| 例文 |
effective patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 394件
One side of a semiconductor wafer is polished to comparatively higher degree that is suitable for making a fine pattern by a lithography process, and the other side thereof is polished to comparatively low degree, that is appropriate to provide alignment marks WM3 and WM4 effective for arranging wafers in the lithography process.例文帳に追加
一方の側を、リソグラフィ・プロセスによって微細パターンを作り出すために適した比較的高い程度にまで研磨し、他方の側を、比較的低い程度であるが、それでもリソグラフィ・プロセス中にウェハを整列させるために有効なアラインメント・マークを備えるのに適している程度にまで研磨する。 - 特許庁
To provide a tape paste which enables indication of a letter, a symbol, a pattern and the like on the tape paste body to be released while sufficiently securing tack performance, improves the designing of the tape paste body, and enables effective utilization of the tape paste body as an advertisement page or the like and tape paste transfer implements.例文帳に追加
粘着性能を十分に確保しつつ、剥離するテープ糊本体に文字や記号や絵柄などを表示可能となして、テープ糊本体の意匠性を向上できるとともに、テープ糊本体を広告面などとして有効利用可能となしたテープ糊及びテープ糊転写具を提供する。 - 特許庁
The mask M is provided with small-sized masks M1 to M4, and the mask stage 1 retains a plurality of small-sized masks M1 to M4, such that the sum of effective exposure area of the plurality of small-size masks M1 to M4 becomes larger than the area of one complete pattern which is exposed and transferred to the substrate W.例文帳に追加
マスクMは複数の小型マスクM1〜M4を備え、且つ、マスクステージ1は、複数の小型マスクM1〜M4の有効露光面積の合計が基板Wに露光転写される1つの完成パターンの面積よりも大きくなるように、複数の小型マスクM1〜M4を保持する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an electrode catalyst layer keeping mechanical intensity, and having a high gas dispersion property in a pattern shape in a thickness direction to a polyelectrolyte membrane, and a high effective utilization factor of a catalyst, in an electrode catalyst layer for a solid polyelectrolyte fuel cell.例文帳に追加
固体高分子電解質型燃料電池用電極触媒層において、機械的強度を保ちつつ、高分子電解質膜に対して厚さ方向にパターン状にガス拡散性が高く、触媒の有効利用率が高い電極触媒層の製造方法を提供する。 - 特許庁
The drum type game machine such as a slot machine is provided with a CB game role for imparting a CB game in which the range of patterns stoppable after a stop operation until reel stoppage is narrowed and opportunities to stop the pattern relating to a winning role on an effective line are made more than usual to the next game.例文帳に追加
スロットマシン等の回胴式遊技機であって、ストップ操作されてからリールを停止するまでに停止可能な図柄の範囲を狭くし、通常よりも入賞役に係る図柄を有効ラインに停止させる機会が増加するCB遊技を次回の遊技に付与するCB遊技役を備える。 - 特許庁
That is, when the single character information column is varied, since there is no column to be a comparison object like the plurality of common decorative pattern columns, whether or not the single or the plurality of ready-to-win states are to be stopped on the effective line is not predicted until the single character information column is stopped.例文帳に追加
すなわち、単数の文字情報列が変動する場合には、複数の共通装飾図柄列のように比較対象となる列がないことから、単数の文字情報列が停止するまで、有効ライン上に単数または複数のリーチ状態が停止されるか否かが予測されることがない。 - 特許庁
The device also includes a second operating state for detecting an initial detected value for allowing the detection portion 5 to carry out the detected pixel determining operation by allowing the detection range of the fixed pattern noise to be determined so as to include the effective pixel region 2b without allowing the detected pixel determining portion 4 to carry out the detected pixel determining operation.例文帳に追加
また、固定パターンノイズの検出範囲が有効画素領域2bを含むように設定され、かつ、検出画素判定部4が検出画素判定動作を行わずに、検出部5が検出画素判定動作のための初期検出値を検出する第2の動作状態を有する。 - 特許庁
If the reflectance-density conversion table exists and is effective, an internal image forming part 103 outputs a density pattern; the reflectance measurement part 106 measures the reflectance; and the density correction parameter generation part 108 generates the density correction parameter based on the measurement result of the reflectance and the table.例文帳に追加
反射率濃度変換テーブルが存在し有効である場合は、内部画像形成部103は濃度パターンを出力し、反射率測定部106により反射率を測定し、濃度補正パラメータ作成部108は、反射率の測定結果とテーブルに基づいて濃度補正パラメータを作成する。 - 特許庁
An alignment mark 86 in a mask to be photographed by an alignment camera 36 is disposed outside an effective exposure area of the mask, while an alignment mark in a substrate includes a pixel Pw of a black matrix BM disposed outside an area, where a pattern of the mask M is to be transferred by exposure.例文帳に追加
アライメントカメラ36によって撮像される、マスク側アライメントマーク86はマスクの有効露光エリアの外側に設けられており、基板側アライメントマークは、マスクMのパターンが露光転写される領域の外側に設けられたブラックマトリクスBMのピクセルPwを含む。 - 特許庁
The high-breakdown voltage vertical MOSFET is constituted, which has the surface pattern shape of a source region 3a which contacts a part of a channel 4 and does not contact all the sides in order to reduce effective channel density as controlling it so as to suppress rise of the on-resistance and increase of feedback capacity.例文帳に追加
オン抵抗の上昇と帰還容量の増加を抑制するように、実効的なチャネル密度を制御しながら低下させるために、チャネル4の一部に接し、全辺には接しないソース領域3aの表面パターン形状を有する高耐圧縦型MOSFETとする。 - 特許庁
To provide a camera which is effective for both APS film and film of a 135 format, does not newly necessitate a dedicated section or a flexible pattern, does not receive adverse effects, such as a loose connection of a regulator and a communication probe, nor noise, and adopts a communication procedure isolated electrically, and to provide a regulator of the camera.例文帳に追加
APSフィルム、135フォーマットのフィルムの両方に有効であり、新たに専用の切片や、フレキパターンを必要とせず、調整器と通信プローブの接触不良や、ノイズ等の悪影響を受けず、電気的にアイソレーションされた通信方法を採用したカメラとカメラの調整器を提供する。 - 特許庁
The diffraction optical element 201 has a relief pattern formed on a surface of thereof, wherein a fine periodic structure 203 having a pitch shorter than the minimum wavelength of working wavelengths is formed on the relief pattern 202, and by changing parameters such as pitch, width and height (or depth) of the fine periodic structure 203, the wavelength dependency of effective refractive index in the fine periodic structure 203 is adjusted.例文帳に追加
本発明は、表面にレリーフパターンが形成されている回折光学素子201において、前記レリーフパターン202上に、使用する波長の最小波長よりも短いピッチを有する微細周期構造203を形成し、該微細周期構造203のピッチ、幅、高さ(または深さ)などのパラメータを変えることにより微細周期構造203における有効屈折率の波長依存性を調整する。 - 特許庁
To provide an effective method for obtaining a conduit pattern binary image for forming an emboss plate capable of performing a delicate correction work of making the plate close to an irregular form owned by natural wood grain from a gradation image taken by a digital camera in which a conduit part is emphasized but the resolution is low.例文帳に追加
デジタルカメラにより撮影したような、導管部が強調されてはいるが低解像度の階調画像から、天然の木目が有する凹凸形状に近づけるような精細な修正作業も可能な、エンボス版を形成するための導管図形2値画像を得る有効な方法を提供すること。 - 特許庁
To provide photosensitive conductive paste for simultaneous calcination without causing the ruggednesses of the surface of a dielectric layer or the twisting of an electrode, effective for simultaneously baking an electrode layer and a dielectric layer in the manufacturing of a rear-face plate of a PDP, and a manufacturing method of an electrode pattern using the same.例文帳に追加
本発明の目的は、PDPの背面板製造において、誘電体層表面の凹凸や、電極のよれの問題がなく、電極層と誘電体層とを同時に焼成し得るのに有効な同時焼成用感光性導電ペースト、およびそれを用いた電極パターンの製造方法を提供することである。 - 特許庁
Further, a dielectric transmission path 10 with a short-circuited tip having the length of λg/4 (λg: effective wavelength of transmission wave in multilayer dielectric substrate 1) is provided between the conductor pattern 5a and an inner layer conductor 4 of the multilayer dielectric substrate 1 so that the transmission path is in parallel with the inner layer conductor 4.例文帳に追加
さらに、導体パターン5aと多層誘電体基板1の内層導体4との間において、伝送経路が内層導体4と平行するように、λg/4(λg:多層誘電体基板1中の伝送波の実効波長)の長さを有する先端短絡の誘電体伝送路10を設ける。 - 特許庁
The optical intensity distribution of the laser beam is obtained from a differential waveform of an RF signal obtained from a pit-land pattern consisting pits and lands having a prescribed length longer than the diameter of the beam spot formed by the laser beam on the optical disk rotary driven with a constant linear velocity and an effective spot diameter of the laser beam is obtained based on the optical intensity distribution.例文帳に追加
線速一定で回転駆動される光ディスク上にレーザビームが形成するビームスポット径よりも長い所定長のピットおよびランドからなるピット−ランドパターンから得たRF信号の微分波形からレーザビームの光強度分布を求め、この光強度分布に基づきこのレーザビームの有効スポット径を求める。 - 特許庁
To provide a machine readable information printed article effective for preventing forgery, alteration or the like, by hardly allowing a person to visually recognize a latent printed image, avoiding restrictions on a picture pattern to be formed on its upper layer and providing the image which cannot be read to inhibit recognition of the true image even if an infrared ray considered to be optimum is applied.例文帳に追加
目視では印刷画像の潜在に気づかずに、その上層の絵柄の制限を受けにくく、さらに最適なと思い込みの赤外線を適用しても、画像を読み取れず、真の画像を認識出来ず、偽造、改ざん等の予防に有効な機械読み取り可能な情報印刷物の提供にある。 - 特許庁
The tooth brush includes a grip, a neck part, a head part and a polishing member fitted to the head part, wherein the polishing member includes: a base provided in the vicinity of the back of the head part; and a plurality of projections disposed in a predetermined pattern on an effective base having enough dimensions and shape to polish the tooth.例文帳に追加
本発明は、取手、首部分、頭部、および頭部に取り付けられた研磨部材を含む歯ブラシを対象としており、研磨部材は頭部の裏面近くの基部、ならびに十分な寸法および形状で歯を研磨するのに効果的な基部上に所与のパターンで配置された複数の突起を含む。 - 特許庁
To provide a method for measuring the alignment of a photolithographic step capable of correcting the error range of a pattern image to be transferred to the contraction and the expansion of the image, by measuring the aligning state to each short region on a wafer so as to be more effective and reliable.例文帳に追加
ウェハ上の各ショート領域に対するアライン状態を計測し、これをもとにアラインを補正することにより、転写されるパターンイメージの収縮膨張に対する誤差範囲をより効果的且つ信頼性のあるように補正することができるフォトリソグラフィー工程のアライン計測方法を提供する。 - 特許庁
Light which leaks from the side face of the light guide plate is interrupted by a light reflection pattern 220 formed on the light reflective surface of the light guide plate 200 for modification of brightness distribution and the prevention of a moire phenomenon so that an effective display region is not divided into a bright area IV, a boundary area and a dark area V.例文帳に追加
輝度分布の変更及びモアレ現象の防止のために導光板200の光反射面に形成された光反射パターン220により有効ディスプレー領域が明るい領域IV、境界領域、暗い領域Vに分割されないように、導光板の側面から漏洩する光を遮断する。 - 特許庁
Until entirely covered with a test pattern with effective test patterns mapped to the state transition (step 5), the operation of determining a state transition series having a predetermined length for covering the test patterns according to a predetermined standard, and of adding them to the test series (step 7) and performing X-extraction (step) is repeated.例文帳に追加
状態遷移にマッピングされた有効テストパターンが生成されたテスト系列にすべて被覆されるまで(step5)、所定の基準に従ってテストパターンを被覆する所定長の状態遷移系列を決定してテスト系列に追加し(step7)X抽出する操作(step)を繰り返す。 - 特許庁
The information transmission means 69 of the main control means 60a performs control so as not to transmit information relating to the drawing result of a symbol combination to the sub control means 60b in games after a game in which the special symbol combination is won until a pattern combination corresponding to the special symbol combination stops on an effective line.例文帳に追加
メイン制御手段60aの情報送信手段69は、特別役に当選した遊技以降の遊技であって特別役に対応する図柄の組合せが有効ラインに停止するまでの遊技では、役の抽選結果に係る情報をサブ制御手段60bに送信しないように制御する。 - 特許庁
The pattern-determining field (pf) is divided into several domains (D), comprising the apertures configuring a number of zigzag lines (pl); the apertures in domains are mutually offset by the integerfold of the effective widths (w) along the vertical directions to the scanning directions; whereas the offset amounts of the apertures in different domains are each integral fractions of the widths.例文帳に追加
パターン画定フィールド(pf)は、多くのジグザグライン(pl)を成すアパーチャで構成されるいくつかのドメイン(D)に分割され、走査方向に対して垂直な方向に沿って、あるドメインのアパーチャは、実効幅(w)の整数倍だけ互いにオフセットされ、一方、異なったドメインのアパーチャのオフセット量はその幅の整数分数である。 - 特許庁
The optical element, used for an aligner 11 for transferring the pattern formed in a mask R to a photosensitive substrate W, comprises a base material for comprising a transmitting optical element, and a surface smoothing film 29, at least on a part of the surface of the effective region of the base material comprising the transmitting optical element.例文帳に追加
マスクRに形成されたパターンを感光性基板Wに転写する露光装置11に使用される光学素子であって、透過光学素子を構成する基材と、前記透過光学素子を構成する基材の有効領域外の表面の少なくとも一部に表面平滑化膜29とを備える。 - 特許庁
The circuit board 1 using a glass epoxy board as a base material is provided with a plurality of units 2 corresponding to completed package single bodies, respectively, a peripheral part 4 located outside an effective part comprised of the units 2, and a peripheral pattern 6 that is formed by etching copper foil with a specified thickness on each of both surfaces of the peripheral part 4.例文帳に追加
ガラスエポキシ板を基材とする回路基板1に、完成後のパッケージ単体に各々対応する複数個の単位部2と、複数個の単位部2からなる有効部の外側に位置する周辺部4と、周辺部4の両面において所定の厚さの銅箔をエッチングして形成された周辺パターン6とを備える。 - 特許庁
A pattern for alignment of a read line is formed outside an effective area part, with respect to an optical element having had a high rotational eccentricity sensitivity with respect to an optical axis and high eccentricity sensitivity in a subscanning direction because the optical element has a power asymmetric with respect to the optical axis, to thereby facilitate the alignment adjustment.例文帳に追加
そこで、本発明では、光軸非対称なパワーを有することが原因で、光軸に対して回転の偏心敏感度や副走査方向の偏心敏感度の高かった光学素子に対して、読み取りラインのアライメント用のパターンを有効領域部外に形成し、アライメント調整を容易に行えるようにした。 - 特許庁
A length of a shadow-like dark part with a distance between LED chips as a bottom side length becomes about 3 cm and the same is masked, and a strip-like region of the incident light dispersing pattern 13 becomes 1.5 cm and if the same is masked, a masking width becomes reduced to one half and an effective lighting area can be enlarged.例文帳に追加
LEDチップ21の間隔を底辺とする影状暗部3の長さL1が3cm程度となり,そのマスクを行うのに対して,入射光拡散パタン13の帯状領域幅L2が1.5cmとなるから,この部分をマスクするとしてもマスク幅が1/2に縮小して有効照明面積を拡大できる。 - 特許庁
When exposure is to be made at an exposure position where some focus sensors are ineffective, for example the periphery of a wafer, focus measurement is carried out at a spare measurement position where all focus sensors become effective before exposure, the focus measurement value is corrected based on an error due to a pattern structure obtained in advance, and the posture of the wafer is adjusted based on the corrected result.例文帳に追加
一部のフォーカスセンサーが無効となる露光位置、例えばウエハ周辺部、で露光を行う場合、露光を行う前に、全てのフォーカスセンサーが有効となる予備計測位置でフォーカス計測を行ない、そのフォーカス計測値を事前に求めておいたパターン構造に起因する誤差に基づいて補正し、その補正結果に基づいてウエハの姿勢を調整する。 - 特許庁
In a method of deciding chip arrangement by which a chip assembly can be acquired as a non-defective assembly from an almost circular wafer, a plurality of paired grid points arranged at intervals shorter than diameter of a regional circle indicating size of an effective exposure area is extracted from a chip array in which chips are arranged in a grid-like pattern (S102 and S103).例文帳に追加
略円形のウエハから、良品として取得可能なチップの集合体を得るためのチップ配置を決定する方法において、チップを碁盤目状に配列したチップ配列より、有効露光領域の大きさを表す領域円の直径よりも間隔距離の小さい、複数の格子点対を抽出する(S102、S103)。 - 特許庁
To provide an optical imprint method that measures a remaining film thickness of a dummy pattern so as to recognize a remaining film amount after imprint without cutting an effective region, to allow the same substrate, whose remaining film thickness is actually measured, to advance to etching being the next process, to feedback the remaining film amount to the etching conditions, and consequently, to reliably achieve stable processing.例文帳に追加
本発明は、ダミーパターンの残膜厚さを測定することで、有効領域を切断することなくインプリント後の残膜量を把握することができ、残膜厚さを実際に測定した同一基板を次工程であるエッチングに進めることができ、残膜量をエッチング条件にフィードバックさせることが可能であり、確実に安定した加工を実現できる。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed.例文帳に追加
マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
The apparatus further includes a heating irradiation mechanism 7 for radiation heating of the optical imaging system during measurement operation so that the heating effect of radiation applied to the optical imaging system 1 to be measured becomes equal to the heating effect of radiation that passes through the effective pattern during the imaging operation of the optical imaging system within a tolerance that can be determined in advance.例文帳に追加
装置は更に、測定される光学撮像システム1に加えられる放射の加熱効果が、予め決定できる許容範囲内で、光学撮像システムの撮像動作中に有効パターンを介して通過する放射の加熱効果と等しくなるように、測定動作中の光学撮像システムの放射加熱用の加熱照射機構7を含む。 - 特許庁
A regeneration control circuit 20 sweeps voltage threshold level and the extracted clock phase one after the other with respect to the input signal, determines whether the levels of adjacent monitor points agree to automatically measure the least error occurrence recognizing point in an effective region of eye pattern, and takes this recognition point as the optimum point for executing the regeneration control.例文帳に追加
再生制御回路20は、入力信号に対し、電圧しきい値レベルと、抽出したクロックの位相とを順次スイープさせ、隣り合うモニタポイントのレベルが一致するか否かの判定を行って、アイパターンの有効領域内での最もエラー発生の低い識別点を自動測定し、その識別点を最適点として再生制御を行う。 - 特許庁
When the Pinyin input of a character string to be converted is done through an input part 101, a correction range determination part 113 determines a range of the input character string which needs to be corrected and a correction pattern generation part 106 corrects the character string within the range to generate a candidate for a corrected character string which is effective as Pinyin.例文帳に追加
入力部101を通じて変換対象となる文字列がピンイン入力された際に、訂正範囲決定部113にて当該入力文字列の中で訂正が必要な範囲を決定し、訂正パターン生成部106にてその範囲内の文字列を訂正してピンインとして有効な訂正文字列の候補を作成する。 - 特許庁
In a situation where a specific presentation pattern is selected, if the combination of symbols stopping on an effective line at the stopping of a part of the second reels 51 corresponds to a part of the combination of specific symbols, the second reel control means 85b controls to rotate the rest of the rotating second reels 51 at a speed lower than the previous rotating speed.例文帳に追加
特定の演出パターンが選択された場合において、一部の第2リール51の停止時に有効ラインに停止した図柄の組合せが特定の図柄の組合せの一部と一致したときは、第2リール制御手段85bは、残りの回転中の第2リール51を、それまでの回転速度より低速にして回転させるように制御する。 - 特許庁
Using a light receiving element having an overflow drain mechanism and based on the brightness information in the read area, exposure conditions are set such that the exposure quantity at a brightest spot by a reading light passed through or reflected on the brightest spot of an effective pattern to be represented by gray scale be equal to or close to the quantized maximum exposure quantity of the light receiving element.例文帳に追加
オーバーフロードレイン機構を有した受光素子を使用し、かつ読取領域の輝度情報に基づいて、階調表現すべき有効絵柄の最明点を透過又は反射した読取光による最明点露光量が受光素子の量子化最大露光量又はその近傍の露光量となるように露光条件を設定する。 - 特許庁
To exclude a control for determining effectiveness of a shortening operation and reduce loading to a control system by making the shortening operation effective to all regular symbol variation patterns and to suppress a decline in a player's incentive to play by providing a shortened symbol variation pattern performed by a shortening instruction, with a variation.例文帳に追加
全ての通常図柄変動パターンに対して短縮操作を有効とすることで、短縮操作の有効か否かの判断を行うための制御を排除して制御系負担を軽減すると共に、短縮指示によって演出される短縮図柄変動パターンにバリエーションを持たせることで、遊技者の遊技意欲の減退を抑制する。 - 特許庁
The metal film 8e has excellent visibility and when the diffractive element 8 is formed rectangular, a large identification mark 9a is formed without sacrificing the effective surface area of the diffractive element 8 by forming the identification mark 9a using a nearly triangular region outside of a far field pattern LL of an optical beam.例文帳に追加
金属膜8eは、視認性優れており、しかも四角に形成された回折素子8の場合、光ビームのファーフィールドパターンLLの外側の略三角形の領域を利用して識別マーク9aを形成することにより、回折素子8の有効面積を犠牲にすることなく、より大きな識別マーク9aを形成することができる。 - 特許庁
To provide a transmission-type screen with which the deterioration of a video quality is prevented by preventing the occurrence of an irregular fingerprint-like defective pattern, because especially the Fresnel lens apex part of the peripheral part at a screen effective area is crushed and deformed by a lenticular lens sheet, in the transmission-type screen constituted by combining the lenticular lens sheet and a Fresnel lens sheet.例文帳に追加
本発明は、レンチキュラーレンズシートとフレネルレンズシートとを組み合わせ構成される透過型スクリーンにおいて、スクリーン有効領域における特に周辺部のフレネルレンズ頂部がレンチキュラーレンズシートに押し潰されて変形して生ずる不規則な指紋状の欠陥パターンの発生を防止し、映像画質の劣化を防止する透過型スクリーンを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a device for monitoring training in which a trainee is efficiently and effectively monitored in a training performed according to an action pattern which is preliminarily studied and regarded as mostly effective and corresponding to various included conditions such as a fire extinguishment, a rescue, an attacking object, climate and a geographical conditon, at a training facility of a fire extinguishment training, a rescue training or a military training.例文帳に追加
消火訓練,救助訓練,軍事訓練などの訓練設備で、消火,救助,攻撃対象,気候や地形条件など予め組み込まれた各種条件に対応しながら予め検討され最も効果的と想定された行動パターンに従って実施される訓練における被訓練者を効率的かつ効果的に監視する訓練監視装置を提供する。 - 特許庁
To solve problems that a doctor does not quantitatively evaluate the circadian variation pattern of a patient when prescribing a hypotensor to the hypertensive, the doctor can not quantitatively evaluate the effect of the hypotensor from enormous data such as ABPM (Ambulatory Blood Pressure Monitoring) and the doctor can not deduce the effective hypotensor for the patient when the patient can not get the effect of the hypotensor.例文帳に追加
本発明は、高血圧患者に降圧剤を処方する際、医師が患者の日内変動パターンを定量的に評価していなかった問題、膨大なABPM等のデータから降圧剤の降圧効果を定量的に抽出できなかった問題、患者が降圧剤の効果を得られない場合に医師が患者へ有効な降圧剤を推定できなかった問題を解決することである。 - 特許庁
To provide a liquid crystal lens that keeps a desired temperature of a liquid crystal layer and responses at a sufficient speed even at a low temperature by sufficiently reducing the resistance of a heater so as to obtain sufficient heat energy, and increasing the flexibility of pattern wiring of the heater so as to uniformly heat within the effective circle of a phase modulation electrode group, while reducing the size of the liquid crystal panel.例文帳に追加
液晶パネルの小型化を実現しながらも、十分な熱エネルギーが得られようにヒータの抵抗値を十分下げ、同時に、ヒータのパターン配線の自由度を増して位相変調電極群の有効円内を均一に加熱できるようにして、液晶層を所望の温度以上に維持し、低温下でも十分な速さで応答する液晶レンズを提供する。 - 特許庁
To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加
周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing technique which dispenses with the data conversion matched with the respective processes required heretofore, capable of easily selecting the effective data utilizable in the respective processes from possessed data by collectively controlling the possessed data, performs correction of photographic recipe on the basis of time series data, even when there are temporal fluctuations in the shape of a forming pattern and can form a stably measurable photographic recipe.例文帳に追加
従来必要であった各工程に合わせたデータ変換を不要とし、また保有データを一括管理して、各工程に利用することが有効なデータを保有データから容易に選択することができ、また、形成パターンの形状に時間変動があった場合にも、時系列データをもとに撮像レシピの修正を行い、安定な計測が可能な撮像レシピを生成することができる半導体製造技術を提供する。 - 特許庁
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