a Ga-Inの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 633件
To provide a focused ion beam device capable of converging the beam diameter to a desired value using a gas ion source as an ion source and capable of responding to wide applications of same level as in the case using a Ga liquid metal ion source as the ion source.例文帳に追加
イオン源としてガスイオン源を用いていながら、ビーム径を所望値にまで絞ることができ、イオン源としてGa液体金属イオン源を用いた場合と同程度の幅広いアプリケーションに対応できる。 - 特許庁
To provide a growth method of a GaN crystal having low dislocation density and high crystallinity without adding impurities other than a raw material to a melt or without increasing the scale of a crystal growth device in a liquid phase method using a Ga melt.例文帳に追加
Ga融液を用いる液相法において、融液に原料以外の不純物を添加することなく、また、結晶成長装置を大型化することなく、転位密度が低く結晶性が高いGaN結晶の成長方法を提供する。 - 特許庁
The method of preestimating the catalytic activity of the Ga-Al type denitration catalyst to be used in a reaction of converting a nitrogen oxide into nitrogen and water by way of causing a hydrocarbon as a reducing agent to react with the nitrogen oxide includes a process of measuring the amount of hydrogen consumed per mole of Ga upon reducing the denitration catalyst in a hydrogen-containing atmosphere.例文帳に追加
窒素酸化物に炭化水素を還元剤として作用させることによって、当該窒素酸化物を窒素及び水に変換する反応に用いるためのGa−Al系脱硝触媒の触媒活性を予測する方法であって、前記脱硝触媒を水素含有雰囲気において還元した際のGa1mol当たりの水素消費量を測定する工程、を備えた、脱硝触媒の触媒活性の予測方法。 - 特許庁
The graphite jig used in liquid phase epitaxial growth is purified in the presence of Ga and Mg at a high temperature of about 900°C in the flow of gaseous hydrogen, and the epitaxial wafer is produced using the purified graphite.例文帳に追加
液相エピタキシャル成長に使用されるグラファイト治具をGa及びMgを入れて水素気流中約900℃の高温で純化したこと及び純化したグラファイト治具を用いてエピタキシャルウエハを作製したことにある。 - 特許庁
To provide a high-quality GaN semiconductor light-emitting element which can be improved in electrical characteristics and optical characteristics by reducing defects such as Ga voids or the like by doping Al when growing GaN and reducing defects by lattice mismatch such as dislocation or the like, and also to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加
本発明はGaN成長時AlをドープすることによりGa空孔のような欠陥を減少させると共に転位などのような格子不整合による欠陥を減少させ、電気的特性及び光学的特性を向上させられる高品質GaN半導体発光素子及びその製造方法に関するものである。 - 特許庁
Combined addition of Ga+In or Sn+In is applied to a Pd-Ag-Au-Cu-based alloy to lower the melting point of the alloy and regulate a thermal expansion coefficient to <14.9×10^-6K^-1.例文帳に追加
Pd−Ag−Au−Cu系合金にGa+InもしくはSn+Inの複合添加を行うことにより合金の融点を下げ、かつ熱膨張係数が14.9×10^−6K^−1未満とする。 - 特許庁
A cylindrical toner recovery roll 23 is rotated in contiguity with and in opposition to a photosensitive drum 9 and a developing sleeve 21, and a DC voltage with the same polarity as the charge polarity of toner is applied to the toner recovery roll 23 to thereby electrostatically attach scattered reversely charged toner to the cylindrical surface thereof in a developing area GA.例文帳に追加
感光ドラム9及び現像スリーブ21に近接対向させて、円筒状のトナー回収ロール23を回転させ、トナーの帯電極性と同極性の直流電圧を印加して、現像領域GAにおいて飛散した反転帯電トナーを円筒面に静電的に付着させる。 - 特許庁
The fastening hardware 25a is attached in such a position as to form a gap Ga between a side face of the substrate 11 and the fastening hardware 25a, in consideration of the thermal expansion of the substrate 11 because the fastening hardware 25a has been tightened with the bolt 26a when the substrate 11 has not yet been expanded by heat.例文帳に追加
固定金具25a,…の取付け位置は、基板11に熱膨張がない時にボルト26a,…を締付けた時、基板11側面と固定金具25a,…間に熱張を考慮したギャップGaが形成さる位置である。 - 特許庁
This light emitting diode is provided with a light emitting element in which nitride semiconductor having Ga is used at least as a light emitting layer, and a semiconductor protecting element which is connected in parallel with the light emitting element and used for electrically protecting the light emitting element.例文帳に追加
少なくとも発光層にGaを有する窒化物半導体を用いた発光素子と、発光素子と並列接続され発光素子を電気的に保護するための半導体保護素子とを有する発光ダイオードである。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an electronic device, which can suppress thickness reduction of an oxide semiconductor film containing In, Ga, and Zn as a base film, and suppress deterioration in device characteristics due to the film thickness reduction when wet-etching a metal film.例文帳に追加
金属膜をウェットエッチングする際、下地膜である、In、Ga、及びZnを含む酸化物半導体膜の膜減りを抑制でき、該膜減りによる素子特性の劣化を抑制できる電子素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, in the electronic document production system, an anti-alias layer LA is generated which is a layer having a binarized image GA produced on the basis of the edge image, and being superimposed on the character image layer LC in a translucent state.例文帳に追加
また、電子文書生成システムは、当該エッジ画像に基づいて生成された二値化画像GAを有するレイヤであって、文字画像レイヤLCに半透過状態で重畳されるレイヤであるアンチエイリアスレイヤLAを生成する。 - 特許庁
A semiconductor layer uses an oxide semiconductor film containing In, Ga, and Zn, and comprises an inverted stagger type (bottom gate structure) thin-film transistor, in which a buffer layer is formed among the semiconductor layer, a source electrode layer, and a drain electrode layer.例文帳に追加
半導体層としてIn、Ga、及びZnを含む酸化物半導体膜を用い、半導体層とソース電極層及びドレイン電極層との間にバッファ層が設けられた逆スタガ型(ボトムゲート構造)の薄膜トランジスタを含むことを要旨とする。 - 特許庁
A photosensitive organic system insulating film which serves as a second protection layer is formed on the Ga oxide film, the portion which matches a channel region in the photosensitive organic system insulating film is made to be a pattern, the portion other than that is made to be a non-pattern.例文帳に追加
Ga酸化物膜上に第2の保護層となる感光性有機系絶縁膜を形成し、感光性有機系絶縁膜においてチャネル領域に整合する部分をパターン部とし、それ以外の部分を非パターン部とする。 - 特許庁
For instance, the uta-e depicting a torikabuto (a traditional hat worn when playing gagaku (ancient Japanese court dance and music)), a kaendaiko (a large drum decorated with flames), and Japanese maple leaves suggests the scene where the hero of "Genji Monogatari" performed an elegant dance "Seigaiha" (Blue Ocean Wave) donning a torikabuto under Japanese maple trees, which appears in the chapter of 'Koyo-no-ga' (An Autumn Excursion). 例文帳に追加
例えば、雅楽に用いる鳥兜と火炎太鼓に紅葉を添えたものは、源氏物語「紅葉の賀」で主人公が紅葉の下で鳥兜をかぶる優美な舞青海波を舞った場面を表す。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Further, annealing processing is carried out to form an interface bond state in which the Ga-N bond is dominant in a nitriding layer 5, thereby the interface level density can be made to be much lower.例文帳に追加
また、アニール処理することにより、窒化処理層5においてGa−N結合が支配的となった界面結合状態を形成し、界面準位密度を一段と低減させることができる。 - 特許庁
There is provided a thin film transistor including an oxide, as an active material layer, comprising elements In, Ga and Zn in the ranges of atomic ratios of the following regions 1, 2 or 3, and has an electron field-effect mobility of 25 cm^2/Vs or greater.例文帳に追加
元素In,Ga及びZnを下記領域1、2又は3の原子比の範囲で含む酸化物を活性層とし、電界効果移動度が25cm^2/Vs以上である薄膜トランジスタ。 - 特許庁
In the substrate (17), glass (1) where an Mo conductive film (2) is formed on the top is used, and an In layer (3) and a Cu-Ga layer (4) are alternately repeated on the glass (1) to form the precursor thin film (5).例文帳に追加
基板(17)は表面にMo導電膜(2)を形成したガラス(1)を用い、その上にIn層(3)とCu−Ga層(4)とが交互に繰り返して前駆体薄膜(5)を形成している。 - 特許庁
To provide a copper gallium alloy suitable for a hardly cracked sputtering target material, by reducing a dispersion of a gallium concentration in an inside of an alloy ingot, even in the copper-gallium alloy ingot having a relatively high composition ratio of Ga manufactured, for example, by melting and casting.例文帳に追加
例えば溶解鋳造によって製造されたGaの組成比が比較的大きい銅ガリウム合金塊であっても、合金塊内部でのGa濃度のばらつきを少なくして、ひび割れしにくいスパッタリングターゲット材に適した銅ガリウム合金を提供する。 - 特許庁
In the steering device, a damping control unit 130 sets a product of a reference damping torque Tb set by a reference damping control unit 131 and an adjustment gain Ga set by an adjustment gain setting unit 1341 according to a road width evaluation value, as a damping torque.例文帳に追加
ダンピング制御部130は、基本ダンピング制御部131によって設定した基本ダンピングトルクTbと、調整ゲイン設定部1341によって道幅判定値に応じて設定した調整ゲインGaとの積をダンピングトルクとして設定する。 - 特許庁
The system comprises a mobile information terminal Ha with a browser function; a computer Ea with a server function; a storage means Eb for storing data on the management of the conveying in and out of materials and equipment and lifting; a computer Fa with a browser function; and a mobile information terminal Ga with a browser function.例文帳に追加
Haは、プラウザ機能付の携帯型情報端末、Eaはサーバー機能を有するコンピュータ、Ebは資機材の搬出入・揚重管理データを記憶する記憶手段、Faはプラウザ機能付のコンピュータ、Gaはプラウザ機能付の携帯型情報端末である。 - 特許庁
This exhaust emission control device 1 has a plurality of purification catalysts 2, 3 arranged in an upstream and a downstream of an exhaust passage 100 of an internal combustion engine 100, cross section area of the purification catalyst 2 in the upstream side can be varied in relation to flow of exhaust gas GA.例文帳に追加
内燃機関100の排気通路106に前後して複数の浄化触媒2,3を配置している排気浄化装置1であって、排気ガスGAの流れに対して、上流側の浄化触媒2の横断面積を可変とした。 - 特許庁
At the time of acquiring pay data, a terminal a-1 displays a download list page at a display part, and when any pay data desired by a user are present in the page, the terminal a-1 communication-connects to a terminal a-2 in the same group Ga holding the pay data, and receives the desired pay data, and updates a download information file.例文帳に追加
端末a−1は、有料データを取得する際に、ダウンロード一覧ページを表示部に表示し、このページ内にユーザが希望する有料データが有れば、この有料データを保有する同じグループGa内の端末a−2と通信接続し、希望する有料データを受信して、ダウンロード情報ファイルを更新する。 - 特許庁
The perpendicular magnetic recording medium contains magnetic crystal particles and a base material surrounding the magnetic crystal particles, and the base material contains an element selected from Zn, Cd, Al, Ga and In, and a component selected from P, As, Sb, S, Se, and Te.例文帳に追加
磁性結晶粒子と、この磁性結晶粒子を取り囲む母材とを有し、母材は、Zn,Cd,Al,Ga,及びInから選択される元素と、P,As,Sb,S,Se,及びTeから選択される成分を含有する。 - 特許庁
A reducing agent is added from a reducing agent supply nozzle 25 in response to an adding quantity and an adding interval set based on the increased actual exhaust gas flow rate Ga and the NOx reducing catalyst bed temperature.例文帳に追加
また、増大された実排気ガス流量GaとNOx還元触媒床温に基づいて設定される添加量、添加間隔にしたがって還元剤供給ノズル25から還元剤が添加される。 - 特許庁
To adjust specific resistance of a sputtering target comprising In, Ga and Zn to 2.0×10^-2 Ωcm or less so as to enable formation of a Zn_xGa_yIn_zO_(x+3y/2+3z/2) thin film by DC sputtering.例文帳に追加
Zn_xGa_yIn_zO_(x+3y/2+3z/2)薄膜をDCスパッタリングで作製可能なようにInとGaとZnと酸素とからなるスパッタリングターゲットの比抵抗を2.0×10^−2Ω・cm以下にすること。 - 特許庁
The substrate for forming the film is constituted of a solid solution single crystal in which at least one kind selected from Ga, Ti and Nb is added to a (Cr_xAl_1-x)_2O_3 (wherein, 0≤x≤1) single crystal.例文帳に追加
本発明の膜形成用基板は、(Cr_xAl_1-x)_2O_3(0≦x≦1)単結晶にGa、TiおよびNbから選ばれる少なくとも1種が添加された固溶体単結晶から構成されている。 - 特許庁
To achieve a III-V nitride semiconductor thin film of good quality in which the surface of an Si substrate does not deteriorate and the throughput does not lower even if Ga or N radicals are generated from matters adhering to the inside of a furnace.例文帳に追加
炉内付着物からGaやNラジカルの発生が起こってもSi基板表面を劣化させず、さらにはスループットを落すことなく良質なIII−V族窒化物半導体薄膜を実現すること。 - 特許庁
This phosphor material is obtained by using a material obtained by doping ZnS with at least one ion among Y, La, Sc, Al, Ga and In ions, as a preform and activating the preform with Ce ion which is an activating agent.例文帳に追加
Y,La、Sc、Al、Ga、Inイオンのうち少なくとも1つのイオンををZnSにドープしたものを母材として用い、この母材に付活剤であるCeイオンを付活させた蛍光体。 - 特許庁
Shui shu (abridged form of Shui wakashu) in general has a plain and graceful style, and includes many poems for formal occasions such as ga no uta (poems for congratulations), byobu uta (poems matching with a painting on the byobu, folding screen), and poems for uta awase (poetry competition), and especially includes excellent ones of love, eight of which were selected for Ogura Hyakunin Isshu (the Ogura One Hundred Poets, One Poem Each). 例文帳に追加
『拾遺集』は総じて平明優美な歌風で、賀歌・屏風歌・歌合など晴れの歌が多いが、殊に恋歌はすぐれ、小倉百人一首に8首も採られている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
The first and second heat-resistance reinforcing layers are each formed of a layer using selenium as a main body and containing 10-40 wt.% in total of one or more constituents out of As, Ge and Ga.例文帳に追加
第1、第2の耐熱強化層は、セレンを主体とし、As、Ge、Gaのうち少なくとも一以上の成分を総量で10重量パーセント以上40重量パーセント以下含有する層とする。 - 特許庁
A free magnetic layer 16 is a laminate of Co_2MnZ alloy layer 16a (Z is one kind or more of elements including Al, Sn, In, Sb, Ga, Si, Ge, Pb, Zn) and Co_aFe_100-a alloy layer 16b.例文帳に追加
フリー磁性層16はCo_2MnZ合金層16a(ZはAl、Sn、In、Sb、Ga、Si、Ge、Pb、Znのうち1種または2種以上の元素)とCo_aFe_100−a合金層16bの積層体である。 - 特許庁
A map MAPc is created by using a catalyst bed temperature, which influences on activity of catalytic reaction, and an intake air volume GA as parameters, and the map MAPc is used for calculating a PM oxidative rate Vc (in S104).例文帳に追加
PM酸化速度Vcを算出するために、触媒反応の活性に影響する触媒床温と共に吸入空気量GAをパラメータとして作成したマップMAPcを用いている(S104)。 - 特許庁
A first generation unit 62 generates a processing coefficient sequence GA in which a coefficient value g[k] for each frequency is set so as to emphasize the localization component through subtraction processing including subtraction between the sum component M and the difference component S.例文帳に追加
第1生成部62は、定位成分が強調されるように周波数毎の係数値g[k]が設定された処理係数列GAを、和成分Mと差成分Sとの間の減算を含む減算処理で生成する。 - 特許庁
The method for manufacturing the nitride semiconductor element comprises the step of forming a semiconductor layer containing at least one or more of elements selected from the group consisting of Al, Ga and In on the surface of a substrate by using a mask.例文帳に追加
基板表面に、少なくともAl、Ga、Inの内の1以上の元素及び窒素を含む半導体層を、マスクを用いて形成することを特徴とする窒化物半導体素子の製造方法である。 - 特許庁
In one embodiment, sodium tetraborate is reduced to sodium and boron by at least one among a hydrocarbon, an alkali metal, an alkaline earth metal, a transition metal, a metal hydride, Al, Ga, Si or P.例文帳に追加
本発明の一態様においては、四ホウ酸ナトリウムは、炭化水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、金属水素化物、Al、Ga、SiまたはPの少なくとも一つによりナトリウムとホウ素に還元される。 - 特許庁
Of all the books he wrote, the most famous is "Sayonara dake ga jinsei da: Eiga kantoku Kawashima Yuzo no shogai" ("Life is only a chorus of goodbyes: the life of director Yuzo KAWASHIMA," published by Nobel Shobo in 1968). 例文帳に追加
『サヨナラだけが人生だ 映画監督川島雄三の生涯』(ノーベル書房:昭和43年)この川島雄三の追悼録が、今村の著作の中でもっとも有名なものとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
About 600 mirrors from the end of the Heian through until the Edo period were excavated from a pond commonly known as 'Kagami-ga-ike Pond' in the Mt. Haguro, one of Dewa sanzan (three mountains of Dewa) (Yamagata Prefecture) (Tsuruoka City, Yamagata Prefecture). 例文帳に追加
出羽三山のひとつ羽黒山(山形県)(山形県鶴岡市)の通称「鏡ヶ池」からは、平安時代末期から江戸時代のものまで600面におよぶ鏡が出土している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Video signals outputted from the four pixels provided with the color filters R, B, Ga, Gb are sent in parallel to A/D conversion units 4a-4d and outputted as digital signals.例文帳に追加
そして、色フィルタR,B,Ga,Gbが設けられた4画素から出力される映像信号を並列的にA/D変換部4a〜4dに送出し、デジタル信号として出力する。 - 特許庁
Since a fixed negative charge layer in high density by the ionized Ga voids 14 exists, the curvature of energy band becomes large, the Schottky barrier becomes thin, and the ohmic property is materialized.例文帳に追加
イオン化したGa空孔14による高密度の固定負電荷層が存在するため、エネルギーバンドの曲率が大きくなり、ショットキー障壁が薄くなって、オーミック特性が実現する。 - 特許庁
Hama no masago to goemon ga, uta ni nokoseshi nusutto no, tane wa tsukinee shichirigahama, sono shiranami no yobataraki, izen o iyaa enoshimade, nenkizutome no chigogafuchi (As Goemon ISHIKAWA's death poem says, there are innumerable thieves in this world like sand of Shichirigahama beach, and I am one of the thefts who once was a page boy working as apprentice at Enoshima Island.) 例文帳に追加
浜の真砂と石川五右衛門が、歌に残せし盗人の、種は尽きねえ七里ヶ浜、その白浪の夜働き、以前を言やあ江ノ島で、年季勤めの稚児ヶ淵、 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
In the process for growing a nitride thin film on a substrate, a Ga face 2 growing on +c face and an N face 3 growing on -c face are formed on a c face sapphire (Al_2O_3) substrate 1.例文帳に追加
基板上への窒化物薄膜の成長方法において、c面サファイア(Al_2 O_3 )基板1上に+c面で成長するGa面2と、c面サファイア(Al_2 O_3 )基板上に−c面で成長するN面3とを形成する。 - 特許庁
In fuel injection (second fuel injection F2) during a compression stroke, first spray Ga injected from a first injection hole 40a at an uppermost part is set to be oriented to a hollow cavity 34 at a piston top surface 30.例文帳に追加
圧縮行程での燃料噴射(二回目の燃料噴射F2)では、最上部の第一噴口40aから噴射された第一噴霧Gaがピストン冠面30の凹状キャビティ34を指向するように設定されている。 - 特許庁
To stably provide an epitaxial wafer outputting light highly uniformly, when used as a LED, and further hardly having an output difference among the same LED array and chips, when used as the LED array, by uniformly controlling the concentration of a carrier in a group III-V element compound semiconductor layer containing Ga and As a constituting elements.例文帳に追加
GaおよびAsを構成元素として含むIII-V族化合物半導体層中のキャリア濃度を均一にし、LEDとして用いた場合に光出力が非常に均一なエピタキシャルウエハを提供する。 - 特許庁
This microcrystalline compound optical semiconductor includes a microcrystalline compound of 50% or more in its structure, which contains hydrogen, Ga, and a nitrogen element in a range from 0.5 atom% or more to 40 atom% or less, and the size of microcrystal is 0.1 μm or larger to 100 μm or smaller.例文帳に追加
0.5原子%以上40原子%以下の水素とGaとチッ素元素とを含有する微結晶化合物を構造内に50%以上有し、微結晶の大きさが0.1μm以上100μm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
Or, as in an expression 'muri ga tatatte' (overwork torments a person), the word "tataru" is used to express the principle of indirect causality in which an indirect impact of a cause works adversely, rather than a direct damage done by the cause. 例文帳に追加
あるいは、「無理が祟って」などの表現にみられるように、原因が直接的に被害を与えるというよりも、どちらかというと間接的な影響が不幸な方向に働くといった、不完全な因果律を表現する場合に用いられる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide a thin-film transistor using an oxide semiconductor film containing indium (In), gallium (Ga), and zinc (Zn), in which contact resistance of a source electrode or drain electrode is reduced, and to provide a method of manufacturing the thin-film transistor.例文帳に追加
インジウム(In)、ガリウム(Ga)、及び亜鉛(Zn)を含む酸化物半導体膜を用いる薄膜トランジスタにおいて、ソース電極またはドレイン電極のコンタクト抵抗を低減した薄膜トランジスタ及びその作製方法を提供することを課題の一つとする。 - 特許庁
In this manufacturing method of the ferromagnetic particles, an M_2(CO)_8 (in this case, M is a magnetic metal or alloy) gas is introduced, and a Ga^+ ion beam is applied to the gas by scanning, thus manufacturing the particles made of M.例文帳に追加
チェンバー内にM_2(CO)_8(Mは磁性金属または合金)ガスを導入し、該ガスにGa^+イオンビームをスキャンしながら照射することによりMからなるパーティクルを作製することを特徴とする強磁性パーティクルの作製方法。 - 特許庁
A light source 21 is arranged on the upstream side in the running direction of the web 13 while a CCD camera 22 is arranged on the downstream side in the running direction of the web 13 and image processing is performed to measure the gap Ga between the slot die 10 and the web 13 to positionally adjust the slot die 10.例文帳に追加
ウエブ13の走行方向上流側に光源21、下流側にCCDカメラ22を設置し、画像処理を実施してスロットダイ10とウェブ13との隙間Gaを計測し、スロットダイ10の位置調整を行った。 - 特許庁
When a user uses the remote controller 300 and displays a screen for setting image quality on the television 100, the user operates the numeric key corresponding to each of three kana characters of "ga", "shi", and "tsu" each in Japanese, each once, only three times in total.例文帳に追加
ユーザがリモコン300を使用して、テレビ100に画質の設定を行う画面を表示する場合、ユーザは「が」、「し」、および「つ」の3つの仮名文字のそれぞれに対応する数字キーをそれぞれ1回、合計3回だけ操作する。 - 特許庁
The nitride crystal is produced by inserting an introducing pipe 6, to which gaseous nitrogen is fed, into Ga molten liquid 4, then cracking the gaseous nitrogen in the introducing pipe 6 by the cracking action caused by a high frequency oscillating solenoid coil 5 and sending the formed nitrogen radical into the Ga molten liquid 4.例文帳に追加
窒素ガスを送り込まれる導入管6をGa融液4の中に挿入し、高周波発振ソレノイドコイル5からのクラッキング作用によって導入管6内の窒素ガスをクラッキングし、これにより発生する窒素ラジカルをGa融液4の中に送り込むことによって窒化物結晶を製造する。 - 特許庁
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