP capacitive element on the second separation film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板に溝部を形成し、第1の開口部の底面と溝部の底面に酸化膜を成長させて第１の分離膜及び第２の分離膜を形成し、第２の分離膜上にＰｉＰ容量素子を形成する工程を含む。 - 特許庁

The method further includes the steps of: uplink bearer data and control information from the subscriber station being first received by the relay station and then forwarded to the base station; downlink bearer data from the base station being first received by the relay station and then forwarded to the subscriber station.例文帳に追加

方法は、加入者局からのアップリンクベアラデータおよび制御情報が、まず中継局によって受信され、次いで基地局に転送されるステップと、基地局からのダウンリンクベアラデータがまず中継局によって受信され、次いで加入者局に転送されるステップとをさらに含む。 - 特許庁

Time interval TA1 from time T1 when first detection signal Hsync1 is outputted till time T2 when second detection signal Hsync2 is outputted from a sensor 60 following the first detection signal Hsync1 is determined, and then a speed variation is determined from a variation in the time interval (steps S3-S6).例文帳に追加

第１検知信号Ｈsync1が出力された時刻Ｔ1から該第１検知信号Ｈsync1に続いてセンサ６０から第２検知信号Ｈsync2が出力された時刻Ｔ2までのインターバル時間ＴＡ1を求めて、該インターバル時間の変動から速度変動を求める（ステップＳ３〜Ｓ６）。 - 特許庁

In this case, the second step for covering the Si surface exposed by the rare hydrofluoric acid of the first step with the chemical oxide film and the third step for removing water on the surface are added between the first and the fourth steps which have been conducted in a related art.例文帳に追加

これは、従来より行われている第１の工程と第４の工程との間に、第１の工程の希フッ酸洗浄で露出するＳｉ面を化学酸化膜で被覆する第２の工程と、その表面の水分を除去する第３の工程とを追加したものである。 - 特許庁

The noise level of first image data corresponding to a predetermined region in image data outputted from an imaging means is calculated (step S303) and in accordance with the calculated noise level of the first image data (step S305), the noise of the imaging means is eliminated (steps S306, S307).例文帳に追加

撮像手段から出力される画像データのうち所定領域に該当する第１の画像データのノイズレベルを算出し（ステップＳ３０３）、算出される第１の画像データのノイズレベルに応じて（ステップＳ３０５）、撮像手段のノイズを除去する（ステップＳ３０６、３０７）。 - 特許庁

This method comprises the steps of detecting the ambient temperature in the air conditioning space, operating to defrost hot cargos when the ambient temperature in the air conditioning space is higher than a set temperature, and starting a first defrosting cycle to remove condensate from the evaporator coil and terminating the first defrosting cycle.例文帳に追加

空調空間の気温を検出すること、空調空間の気温が設定温度より高いとき、温かい積荷除霜を作動可能にすること、蒸発器コイルから凝縮物を取り除くために第１の除霜サイクルを始め、第１の除霜サイクルを終了することを含む方法を用いる。 - 特許庁

If the formation of the first dye film 21a and the formation of the second dye film 21b are performed by separate steps in the manner described above, the simultaneous use of the first organic dye and the second organic dye as a material for the recording layer is made possible even if both the organic dyes do not dissolve in the same solvent.例文帳に追加

このように、第１色素膜２１ａの形成と第２色素膜２１ｂの形成とを別工程により行えば、第１の有機色素と第２の有機色素とが同一の溶媒に溶解しない場合であっても、これらを記録層の材料として同時に用いることが可能となる。 - 特許庁

The method comprises: a rectangle approximation step S30 of approximating a planned pattern by rectangles to generate a rectangle approximation pattern; steps S40, S50 of generating a first correction pattern based on the rectangle approximation pattern; and a step S60 of generating an irradiation pattern by enlarging the first correction pattern by a process bias Δ.例文帳に追加

計画パターンを、矩形により近似して矩形近似パターンを生成する矩形近似工程Ｓ３０と、矩形近似パターンに基いて第１補正パターンを生成する工程Ｓ４０，Ｓ５０と、第１補正パターンを、プロセスバイアスΔだけ拡大させて、照射パターンを生成する工程Ｓ６０と、を具備する。 - 特許庁

A method for manufacturing the pneumatic tire comprises the steps of laminating an unvulcanized tread 12 on a outer peripheral surface of a band assembly 24, then first pressing the bottom of a first groove 26 and the bottom of a second groove 28 by a groove bottom stitcher roll 30, and pushing out air near the bottom of the groove between the tread 12 and the assembly 12.例文帳に追加

未加硫のトレッド１２をバンド組立体２４の外周面に貼り付けた後、先ず最初に第１の溝２６の溝底、及び第２の溝２８の溝底を溝底ステッチャーロール３０で押圧し、未加硫のトレッド１２とバンド組立体２４との間の溝底付近のエアを押し出す。 - 特許庁

The inner peripheral surface of the open leg part 110 is formed with a first step part 15a and a second step part 15b, and a part of the open leg part adjacent to the head part 12 is formed thick, and a part thereof adjacent to the female screw 13 is formed thin, and a part between the first and the second steps is formed at a middle thickness.例文帳に追加

開脚部１１０の内周面に第１の段部１５ａと第２の段部１５ｂを形成し、開脚部の肉厚を頭部１２に隣接する部分は厚く、雌ネジ１３に隣接する部分は薄く、第１と第２の段部の間はその中間の厚さに形成する。 - 特許庁

A deblocking filtering method includes at least one or more macroblocks for each and comprises steps of: setting a first to n-th macroblock groups which are adjacent to one another in a column direction; and sequentially performing deblocking filtering on the first through n-th macroblock groups.例文帳に追加

それぞれ少なくとも一つ以上のマクロブロックを備え、カラム方向に隣接して位置する第１ないし第ｎマクロブロックグループを設定するステップと、第１ないし第ｎマクロブロックグループを順次にデブロッキングフィルタリングするステップと、を含むことを特徴とするデブロッキングフィルタリング方法。 - 特許庁

The method includes the steps of programming the first reference cell to a first voltage threshold level that is centered within a data bit '1' distribution of the core cells, and programming the second reference cell to a second voltage threshold level that is centered within a data bit '0' distribution of the core cells.例文帳に追加

本方法は、前記第１基準セルを、前記コアセルのデータビット“１”分布にて中央にある第１電圧閾値レベルにプログラミングするステップ、及び前記第２基準セルを、前記コアセルのデータビット“０”分布にて中央にある第２電圧閾値レベルにプログラミングするステップより成る。 - 特許庁

The method for manufacturing a transfer mask includes steps of forming: an opening in a first substrate; a pattern forming part by bonding the first substrate in which the opening has been formed and a second substrate; and a charged particle beam through-hole in the pattern forming part.例文帳に追加

第１の基板に開口部を形成する工程と、開口部が形成された第１の基板と第２の基板とを接合してパターン形成部を形成する工程と、パターン形成部に荷電粒子線透過孔を形成する工程と、を含むことを特徴とする転写マスクの製造方法。 - 特許庁

This method for setting a data transfer rate comprises steps for: initializing a first data transfer rate between the host and the device; transferring a change instruction for the data transfer rate; and initializing a second data transfer rate different from the first data transfer rate in response to the change instruction.例文帳に追加

データ伝送速度の設定方法は、ホストとデバイスとの間の第１データ伝送速度を初期化する段階、データ伝送速度の変更命令を伝送する段階と、及び前記変更命令に応答して前記第１データ伝送速度と異なる第２データ伝送速度を初期化する段階を含む。 - 特許庁

The method of fabricating a semiconductor device includes the steps of forming a first electrode, a light-emitting layer containing zinc sulfide and manganese on the first electrode, and forming a second electrode on the light-emitting layer; and after the formation of the light-emitting layer, applying thermal treatment to the light-emitting layer.例文帳に追加

第１の電極を形成し、前記第１の電極上に、硫化亜鉛及びマンガンを含む発光層を形成し、前記発光層上に第２の電極を形成し、前記発光層を形成後、前記発光層を加熱処理する工程を有する半導体装置の作製方法に関する。 - 特許庁

The target component is calculated, while acquiring a spectrum relative to the measuring object and a reference in the first and second steps, and while acquiring a difference Δ between a light quantity measured in the first step and a light quantity measured in the second step as a spectrum in the third step.例文帳に追加

第１および第２ステップにおいては、測定対象およびリファレンスについてスペクトルを取得し、第３ステップにおいては、第１ステップにおいて測定された光量と、第２ステップにおいて測定された光量との差分Δをスペクトルとして取得しつつ目的成分を演算する。 - 特許庁

This method has steps of: preparing a first and a second sliding member each having a diamond thin film on the surface of a basis material made of ceramics; and smoothing the respective surfaces of the diamond thin films by allowing the respective diamond thin films of the first and the second sliding part to rub together.例文帳に追加

セラミック製の基材表面にダイヤモンド薄膜を有する第一摺動部材と第二摺動部材とを用意する工程と、第一摺動部と第二摺動部のダイヤモンド薄膜同士を擦り合わせることでダイヤモンド薄膜表面を平滑にする工程とを具える。 - 特許庁

The method includes steps for irradiating a first area including a collection vessel and a second area not including the collection vessel with electromagnetic waves of several tens GHz to several THz, and correcting a principal physical quantity related to an the intensity of the electromagnetic wave which has transmitted the first area by an auxiliary physical quantity related to the intensity of electromagnetic wave which has transmitted the second area.例文帳に追加

捕集容器を含む第１部位と捕集容器を含まない第２部位とに周波数が数10GHz 〜数THz の電磁波を照射し、第１部位を透過した電磁波の強度に関連した主物理量を第２部位を透過した電磁波の強度に関連した補物理量で補正する。 - 特許庁

A method for manufacturing a solid state imaging element comprises the steps of sequentially forming a first polysilicon film 152A and a first silicon oxide film 154A on a silicon substrate 100A via a transfer gate insulating film 150, then dry etching or the like via a photomask 160, and patterning the film 154A and the film 152A together.例文帳に追加

シリコン基板１００Ａ上に転送ゲート絶縁膜１５０を介して第１ポリシリコン膜１５２Ａ、第１シリコン酸化膜１５４Ａを順次成膜した後、フォトマスク１６０を介してドライエッチング等を行い、第１シリコン酸化膜１５４Ａと第１ポリシリコン膜１５２Ａとを併せてパターニングする。 - 特許庁

In another example, a method for actuating the ultrasonic system includes the steps of releasing the first signal in a first frequency range from the transducer to actuate in the k_31 mode, emitting the signal into a living body, and detecting the second signal limited within a second frequency range.例文帳に追加

他の実施例では、超音波システムを動作させる方法は、ｋ_３１モードで動作するトランスデューサから第１の周波数範囲内の第１の信号を放出する段階と、信号を体内へ放射する段階と、第２の周波数範囲に制限された第２の信号を検出する段階とを含む。 - 特許庁

A process for preparing the highly concentrated antibody compositions includes: a step of subjecting a first antibody preparation to a first ultrafiltering, thereby providing a second antibody preparation; and a step of diafiltering the second antibody preparation; and then subjecting the second antibody preparation to second ultrafiltering, wherein one or more of the steps are accomplished at about 30°C to about 50°C.例文帳に追加

第一抗体調製物に第一限外濾過を施して第二抗体調製物を提供し、当該調製物をダイアフィルトレーション、及び第二限外濾過を施し、上記プロセスの一以上が約３０℃〜約５０℃で行なわれる抗体組成物の濃縮方法。 - 特許庁

A program method of a nonvolatile memory device of the present invention comprises the steps of: programming a first page flag having information related to operability of a first page program during a first page program operation; and programming a second page flag having information related to operability of a second page program during a second page program operation.例文帳に追加

本発明による不揮発性メモリ装置のプログラム方法は、第１ページプログラム動作の時、前記第１ページプログラムの可否に関連された情報を有する第１ページフラッグをプログラムする段階及び第２ページプログラム動作の時、前記第２ページプログラムの可否に関連された情報を有する第２ページフラッグをプログラムする段階を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of preparing a first solder layer 42 on an electrode prepared on a semiconductor substrate 10, preparing a resin section 44 on the first solder layer 42, preparing a second solder layer 46 on the resin section 44, and performing heat treatment on the first and second solder layers 42 and 46.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板１０の上に設けられた電極の上に、第１の半田層４２を設ける工程と、第１の半田層４２の上に樹脂部４４を設ける工程と、樹脂部４４の上に、第２の半田層４６を設ける工程と、第１の半田層４２および第２の半田層４６を熱処理する工程と、を含む。 - 特許庁

This method respectively includes steps of forming a first part of the blade outside air seal having a first exposed internal wall, forming a second part of the blade outside air seal having a second exposed internal wall, and forming at least one cooling micro-circuit in at least one of the first and second exposed internal walls.例文帳に追加

本発明の方法は、第１の露出した内部壁を有するブレード外側エアシールの第１の部分を形成し、第２の露出した内部壁を有するブレード外側エアシールの第２の部分を形成し、第１および第２の露出した内部壁の少なくとも一方に少なくとも１つの冷却用ミクロ回路を形成するステップをそれぞれ含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the device comprises the steps of: setting a first bit map BM1 made of a plurality of first bits and a second bit map BM2 made of a plurality of second bits having different bit sizes; and independently conducting the discharging operation of the first bit map BM1 and the discharging operation of the second bit map BM2 by using the liquid droplet discharging unit.例文帳に追加

基板Ｐ上に、複数の第１ビットからなる第１ビットマップＢＭ１と、第１ビットと異なる大きさの複数の第２ビットからなる第２ビットマップＢＭ２とを設定し、液滴吐出装置を用いて、第１ビットマップＢＭ１に対する吐出動作と、第２ビットマップＢＭ２に対する吐出動作とをそれぞれ独立して行う。 - 特許庁

The solar cell manufacturing method comprises the steps of forming a first electrode on one surface of a silicon substrate having a first polarity, irradiating the other surface of the silicon substrate with hydrogen plasmas after forming the first electrode, and forming a second electrode on the other surface of the silicon substrate after irradiation with hydrogen plasmas.例文帳に追加

第１の極性を有するシリコン基板の一方の面上に第１の電極を形成する工程と、第１の電極の形成後にシリコン基板の他方の面に水素プラズマを照射する工程と、水素プラズマの照射後にシリコン基板の他方の面上に第２の電極を形成する工程とを含む太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing a thin film transistor comprises the steps of: forming a photoresist layer on a substrate; and selectively removing a part of the photoresist layer in a single exposure process and forming a primary photoresist pattern including a first part structure with a first width and a second part structure with a second width underlying the first part structure.例文帳に追加

前記基板の上にフォトレジスト層を形成するステップ、単一の露光プロセスで選択的に一部分のフォトレジスト層を取り除き、第一幅を有する第一部分の構造と、第二幅を有し、前記第一部分の構造の下にある第二部分の構造を含む第一フォトレジストパターンを形成するステップを含む薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A first shutter mechanism 20 for the top tablet 10 has a first shutter member 21 and a second shutter member 25 both closing and opening the housing measure 11a on one side of the housing measure pair 15 in a predetermined direction and the housing measure 11b on another side thereof respectively, both the first shutter member and the second shutter member being arranged upward downward in multi-steps.例文帳に追加

トップタブレット１０用の第１シャッター機構２０として、収容マス対１５における所定方向一方側収容マス１１ａ及び他方側収容マス１１ｂをそれぞれ閉塞／開放する第１及び第２シャッター部材であって、上下多段に配設された第１シャッター部材２１及び第２シャッター部材２５を備える。 - 特許庁

The substrate assembly production method comprises the steps of applying solder paste 31 onto the upper face of a first substrate 20, arranging an electronic component 40 in the upper face of the first substrate where solder paste is applied, arranging a second substrate 50 in the upper side of the electronic component and the upper face of the first substrate, and curing solder paste.例文帳に追加

本発明による基板組立体製造方法は、第１基板の上部面にソルダペーストを塗布する段階と；前記ソルダペーストが塗布された前記第１基板の上部面に電子部品を配置する段階と；前記電子部品の上側および前記第１基板の上部面に第２基板を配置する段階と；前記ソルダペーストを硬化する段階とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the solar cell element has steps of preparing a silicon substrate containing a first conductivity-type semiconductor impurity, performing reactive ion etching on a first surface of the silicon substrate, forming the antireflection film on the first surface of the silicon substrate, and printing and sintering silver paste on the antireflection film.例文帳に追加

本発明の太陽電池素子の製造方法は、第1の導電型半導体不純物を含有するシリコン基板を準備する工程と、シリコン基板の第1の面に反応性イオンエッチングを行う工程と、シリコン基板の第1の面に反射防止膜を形成する工程と、反射防止膜に銀ペーストを印刷し焼成する工程と、を有する。 - 特許庁

This rendering method comprises steps of: accepting image data including graphic instances from a software application; applying a default first image rendering option to the image data; selecting a first graphic instance from the image data; and generating an image job such as a print job incorporating the first and second image rendering options.例文帳に追加

レンダリング方法は、図形インスタンスを含む画像データをソフトウェアアプリケーションから受け付けるステップと、上記画像データにデフォルトの第１の画像レンダリングオプションを適用するステップと、上記画像データから第１の図形インスタンスを選択するステップと、第１および第２の画像レンダリングオプションが組み込まれた印刷ジョブなどの画像ジョブを生成するステップとを含む。 - 特許庁

The method includes the steps of: sensing a time constant of the circuit; outputting the sensing as the first voltage; sampling the first voltage over a fixed interval; converting the sampled first voltage to the second voltage; and selecting at least one trimming component from the array of trimming components utilizing the second voltage.例文帳に追加

この方法は、回路の時定数を感知することと、この感知を第１の電圧として出力することと、第１の電圧を、固定された間隔にわたってサンプルすることと、サンプルした第１の電圧を、第２の電圧に変換することと、第２の電圧を使ってトリミング要素アレイから、少なくとも１つのトリミング要素を選択する。 - 特許庁

This method comprises the steps of joining a first turbine nozzle 50 into the engine, joining a second turbine nozzle to the first turbine nozzle adjacent to each other in the circumferential direction so that a gap can be formed between the first and second turbine nozzles, and preparing at least one spline seal 100 having a generally flat surface body.例文帳に追加

本方法は、エンジン内に第１のタービンノズル（５０）を結合する段階と、第２のタービンノズルを、第１及び第２のタービンタービンノズル間にギャップが形成されるように第１のタービンノズルに円周方向に隣接させて結合する段階と、ほぼ平面の本体を備えた少なくとも１つのスプラインシール（１００）を準備する段階とを含む。 - 特許庁

The curing treatment method comprises following steps: (a) contact of a first cured hardening resin with a second ultraviolet-curing resin prior to the curing, (b) irradiation of an ultraviolet ray to the second ultraviolet-curing resin and adhesion with the first hardening resin and (c) heat treatment of the adhered and cured first and second resins.例文帳に追加

硬化された第１の硬化型樹脂に硬化前の第２の硬化型樹脂を接触させ、この第２の硬化型樹脂として紫外線硬化型樹脂を使用し、この第２の硬化型樹脂に紫外線を照射して硬化させて第１の硬化型樹脂に接着し、次いで第１及び第２の接着された硬化型樹脂に加熱処理を施すようにした。 - 特許庁

A method for ink jet printing with light-curing ink includes the steps of printing a first ink dot (30) of a color, irradiating the first ink dot (30) with light, printing a second ink dot (32) with the same color so as to at least partially overlap with the first ink dot, and irradiating the second ink dot (32) with light.例文帳に追加

光硬化性インクを用いたインクジェット印刷の方法であって、 ある色の第１インクドット（３０）を印刷する工程と、 第１インクドット（３０）に光を照射する工程と、 同じ色の第２インクドット（３２）を、第１インクドットに少なくとも部分的に重なるように印刷する工程と、 第２インクドット（３２）に光を照射する工程と、を備える方法。 - 特許庁

As the more preferred method, the manufacturing method of the copper foil with fiber-reinforced resin comprises the steps of forming the first resin layer on the copper foil, solidifying the first resin layer after making the fiber adhere by electrostatic force in the condition that this first resin layer is not solidified, and forming the second resin layer on it to make the fiber buried into the resin layer.例文帳に追加

より好ましい方法としては、銅箔に第一樹脂層を形成し、この第一樹脂層が固化していない状態で繊維を静電気力により付着せしめた後に第一樹脂層を固化せしめ、その上に第二樹脂層を形成して繊維を樹脂層中に埋没させることを特徴とする繊維補強樹脂付き銅箔の製造方法。 - 特許庁

The method includes the steps of applying a first ramp-down pulse having a first tilt to scan electrodes in the first half of a set-down period included in a reset period, applying a base potential to the scan electrodes in the meddle phase of the set-down period, and applying a second ramp-down pulse having a second tilt to the scan electrodes in the second half of the set-down period.例文帳に追加

リセット期間に含まれるセットダウン期間の前半部に第１勾配の第１降下ランプパルスをスキャン電極に供給する段階と、セットダウン期間の中半部に基底電位をスキャン電極に供給する段階と、セットダウン期間の後半部に第２勾配の第２降下ランプパルスをスキャン電極に供給する段階と、を含む。 - 特許庁

The method for releasing a gas includes the steps of (a first step) adding a first reagent containing a protein denaturation substance inhibiting the gas combination of hem protein in a vial container as a sealed container with a specimen encapsulated (S12), and (a second step) adding a second reagent containing a cyanide ion in the sealed container after ending the first step and then elapsing a predetermined time (S13).例文帳に追加

気体の遊離方法は、検体を封入した密閉容器としてのバイアル瓶内に、ヘム蛋白のガス結合を阻害する蛋白変性物質を含む第１の試薬を添加する第１の工程（Ｓ１２）と、第１の工程の終了から所定時間経過後に、密閉容器内にシアンイオンを含む第２の試薬を添加する第２の工程（Ｓ１２）とを含む。 - 特許庁

The method for producing an ink-jet printhead comprises the steps of forming a first patterning layer 20 on the surface of a first substrate 10, forming a second patterning layer 28 on the surface of a second substrate 100, bringing the surface of the first layer into intimate contact with the surface of the second substrate to join them, and removing the second substrate 100 from the second patterning layer 28.例文帳に追加

インクジェットプリントヘッドを作製する方法は、第１基板１０の表面上に第１パターニング層２０を形成すること、第２基板１００の表面上に第２パターニング層２８を形成すること、第１および第２層を面と面を密着して接合させること、および、第２パターニング層２８から第２基板１００を除去することを含む。 - 特許庁

The method for creating a hierarchy of video sequences includes the following steps: selecting a first video sequence; generating a second video sequence from a plurality of video clips; forming a link between the second and first video sequences; and assigning a link characteristic for particularizing the shift from the first video sequence to the second video sequence to the link.例文帳に追加

ビデオシーケンスの階層を形成する方法は、第一のビデオシーケンスを選択する段階と、複数のビデオクリップから第二のビデオシーケンスを作成する段階と、第二のビデオシーケンスと第一のビデオシーケンスの間にリンクを形成する段階と、第一のビデオシーケンスから第二のビデオシーケンスへの移行を特定するリンク特性を、リンクに割り当てる段階とを含む。 - 特許庁

Specifically, one embodiment of the present invention sets forth a method, which includes the steps of deriving a first destined texel position based on an original sample position associated with a pixel projected in a texture map and a first offset position specified by a user and fetching texel attributes at the first destined texel position for the texture operation.例文帳に追加

具体的には、本発明の一実施形態は、テクスチャマップに射影された画素に関連する元のサンプルの位置、及びユーザによって指定された第１のオフセット位置に基づいて第１の目標テクセル位置を導出するステップと、テクスチャ動作のために第１の目標テクセル位置のテクセルの属性を取り出すステップとを含む方法を説明する。 - 特許庁

A method for depicting throughput of data across a protocol layer according to the present invention includes the steps of: displaying a first graphical indication (302) on a first time line; and displaying a second graphical indication on a second time line, wherein a time covered by the first time line matches a time covered by the second time line.例文帳に追加

本発明に係る、プロトコル層を横切るデータのスループットを表示する方法は、第１のタイムライン上に第１のグラフィック表示（３０２）をするステップと、第２のタイムライン上に第２のグラフィカル表示をするステップであって、前記第１のタイムラインがカバーする時間が前記第２のタイムラインがカバーする時間と一致するステップとを有する。 - 特許庁

The method for dechucking a substrate 140 from the substrate support includes the steps of projecting the first set 150 of lift pins for a first distance above the surface 134 of the substrate support and lifting the substrate 140, and projecting the second set 152 of lift pins for a second distance above the surface 134 of the substrate support that is less than the first distance.例文帳に追加

基板支持体から基板をデチャックするための方法は、リフトピンの第１セット１５０を基板支持体の表面１３４から第１の距離だけ上に突き出して、基板１４０を持ち上げるステップと、第１の距離よりも小さな第２の距離だけ、基板支持体の表面１３４より上に、リフトピンの第２セット１５２を突き出すステップとを有している。 - 特許庁