「in Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(995ページ目) - Weblio英語例文検索

To enable an operator to dispense with a conversion of an offset value in a cutting process by displaying an offset value on coordinates having a cutting work machine as a reference regardless the position of a turret 1 in a control unit of a cutting work machine.例文帳に追加

この発明の課題は、切削工機の制御装置において、タレット１の位置に関わらず、切削工機を基準とする座標上のオフセット値を表示することとし、切削工程において、作業者にオフセット値を換算する必要がないようにすることである。 - 特許庁

In the process unit, separation members (40), which separate the periphery surface of the electrifying roll from the periphery surface of the rotating roll against the elastic deflecting effect of an elastic deflecting means (10), are interposed freely detachably in each of both ends of the rotating drum and the electrifying roll.例文帳に追加

回転ドラムと帯電ローラとの両端間の各々には、弾性偏倚手段（１０）の弾性偏倚作用に抗して帯電ローラの周表面を回転ドラムの周表面から離隔せしめる離隔部材（４０）が着脱自在に介在せしめられている。 - 特許庁

In a CLBO crystal manufacturing method for cutting a grown CLBO crystal block so as to form an approximately final shape and polishing the cut CLBO crystal, the cut CLBO crystal is annealed before at least final polishing in a polishing process.例文帳に追加

育成されたＣＬＢＯ結晶塊を略最終形状になるようにカットして、これを研磨するＣＬＢＯ結晶の製造方法において、ＣＬＢＯ結晶をカットをした後、少なくとも研磨工程における最終研磨の前にアニール処理を施す。 - 特許庁

To provide an etching device and its monitoring method that can minimize the loss of an extremely expensive semiconductor element by rapidly finding the film quality change in an object to be etched and the fluctuations of process parameters caused by the failure in the etching device.例文帳に追加

被エッチング対象物の膜質変化やエッチング装置の異常に起因するプロセスパラメータの変動を逸早く発見することにより、非常に高価な半導体素子の損失を最小限に止めることが可能なエッチング装置及びエッチングのモニタリング方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the reliability of a dielectric formed on the pore bottom more reduces as pores for capacitors, etc. are more fined and deepened on a semiconductor substrate in an ALD film forming process using a longitudinal batch processor advantageous in improving the throughput.例文帳に追加

スループット向上に有利な縦型バッチ処理装置を用いたＡＬＤ成膜では、半導体基板上に形成されているキャパシタ用などの孔が微細化され深くなるほど、孔底に形成される誘電体の信頼性が低下する問題を解決する。 - 特許庁

To provide a cell-washing centrifuge which can uniformly drain the supernatants of washing liquids in all test tubes in a supernatant-draining process to enhance the effect of cell washing and obtain a highly reliable cell examination result.例文帳に追加

上澄液排出工程において全ての試験管について洗浄液の上澄液の排出を均等に行うことによって細胞洗浄効果を高めて信頼性の高い細胞検査結果を得ることができる細胞洗浄遠心機を提供すること。 - 特許庁

The method for producing the base-generating agent expressed by general formula (1) includes a process for reacting a benzaldehyde derivative expressed by general formula (A) with a phosphonate derivative expressed by general formula (B) in an organic solvent in the presence of a base.例文帳に追加

下記一般式（Ａ）で表されるベンズアルデヒド誘導体に、有機溶剤中、塩基存在下で、下記一般式（Ｂ）で表されるホスホネート誘導体を反応させる工程を有することを特徴とする、下記一般式（１）で表される塩基発生剤の製造方法。 - 特許庁

A preparation process of low-calorie cakes is provided for which not processed oils and fats such as salad oil or butter and additives such as baking powders at all but specific fruits are used as alternatives such that the calorie can be decreased approximately in 30% in comparison with conventional cakes.例文帳に追加

サラダ油やバター等の加工油脂類及びベーキングパウダー等の添加剤を一切使用せず、その代替として特定の果実を用いる事により、従来のケーキに比べカロリーは３０％相当減少できる低カロリー洋菓子の製造法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a process control system which can eliminate the need to lay a cable, reduce a lot of man-hours and expenses required in cable laying, acquire redundancy in signal transmission and increase reliability.例文帳に追加

ケーブルの敷設を不要とし得、それに伴って必要とされていた多大な工数や費用を削減し得、システムの構築を容易に行うことができ、しかも、信号伝送における冗長性を確保し得、信頼性の向上を図り得るプロセス制御システムを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing composition for use in a CMP process for a semiconductor device having a copper film, a barrier layer of a tantalum compound and a SiO_2 insulation layer so as to be sufficiently greater in the polishing rate of the tantalum compound than copper and hardly cause SiO_2 polishing.例文帳に追加

銅膜、タンタル化合物のバリア層、ＳｉＯ_２の絶縁層を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、タンタル化合物の研磨レートが銅に比べて充分に大きく、ＳｉＯ_２の研磨は実質的に殆んど起こらない研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor, whose electrical signal performance in low illuminance environment, has been eliminated of an etching process, for forming an STI insulating film, at least in the image region and as a result of the elimination.例文帳に追加

少なくともイメージ領域ではＳＴＩ絶縁膜の形成のためのエッチング工程が省略され、このようなエッチング工程の省略によって低照度の環境で電気的な信号性能が向上したＣＭＯＳイメージセンサとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for assembling the bent shift lever for the vehicle includes a process of inserting the cable 30 having the cable end 33 which can pass through inside of the lever pipe 20 having the bent part in at least a part in the lever pipe 20 with making the cable lever end 33 an insertion side end.例文帳に追加

（２）少なくとも一部に曲がり部２１をもつレバーパイプ２０内を通過できるケーブルエンド３３を有するケーブル３０を、ケーブルエンド３３を挿入側端にしてレバーパイプ２０内に挿入する工程を有する、車両用曲がりシフトレバーの組立方法。 - 特許庁

To provide a pre-processing method for an abrasive pad, which reduces a time until a prescribed polishing speed is obtained and stabilized when a new pad is mounted, that is a time required for break-in process, resulting in the increased operating rate of a chemical-mechanical polishing device.例文帳に追加

新しい研磨パッドを装着した時の所定研磨速度に達して安定化するまでの時間、すなわちブレークイン処理に要する時間を短縮し、化学機械研磨装置の稼動率を向上させることができる研磨パッドの前処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of delivering a semiconductor manufacturing composite solution, a manufacturing method, a pipe line and a manufacturing apparatus, thoroughly restraining the mixing-in of a foreign matter that can cause a defect in a manufacturing process, and remarkably reducing a content of the foreign matter.例文帳に追加

製造過程においてディフェクト要因となり得る異物の混入を十分に抑制することができ、異物含有量が極力低減された半導体製造用組成物溶液の送液方法、製造方法、配管、及び製造装置を提供する。 - 特許庁

The data processor selects an addressing mode in accordance with a handling process which handles data held in different addressing modes such as a tile type addressing mode and an array type addressing mode, based on information to indicate a memory area where the data is stored or a lookahead conversion buffer where a data arrangement is stored.例文帳に追加

タイル型アドレスで保持されるデータとアレイ型で保持されるデータの異なるアドレッシングのデータを、保持されているメモリの領域または先読み変換バッファに保持するデータ配置を示す情報に基づいて、処理プロセスに応じてアドレッシングを選択する。 - 特許庁

When a fault recognition part 71 of a processor 7 detects abnormality occurring to a fan 5, etc., a saving process means 72 saves data which do not have been written to HDDs 3-1 to 3-n yet among the data stored in the cache memory 8 in response.例文帳に追加

プロセッサ７の障害認識部７１がファン５等で発生した異常を検出すると、これを受けて退避処理手段７２がキャッシュメモリ８に記憶されているデータで、ＨＤＤ３−１〜３−ｎへの書込みが完了していないデータの退避処理を実行する。 - 特許庁

On the faces of the transparent substrates 2 and 3, which are in contact with the liquid crystal layer 4, transparent electrodes for driving the liquid crystal are formed by, for example, a sputtering method such that an orientation process is performed in the direction of the arrow A so that the liquid crystal includes a pre-tilt angle.例文帳に追加

透明基板２及び３の液晶層４に接する面には、液晶を駆動するための透明電極がスパッタ等の方法で形成され、液晶が所定のプレチルト角をもつように矢印Ａで示す方向に配向処理が施されている。 - 特許庁

Thereby, any undercut is not produced on an interface between the inter-layer dielectric film pattern and the mask pattern by the protection film spacer in a cleaning process to be made before the conductive film for the pad is formed, any void is not formed in the conductive film when evaporating the conductive film for the pad.例文帳に追加

これにより、パッド用導電膜の形成前に行う洗浄工程で保護膜スペーサによって層間絶縁膜パターンとマスクパターンとの界面にアンダーカットが発生せず、パッド用導電膜の蒸着時に導電膜内にボイドが形成されない。 - 特許庁

To solve problems in which information on monitoring process of a CATV network which is acquired in each terminal is fixed, time intervals of monitoring is not freely changed according to the situation, and then a method of obtaining information sufficient and speedy for a monitoring side, is not available.例文帳に追加

ＣＡＴＶネットワークの監視処理における各端末内で取得できる情報は固定されており、また監視する時間間隔も状況に応じて自由に変更することができず、監視側にとって十分かつ迅速な情報を得られる方法がない。 - 特許庁

In the fitting process, the slider 18 interferes with rocking arms 33 of the split housing members 11 to push them back in the separating direction, and this interference is released at completion of the fitting of the split housing members 11 to cause returning to the initial positions.例文帳に追加

このスライダ１８は、分割ハウジング１１のロックアーム３３と嵌合過程で干渉して分割ハウジング１１を離脱方向に押し戻すと共に、各分割ハウジング１１の嵌合完了と共に干渉が解除されて元の位置に戻るようになっている。 - 特許庁

To properly decide a moving direction of a wiring board in a dipping process by displaying a mark in which a situation is difficult to occur on a surface of the wiring board, where the mark visually mingles with a circuit component, or a display or a sign, and it becomes hard to be discriminated.例文帳に追加

回路部品や表示ないし記号にマークが視覚的に紛れ込んで見分けがつきにくくなるという事態の起こりにくいマークを配線基板の表面に表示することによって、ディッピング工程での配線基板の移動方向を適正に定める。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device, where the contact resistance of a metal film is reduced by removing a polymerized film produced by etching an insulating film with a simple process, in a method of manufacturing a semiconductor device in which the metal film is vapor- deposited, after the insulating film is etched.例文帳に追加

絶縁膜のエッチング処理後に金属膜を蒸着する半導体製造方法において、絶縁膜のエッチングにより生成された重合膜を簡単なプロセスで除去し金属膜のコンタクト抵抗の低減を図った半導体製造方法を提供する。 - 特許庁

The digital camera DC carries out a re-size process for each recording paper size to make printing match the recording paper size, for example, in accordance with the printing style of whether it is marginal printing with a margin left in the recording paper or margin-less printing of full-face printing.例文帳に追加

デジタルカメラＤＣは、例えば記録用紙内に余白を残す縁あり印刷か、全面印刷を行う縁無し印刷かといったプリントスタイルに応じて、記録用紙サイズに見合った大きさにリサイズするために記録用紙サイズ毎にリサイズ処理を行う。 - 特許庁

An EGR valve 42 is controlled in an open loop in the small turbocharger using state, and the variable nozzle 16c is controlling by making a feedback process so that supercharging pressure or the suction air volume detected by a supercharging pressure sensor 44 or an air flowmeter 43 coincides with a target value.例文帳に追加

小ターボ使用状態では、ＥＧＲ弁４２をオープンループ制御するとともに、過給圧センサ４４またはエアフローメータ４３で検出される過給圧または吸入空気量が目標値に一致するように可変ノズル１６ｃをフィードバック制御する。 - 特許庁

To provide a means for managing action information by rousing action execution so that a member participating in each process in a development project or the like should execute an action to be executed at an appropriate time respectively with regard to a system managing the action information.例文帳に追加

アクション情報を管理するシステムに関し、開発プロジェクトなどにおいて各工程に参画するメンバがそれぞれ実行するべきアクションを適時実行するようにアクション実行喚起を行い、アクション情報を管理する手段を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the file 20c is used in a personal computer or the like, the plurality of the files 20c described in the file 20d corresponding to the desired purpose of use are read by the computer or the like, and the process corresponding to the purpose of use is simultaneously executed.例文帳に追加

パソコン等において画像ファイル２０ｃを用いるときには、パソコン等に、所望の使用目的に対応するインデックス・ファイル２０ｄに基づき、それに記述されている複数の画像ファイル２０ｃを読み出させ、使用目的に対応する処理を一括して行わせる。 - 特許庁

To provide a coating liquid which largely reduces an operation step in a coating process, forms a coating film by one time operation of application, drying and baking, can freely control the thickness of the coated film and is inexpensively prepared, and to provide an electrode for electrolysis superior in productivity by using the coating liquid.例文帳に追加

塗布工程における作業工程を大幅に削減し、かつ、１回の塗布、乾燥、焼成により形成される被膜厚みを自由にコントロールしうる、安価な組成の塗布液、及び該塗布液を使用し生産性に優れた電解用電極を提供。 - 特許庁

To provide a low-cost manufacturing method for a raceway ring member of a wheel supporting hub unit capable of shaping a locating cylindrical part in a single piece cylindrically continuing in the circumferential direction and conducting the shaping with a low load by cold forging without applying a bending process to a mounting part.例文帳に追加

位置決め用筒部を周方向に連続する円筒状に一体で成形できると共に、取り付け部に曲げ加工を行なわずに冷間鍛造にて低荷重で成形できる安価な車輪支持用ハブユニットの軌道輪部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly if image is formed in the margin, the operation is in the stitch mode (Yes at S2), and the number of sheets N left to the binding process exceeds m as prescribed (for example, ten), the binding positions are made more than two as normal according to S6 to S8.例文帳に追加

そこで、余白部に画像形成が形成され、かつステッチモードであり（Ｓ２のＹＥＳ）、かつ綴じ処理に供されるシートの枚数Ｎが所定のｍ枚（例えば１０枚）を超えたときには、Ｓ６〜Ｓ８に従って、綴じ箇所を通常の２箇所よりも多くする。 - 特許庁

To provide a process for producing a multilayer ceramic body in which a level difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated and variance in the area of the conductor pattern can be suppressed by suppressing a blur even when a low viscosity conductor paste is used.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、低粘度の導体ペーストを用いてもにじみを抑制して導体パターンの面積のばらつきを抑えることのできるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

When a bending force which is a component force of an impact force is applied to the upper tube 21, the upper tube 21 turns (revolves) around the tilt lever bolt 41 and displaced, and in the process of the revolving displacement, the upper tube 21 is moved to the axial direction and drawn in the lower tube 22 side.例文帳に追加

衝撃力の分力である曲げ力がアッパーチューブ２１に作用した場合にアッパーチューブ２１がチルトレバーボルト４１を中心に回転変位（公転）し、この回転変位の過程でアッパーチューブ２１が軸方向に移動してロアチューブ２２側に引き込まれる。 - 特許庁

In this way the process gas is made to flow into the regions vertically different to each other, and the partial pressure is held uniformly, so the selectivity of seeding in the vertical direction of the reactive tube 22 can be held uniformly, and uniform HSg-Si can be formed.例文帳に追加

反応管内の高さ方向に相互に異なる領域にプロセスガスを流出させて、反応管のプロセスガスの分圧を一様に保持することにより、反応管内高さ方向のSeeding の選択性を均一に維持し、均一なＨＳＧ−Ｓｉを形成することができる。 - 特許庁

To stably and simultaneously operate each finger by supporting the finger having a pawl section engaged in the shell of a can and by individually energizing an elastic force in a stripper device which takes the shell of the can out of the punch engaged with the shell of the can after the drawing and ironing process.例文帳に追加

絞り・しごき加工された缶胴体に係合してポンチから抜き取るストリッパ装置において、缶胴体に係合する爪部を有するフィンガを軸支し且つ個別に弾性力で付勢して、各フィンガの作動を安定して且つ一斉に行わせる。 - 特許庁

In order to process a document including plural character areas, character areas 61 and 62, which are arranged adjacently to each other in character areas is detected and the detected character areas 61 and 62 are set as one character area 101.例文帳に追加

複数の文字領域を含む文書を処理するために、前記文字領域のうち、相互に接して配置された文字領域６１及び６２を検出し、検出された文字領域６１及び６２を、一の文字領域１０１として設定することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a handling method of large-sized structure within reactor building capable of significantly shortening the working process in the carrying- out or carrying-in work of a large-sized structure through an opening part provided on the roof of a reactor building.例文帳に追加

本発明の目的は、原子炉建屋の屋根に設けた開口部を通して大型構造物の搬出作業又は搬入作業を行う場合に、作業工程を大幅に短縮できる原子炉建屋内の大型構造物の取扱方法を提供することである。 - 特許庁

In the case where a previous power supply off operation is not normally finished at the time of turning on a power supply, the thermal printer carries out a head cleaning process of cleaning a heating element array of the thermal head after circumstances in which foreign substances are highly possibly adhered to the thermal head after the completion of printing.例文帳に追加

電源投入時に前回の電源オフ動作が正常に終了していなかった場合、印画完了後、サーマルヘッドに異物が付着する可能性が高い状況後に、サーマルヘッドの発熱素子アレイを清掃するヘッドクリーニング処理を実施する。 - 特許庁

In another surface flaw inspection method of the metal rod material, the longitudinal direction position and a peripheral direction position of the surface flaws 14 detected by the leakage flux flaw detection test are displayed by the lamp, in the process for inspecting the surface flaws 14.例文帳に追加

本発明にかかる金属製棒材の他の表面疵検査方法では、表面疵１４の検査をする工程において、漏洩磁束探傷試験によって検知された表面疵１４の長手方向位置及び周方向位置がランプで表示される。 - 特許庁

To solve the problem that the life becomes short for a chip that is most heavily stressed by the electric field in a nonvolatile memory cell and the memory reliability deteriorates because the electric field stress changes on the capacitor insulation film or the tunneling insulation film due to the variations in the process even if the power source voltage is kept constant.例文帳に追加

不揮発性メモリセルにおける電源電圧が一定であっても、プロセスばらつきのために、容量絶縁膜あるいはトンネル絶縁膜にかかる電界ストレスがばらつき、最大の電界ストレスがかかるチップは寿命が短く、信頼性低下を招く。 - 特許庁

When the image file 20c is used in a personal computer or the like, the personal computer or the like read a plurality of the image files 20c described in it based on the index files 20d corresponding to a desirable use purpose, and conduct the process corresponding to the use purpose collectively.例文帳に追加

パソコン等において画像ファイル２０ｃを用いるときには、パソコン等に、所望の使用目的に対応するインデックス・ファイル２０ｄに基づき、それに記述されている複数の画像ファイル２０ｃを読み出させ、使用目的に対応する処理を一括して行わせる。 - 特許庁

When a dielectric separation wafer is manufactured, the entire body of the backside resist 12A of a silicon wafer 10 is cross-linked after the resist 12A is applied to the wafer 10 in a photoliothograph process, in which a resist film 12 having a window section 12a is provided on the surface of the wafer 10.例文帳に追加

誘電体分離ウェーハの製造時、シリコンウェーハ１０の表面に窓部１２ａ付きのレジスト膜１２を設けるフォトリソグラフ工程において、シリコンウェーハ１０に裏面レジスト１２Ａを塗布後、これを全面露光して裏面レジスト１２Ａ全体を架橋させる。 - 特許庁

To provide a vacuum cleaner providing a sufficient deodorizing effect irrelevant to the amount of dust in a dust collecting bag and a storage period and simultaneously preventing the generation of malodor caused by the deodorizing process in a dust collecting bag type vacuum cleaner storing plenty of dust therein.例文帳に追加

塵埃の貯蔵量が多くなる集塵袋式の電気掃除機において、集塵袋内の塵埃量や、貯留期間に関係なく十分な脱臭効果が得られ、同時に脱臭作用に由来した異臭発生も起きない電気掃除機を提供する。 - 特許庁

A differential image formation part 23 forms differential information between read image data taken in this time from an image read part 27, and read image data of the precedent one page stored in a precedent one page read image storage part 211, and sends the information to the image inspection process part 24.例文帳に追加

差分画像生成部２３では、画像読取部２７から今回取り込まれた読取画像データと、１頁前読取画像記憶部２１０に記憶されている１頁前の読取画像データとの差分情報を生成して画像検査処理部２４に送出する。 - 特許庁

In the method, the data object 1 is integrated into the medical data set 2 via at least one shadow group object 3 of the DICOM standard and a running and/or planned process in connection with the patient examination can be controlled dependent on the integrated data object.例文帳に追加

方法は、データオブジェクト１がＤＩＣＯＭ規格の少なくとも１つのシャドウグループオブジェクト３を介して医療データセット２に組み入れられ、組み入れられたデータオブジェクト１に依存して、進行中の計画されるプロセスが患者検査に関係して制御可能とする。 - 特許庁

The kind code and lot name in the implementation and the step No. indicating the position on the manufacture procedure in the operator's console 1 are transmitted to the unit control parts and information on them is transmitted to the operator's console 1 when the process of a unit control part ends to confirm the manufacture implementation.例文帳に追加

製造実行中の品種コード、ロット名称、オペレータズコンソール１内の製造手順上の位置を示すステップＮｏ．をユニット制御部へ送達し、ユニット制御部の処理終了時にこれらの情報をオペレータズコンソール１に送達して実行の確認を行う。 - 特許庁

A plurality of parameters which are necessary for step measurement are defined in advance to a wafer whose surface condition shifts one after another passing through each process, and in steps S1 and S2, for example, it is judged whether step measurement is necessary or not to a set wafer by a parameter.例文帳に追加

各工程を経ることによりその表面状態が逐次遷移するウエハに対し、段差計測に必要な複数のパラメータを事前に定義し、例えばステップＳ１及びＳ２では、パラメータにより、セットされたウエハについて段差計測が必要か否かを判断する。 - 特許庁