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pattern shapeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3752件
A method of printing the chipless RFID tags having unique shapes includes printing a RFID antenna pattern precursor by using a first printing method (herein, the RFID antenna pattern precursor has a plurality of disconnected wire segments), and printing a conductive ink by using a second printing method so as to mutually connect at least two of the plurality of disconnected wire segments, thereby manufacturing a final RFID antenna having a unique antenna geometric shape.例文帳に追加
第1の印刷法を用いてRFIDアンテナパターン前駆体を印刷し(ここで、RFIDアンテナパターン前駆体は複数の非接続配線セグメントを有する)、第2の印刷法を用いて導電性インクを印刷して、該複数の非接続配線セグメントの少なくとも2つを相互接続し、独特のアンテナ幾何学形状を有する最終RFIDアンテナを製造することを包含する独特の形体を有するチップレスRFIDタグの印刷方法。 - 特許庁
In the ceramic carrier comprising a laminate of a plurality of ceramic green sheets provided with a wiring pattern and a grid electrode 4 formed of a conductor composition 41 filled in a through hole 4 of one side outermost ceramic green sheet 5 of the laminate, a surface shape of each electrode of the grid electrode 4 is formed in an outward protruding ridge shape.例文帳に追加
配線パターンが設けられた複数のセラミックグリーンシート積層体により構成され、かつこの積層体における一方側最外セラミックグリーンシート5の貫通孔40内に充填された導体組成物41にて形成されたグリッド電極4を備えるセラミックキャリアであって、上記グリッド電極における各電極の表面形状が電極周縁部よりその中央部が外方に凸の山型形状になっていることを特徴とする。 - 特許庁
To improve the stability and the resolution of delivery between a specified pixel constituting a stripe pattern of an optical element configured by arranging a large number of pixels of long and narrow shape on a substrate and an interval (pitch) of a pixel of the same color adjoining the specified pixel by using an inkjet printer.例文帳に追加
インキジェット印刷装置を使用して、基板上に長細い形状の画素を多数配列して構成される光学素子のストライプ状のパターンを構成する特定の画素と、この画素と隣接する同一色の画素の間隔(ピッチ)との間の吐出の安定性及び解像度を向上させることを課題とする。 - 特許庁
To configure an optical element for correcting an influence from the surface shape of a reticle pattern surface which is a factor incurring the distortion or random distortion remaining in a projection optical system, and to configure a pellicle which reduces deterioration even when a light source of a short wavelength such as ArF or F_2 is used.例文帳に追加
ディストーションの発生要因であるレチクルパターン面の面形状の影響あるいは、投影光学系に残存するランダムなディストーションを補正する光学素子を構成可能にするとともに、ArF、F_2といった短波長の光源を使用した場合でも劣化の少ないペリクルを構成することを可能とする。 - 特許庁
This method for press-molding the molding material for a parting corner accessory is to mold the molding material 1 to the outside corner shape and mold an uneven pattern on each outer surface 1a of the molding material 1 using two molding tools 2 corresponding to two outer surfaces 1a, on the outside corner side, of the molding material 1.例文帳に追加
成形材料1を出隅形状に成形し、この成形材料1の出隅側の二つの外面1aに対応する二つの成形型2を用いて、成形材料1の各外面1aに凹凸模様を成形するようにした出隅役物用成形材料のプレス成形方法に関する。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive resin composition having superior dry etching resistance and high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.例文帳に追加
優れたドライエッチング耐性を有し、しかも放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対する十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
The control circuit 8 adjusts and controls the level adjusting means 45 based on the operation result by the operation circuit 7, and therefore the receiving power level is corrected based on a beam pattern shape characteristic of the antenna 1, and the target reflected signal level can be captured in a dynamic range in a receiver and detected.例文帳に追加
制御回路8は、演算回路7による上記演算結果に基づき、レベル調整手段45を調整制御するので、アンテナ1固有のビームパターン形状に基づき受信電力レベルが補正され、目標反射信号レベルを受信機におけるダイナミックレンジ内に捕らえて検出することができる。 - 特許庁
To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加
本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁
Two or more layers of amplitude type CGHs (9) in which transmissivity of light is varied in a pattern shape are stacked in the glass material of the glass bottle 20 by using a femtosecond laser of ultra short pulses to increase differences in the transmissivity of light of the CGHs (9), and a diffraction image of high contract can be formed.例文帳に追加
光の透過率がパターン状に変化する振幅型CGH(9)を、超短パルスのフェムト秒レーザーを用いてガラス瓶20のガラス材料の内部に複数層積層して形成することにより、CGH(9)における光の透過率の違いを高めて、高いコントラストの回折像を生成可能とする。 - 特許庁
This manufacturing method comprises a process to deposit a thin film 12 on the surface of a base material 11, a process to form an exposing position reference mark 21 having the particular shape on the thin film, a process to form a resist layer 13 on the thin film and exposing position reference mark and a process to execute pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加
基体11の表面に薄膜12を堆積する工程と、薄膜上に特定の形状を有する露光位置参照マーク21を形成する工程と、薄膜及び露光位置参照マーク上にレジスト層13を形成する工程と、レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程とを有する。 - 特許庁
In such a way, since single body the fluidized molding sand or combination of caked molding sand and the fluidized molding sand is used and the vibration of circular movement is given to the inclined molding flask, the fillability of the molding sand is remarkably improved, and even in the case of being the lost foam pattern having complicated shape, the molding sand can surely be filled.例文帳に追加
このように、流動砂単体または、粘結性鋳型砂と流動性鋳型砂とを組み合わせ、傾斜した鋳枠に円運動の振動を与えることとしたので、鋳型砂の充填性が著しく改善され、複雑な形状の消失模型であっても、確実に鋳型砂を充填することができた。 - 特許庁
The shoe sock 200 for the infant to be laid inside the infant shoe has a structure having a shape closely resembled to a foot pattern of the infant, and having a bendable section 210 where rigidity is inferior to other sections, at least in one part of the insole for the infant.例文帳に追加
幼児用靴の内部に配置される幼児用靴中敷であって、この幼児用靴中敷が幼児の足型に近似した形状を成すと共に、この幼児用靴中敷の少なくとも一部には、他の部分より剛性が劣る屈曲部210が形成されていることを特徴とすることで幼児用靴中敷200を構成する。 - 特許庁
The distributed density mask comprises a plurality of masks formed for separate exposure regions, the exposure region of each of the masks has a light shielding pattern with a two-dimensional light intensity distribution formed on the transparent substrate and each of the exposure regions is divided by unit cells of appropriate shape and size without leaving a gap.例文帳に追加
この濃度分布マスクは異なる露光領域ごとに作成された複数枚のマスクにより構成され、各マスクの露光領域は透明基板上に2次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、各露光領域は適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されている。 - 特許庁
To provide a thin film deposition method by which an area excepting mask material on a body to be processed where patterning of the mask material is performed is coated with liquid material, patterning is performed by means of the difference of wettability, and when the material is solidified thereafter, the shape of the pattern-formed thin film is made rectangular, and to provide the body to be processed having the thin film.例文帳に追加
マスク材がパターニングされた被処理体上において、マスク材を除く領域に液体材料を塗布し、濡れ性の差によりパターニングを行い、その後固化した際に、パターン形成された薄膜の形状を矩形化できる薄膜形成方法および薄膜を有する被処理体を提供すること。 - 特許庁
The surface of the disk (12) held to a vertical posture is irradiated with illumination light having an illumination pattern becoming an irradiation range, which has a shape almost the same to that of an inspection region containing an edge, from illumination devices (112, 114, 116 and 118) and the reflected light from the inspection region containing the edge is imaged by cameras (102 and 104).例文帳に追加
垂直姿勢で保持されたディスク(12)の面に対し、照明装置(112,114,116,118)からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ(102,104)によって撮像する。 - 特許庁
In the ceramic heater 40, a ceramic material is molded in a flat plate shape, and radiates infrared rays IR when heated by a hot plate 28, the main face (joint surface 46) at one side is formed flat, and an uneven pattern (recess 44) is formed at one part or the whole of the main face (radiant surface 48) at the other side.例文帳に追加
セラミック材料を平板状に成形してなり、熱盤28に加熱されて赤外線IRを放射するセラミックヒーター40であって、一方側の主面(接合面46)が平坦に形成されるとともに、他方側の主面(放射面48)の一部または全部に凹凸パターン(凹部44)が形成されている。 - 特許庁
Since a specific pattern shape for reflecting light incident in the inside of the light guide plate from the light incoming end surface is not installed on the reflecting surface according to the incline angle, a mold used in the manufacture of the light guide plate can be manufactured easily and in a short time, cost is reduced and time requiring the manufacture is shortened.例文帳に追加
このように、傾斜角に応じた反射面には、入光端面から導光板内部に入射した光を反射するための特別なパターン形状を設けないので、導光板の製造に使用する金型を容易かつ短時間で製作でき、低コスト化及び製作に要する時間の短縮が可能となる。 - 特許庁
A power semiconductor device includes a plurality of electrode posts 61 and 62 that have a planer shape and are erected so that each one side is bonded to each of an electrode and a circuit pattern of a power semiconductor element, and a metal wire 7 that is composed of a wire rod, lays across the other side of each of the electrode posts, and electrically connects each of the electrode posts.例文帳に追加
板状であり、電力用半導体素子の電極及び回路パターンのそれぞれに一端側をそれぞれ接合して立設した複数の電極ポスト61,62と、線材にてなり、各電極ポストの他端側に渡され各電極ポストを電気的に接続する金属線7とを備えた。 - 特許庁
The method for producing the laminate includes the steps of: melt-coextruding the polyolefin resin with the thermoplastic resin other than the polyolefin resin to obtain a film-shaped material; inserting the film-shaped material between a pattern imparting roll and a touch roll so that the polyolefin resin-side surface may be brought into contact with the shaping roll to form a mat shape on the thermoplastic resin-side surface.例文帳に追加
また、本発明の製造方法は、ポリオレフィン系樹脂と該ポリオレフィン系樹脂以外の熱可塑性樹脂とを溶融共押出してフィルム状物を得、前記ポリオレフィン系樹脂の面が賦型ロールに接触するように賦型ロールとタッチロールの間に挿入し、前記熱可塑性樹脂の面に、マット形状を形成する。 - 特許庁
To obtain a positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power of ≤0.2 μm in the production of a semiconductor device, giving a photoresist of a rectangular shape and less liable to cause a dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step when the composition is used as the upper layer resist of a two- layer resist system.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、高感度で0.2μm以下の高解像力を有し、かつ矩形形状のフォトレジストを与え、また二層レジストシステムの上層レジストとして使用した場合、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが少ないポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for the shape restoration of a pattern which has never been carried out because of the absence of a proper method particularly in a semiconductor device regarding a method for realizing the restoration of the defect of a substrate, and to provide a manufacturing method of the manufacturing device where they are applied.例文帳に追加
本発明は、基材の欠陥の修復を可能にする方法に関し、特に半導体デバイスにおいて、これまで適当な方法がないために実施できなかった、パターンの形状の修復を可能とする方法及び装置を提供するものであり、さらにこれらを応用する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide glass chopped strands that secure rigidity necessary for a molding, prevent mat damage in drawing out from a roll, prevent phenomena of the shape of glass chopped strand coming up to the skin occurring in the molding and reduce danger of occurrence of a pockmark-like pattern in forming a molded ceiling material for automobile, and the molded ceiling material for automobile using the same.例文帳に追加
成形品に必要な剛性を確保し、ロールから引き出し時のマット損傷防止、成形品に発生するガラス目防止、さらに自動車成形天井材とした際、アバタ状模様の発生の危険性を低減するガラスチョップドストランドとそれを用いる自動車成形天井材を提供する。 - 特許庁
Then, the respective light source chips 72 to 77 are capable of turning on and off independently from the other light source chips, and the longitudinal direction of light emitting faces of the respective light source chips 72 to 77 is arranged in the radial shape along the radial direction of the light axis according to the light distribution pattern shapes of the variable light volume light distribution type AFS projected forward.例文帳に追加
そして、光源チップ72〜77のそれぞれは、他の光源チップとは独立に点消灯可能であり、各光源チップ72〜77の発光面の長手方向は、前方に投影される光量可変配光型AFSの配光パターン形状に応じて、光軸の径方向に沿って放射状に配置されている。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a low-temperature baking multilayer ceramic wiring board capable of increasing the degree of freedom for the design of a wiring circuit layer and a layer configuration of an insulating layer free from any restraint of a difference of a pattern shape of the wiring circuit layer arranged on the laminated body and a layer configuration of the insulating layer consisting of various types of a contraction behavior.例文帳に追加
積層体に配された配線回路層のパターン形状の違いや収縮挙動の異なる数種類からなる絶縁層の層構成にほとんど制約がなく、配線回路層の設計や絶縁層の層構成の自由度を高くできる低温焼成多層セラミック配線基板の製法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the color filter includes processes of: forming the negative type films 18 by using green, blue and red colored compositions in accordance with a plurality of photo-electric conversion elements 12 in an imaging device 14; performing pattern-exposure of the films via a density distribution mask; and thereafter, developing the film to form the outer surface of each color filter into a convex lens shape.例文帳に追加
カラーフィルター製造方法は:撮像素子14の複数の光電変換素12に対応して緑,青,赤色組成物によりネガ型膜18を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 - 特許庁
Since this method allows the mask pattern 46 of high precision to be formed on the imprint resin layer 42 by impression of the nano-stamper 43, the monolithic semiconductor lens 23 having a desired shape is formed more easily than conventional methods which use wet etching or form resist patterns by baking.例文帳に追加
この方法では、ナノスタンパ43の押印によってインプリント樹脂層42に精度の高いマスクパターン46を形成できるので、従来のようにウエットエッチングを用いる場合や、ベーキングによってレジストパターンを形成する場合と比較して、所望の形状を有するモノリシック半導体レンズ23を簡易に形成できる。 - 特許庁
To provide a negative resist composition which satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and a good margin for light exposure in microfabrication particularly when KrF excimer laser, X-radiation, an electron beam or an ion beam is used.例文帳に追加
半導体素子の微細加工における性能向上技術における課題を解決することであり、特にKrFエキシマレーザー、X線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好な露光量マージンの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To suppress an increase in the exposure time of an exposing device and to suppress variation in the shape of a resist pattern due to variation in the time from the end of an exposure process by the exposing device to a heat treatment carried out to change solubility of an exposed region of a resist film for a developer.例文帳に追加
露光装置における露光時間が長くなることを抑え、且つ露光装置にて露光処理を終えてからレジスト膜における露光された領域の現像液に対する溶解性を変化させるために行われる加熱処理を行うまでの時間のばらつきによるレジストパターンの形状のばらつきを抑えること。 - 特許庁
To provide a method for producing a copolymer for semiconductor lithography, controlling a composition of a repeating unit containing a hydroxyl group in a low molecular weight region to improve shift pattern shape in a semiconductor lithography process which is a factor largely affecting a processing precision, an integration degree and yield.例文帳に追加
加工精度に大きく影響し、集積度やさらには歩留まりを左右する大きなファクターである、半導体リソグラフィー工程におけるレジストパターン形状を改善するために低分子領域における水酸基含有繰り返し単位の組成を制御した半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
As regards images acquired by irradiating the electron beam onto a pattern on a substrate formed through the multiple exposure method, the electron beam measuring technique has a means to classify the above respective patterns into two or more groups in accordance to the exposure history based on a difference in luminance or in shape of a white band of the respective patterns within these images.例文帳に追加
多重露光法により形成された基板上のパターンに前記電子ビームを照射して取得した画像について、該複数の画像内のそれぞれのパターンの明るさまたはホワイトバンドの形状の差から、前記それぞれのパターンを露光履歴に応じた複数のグループに分類する手段を有することを特徴とする。 - 特許庁
As the dummy pattern 3D formed of the same material as the wiring material between the wirings (wiring patterns) 3a, 3b of the same layer, the shape thereof is reduced, in the opposing capacitance (parasitic capacitance) between at least the adjacent wirings, in comparison with the rectangularparallelopiped having the parallel surfaces to the same wiring.例文帳に追加
同一層の配線(配線パターン)3a、3b間にそれら配線材料と同一の材料にて形成されるダミーパターン3Dとして、その形状を、少なくとも隣り合う配線との間の対向容量(寄生容量)が同配線との平行面を有する直方体に比べて減少される形状とする。 - 特許庁
To provide a polymerizable composition which has high light shielding properties in an infrared region, has high light transmissivity in a visible light region, has a desired shape formed by alkali development and can form a pattern excellent in durability (durability to high temperature and high humidity, adhesiveness to substrate and the like).例文帳に追加
本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに、耐久性(高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など)に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a master disk bearing information to be transferred by magnetic transfer, capable of transferring the shape of an uneven pattern on an original disk well in electroforming, and preventing the generation of internal stress in an electroforming layer, and having high flatness and high adhesion to the slave disk of a transfer destination.例文帳に追加
磁気転写によって転写する情報を担持したマスターディスクであって、電鋳を行う際に原版上の凹凸パターンの形状転写が良好になされ、また、電鋳層に内部応力を生じにくく、高平坦であり、被転写用のスレーブディスクに対して密着性の高いマスターディスクを提供する。 - 特許庁
The solar cell comprises at least a semiconductor substrate having a pn junction formed, a finger electrode formed in a comb shape on at least one surface of the semiconductor substrate, and the bus bar electrode connected to the finger electrode, wherein the bus bar electrode has a pattern having an opening portion in the electrode.例文帳に追加
少なくとも、PN接合が形成された半導体基板と、半導体基板の少なくとも片面上に櫛歯状に形成されたフィンガー電極と、フィンガー電極に接続するバスバー電極を具備する太陽電池であって、バスバー電極がその電極内に開口部があるパターンを有するものである太陽電池。 - 特許庁
To attain high permeability in a GHz band without requiring processing for imparting induction anisotropy by performing heat treatment in a magnetic field or processing for imparting shape anisotropy by forming a micro pattern, and to obtain a soft magnetic member without using a hard substrate material.例文帳に追加
磁界中熱処理を施して誘導異方性を付与する、あるいは微細パターンを形成して形状異方性を付与するといった処理を行なうことなく、GHz帯域での高透磁率化を達成すること、さらには硬い基板材料を用いることのない軟磁性部材を得ることを目的とする。 - 特許庁
The first conductive film 2 has a concave and convex pattern 5 of a predetermined cycle formed on the surface of the substrate 1 side, and the shape of a side portion that defines an edge portion 2a to be irradiated with the incident light 100 of the first conductive film 2 is convex or linear as seen from the incident light 100 incident side.例文帳に追加
そして、第1導電性膜2が基体1側の表面に形成された所定周期の凹凸パターン5を有し、且つ、入射光100の入射側から見て、第1導電性膜2の入射光100が照射される端部2aを画成する辺部の形状が凸状または直線状とする。 - 特許庁
The key switch includes a key 6 of a circular column-shape and the switch body 1 provided with a detecting mechanism 9, and an operation information pattern inputted, by operating the circular column-shaped key 6 against an insertion hole 3 formed in the switch body 1 is detected by the detecting mechanism 9, to thereby carry out authentication.例文帳に追加
キースイッチにおいて、円柱形状のキー6と、検出機構9を備えたスイッチ本体1とからなり、前記スイッチ本体1に形成された挿入孔3に対して前記円柱形状のキー6を操作することによって入力される運動情報パターンを前記検出機構9で検出し、認証を行う。 - 特許庁
To provide a multi-tank electrolytic copper plating method for quickening the speed of electrolytically plating an electrolytic plating layer on the surface of a conductive composition layer which includes silver particles and resin binder and is formed in a pattern shape on a substrate sheet, and to provide a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding material with satisfactory productivity by using the multi-tank electrolytic copper plating method.例文帳に追加
基材シート上に銀粒子と樹脂バインダを含みパターン状に形成された導電性組成物層の表面に電解銅めっき層を電解めっきする速度を速くできる多槽電解銅めっき方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を生産性よく製造できる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a wiring board capable of reliably reducing deformation of a metal frame, and warpage and cracks of a multiple-pattern base board when tentatively mounting the metal frame on a metalized layer formed on a surface of each wiring board and having a rectangular shape in a plan view, in a manufacturing method by multiple patterning of a wiring board.例文帳に追加
配線基板の多数個取りによる製造方法にて、配線基板ごとの表面に形成した平面視が矩形のメタライズ層上に金属枠を仮付けする際に、該金属枠の変形や多数個取りベース基板の反りやクラックを確実に低減できる配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method and device of forming a conductive patter capable of inexpensively, easily, and reliably forming a conductive pattern in a desired shape on a conductive polymer film by selectively quenching conductivity of the conductive polymer film, and capable of reducing a cost of each kind of a device and stabilizing the device.例文帳に追加
導電性ポリマー膜の導電性を選択的に失活させて、前記導電性ポリマー膜上に、所望の形状の導電パターンを、安価、簡便、且つ確実に形成することができ、各種デバイスの低廉化及び安定化を実現することができる導電パターン形成方法及び導電パターン形成装置の提供。 - 特許庁
To provide a polymerizable composition which has a high light-shielding property in an infrared region and a high light transmission property in a visible light region and a desired shape by alkaline-developing and is capable of forming a pattern which is excellent in durability (resistance to high temperature and high humidity and adhesion to a substrate).例文帳に追加
本発明の目的は、赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像によって、所望の形状を有するとともに耐久性(高温、高湿に対する耐久性や、基板に対する密着性など)に優れたパターンを形成可能な重合性組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide having high optical coupling efficiency with light-emitting and light-receiving elements and is excellent in durability.例文帳に追加
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、発光素子や受光素子との光結合効率および耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for preparing a thin film forming composition which suppresses increase in molecular weight of an alkoxysilane condensation product during storage and substantially avoids increase in viscosity of the composition, therefore enables to form a thin film uniform in film thickness and having a fine pattern shape with high accuracy.例文帳に追加
貯蔵保管時にアルコキシシラン縮合物の分子量の増大が抑制されており、薄膜形成用組成物の粘度の上昇が生じ難く、従って、膜厚が均一であり、微細パターン形状を有する薄膜を高精度に形成することを可能とする薄膜形成用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁
The interlayer insulation films 47 are formed by screen printing in a fine line shape after forming a high surface free energy region on the wettability changing layer by irradiating a region where the interlayer insulation films 47 are formed in the terminal part 40 with DeepUV rays at a wavelength 254 nm through a photomask with a pattern drawn thereon.例文帳に追加
層間絶縁膜47は、端子部40の層間絶縁膜47を形成する領域にパターンが描画されたフォトマスク越しに波長254nmのDeepUV光を照射し、濡れ性変化層上に高表面自由エネルギー領域を形成した後、微細なライン形状でスクリーン印刷法によって形成する。 - 特許庁
In the method for producing a mask, an ink film 11a comprising ink opaque to UV formed on an ink ribbon 11 is heat-transferred to the top of a film sheet P as a substrate comprising a UV transmissive material with a heat transfer printer to print and form a mask pattern 12 of the desired shape.例文帳に追加
本発明は、紫外線透過性の材料からなる基板であるフィルムシートP上に、熱転写プリンタを用いてインクリボン11に形成した、紫外線不透過性のインクからなるインク膜11aを熱転写して、所望の形状のマスクパターン12を印刷形成するようにした熱転写プリンタを用いたマスク製造方法である。 - 特許庁
When a laminate composed of laminated single-sided conductor pattern films 21 is heated and pressed with hot pressing plates 10a and 10b, heat and pressure are applied to the laminate with the pressing plates 10a and 10b each of which has an initial shape that is initially curved toward the laminate and then becomes flat due to elastic deformation.例文帳に追加
片面導体パターンフィルム21の積層体を熱プレス板10a,10bによって加熱及び加圧する際に、その積層体に向かって凸となるように湾曲した初期形状を有し、弾性変形によって平板状となるプレスプレート11a,11bを介して、熱及び圧力を加える。 - 特許庁
On the silicon layer 33, an n-type well area 34 is formed in a racetrack shape pattern, in inner area and outer area of which p-type base areas 35a, 35b of the MOSFETs 21a, 21b are respectively formed to reach a silicon oxide film 32 through p-type well areas 44a, 44b.例文帳に追加
シリコン層33に、n型ウェル領域34がレーストラック形状のパターンで形成され、その内側領域および外側領域にMOSFET21a、21bのp型ベース領域35a、35bがp型ウェル領域44a、44bを介してシリコン酸化膜32に到達するようにそれぞれ形成されている。 - 特許庁
The film type heater 33 includes: a heat resistant insulating layer 34; a heating element 35 formed on one side surface of the heat resistant insulating layer 34 to have pattern shape comprising a plurality of lines and generating heat by application of voltage; and a heat transfer layer 36 formed in a surface state on the other side surface of the heat resistant insulating layer 34.例文帳に追加
フィルム状ヒータ33は、耐熱絶縁層34と、複数本の線からなるパターン形状を有するように耐熱絶縁層34の一側の面に形成されるとともに電圧の印加により発熱する発熱体35と、前記耐熱絶縁層34の他側の面に面状に形成される伝熱層36と、を含む。 - 特許庁
In a master disk 46 for the magnetic transfer in which an outer shape is in an annular state and lots of fine magnetic layer patterns are formed on its surface, one or more slits 45 extending from neighborhood of an inner circumference part 46d to the neighborhood of a circumferential part 46e are formed in an area 46c where the magnetic layer pattern is not formed.例文帳に追加
外形が円環状であり、その表面に多数の微細な磁性層パターンが形成されている磁気転写用マスターディスク46において、磁性層パターンが形成されていない領域46cにおいて、内周部46d近傍より外周部46e近傍まで達するスリット45が1以上形成されている。 - 特許庁
To provide an optical three-dimensional shaping apparatus capable of manufacturing a three-dimensional shaped product excellent in dimensional precision, appearance and strength by irradiating a shaping surface, which comprises a photosetting resin composition, with light enhanced in energy intensity and having a uniform optical intensity distribution in a predetermined shape pattern through a sheet drawing mask.例文帳に追加
エネルギー強度が高く、光強度の分布が均一な光を面状描画マスクを介して所定の形状パターンで光硬化性樹脂組成物よりなる造形面に照射して、寸法精度、外観、強度などに優れる立体造形物を速い造形速度で製造できる光学的立体造形装置の提供。 - 特許庁
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