「vertical process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

In this way the process gas is made to flow into the regions vertically different to each other, and the partial pressure is held uniformly, so the selectivity of seeding in the vertical direction of the reactive tube 22 can be held uniformly, and uniform HSg-Si can be formed.例文帳に追加

反応管内の高さ方向に相互に異なる領域にプロセスガスを流出させて、反応管のプロセスガスの分圧を一様に保持することにより、反応管内高さ方向のSeeding の選択性を均一に維持し、均一なＨＳＧ−Ｓｉを形成することができる。 - 特許庁

To provide a vertical filling packer for carrying out a manufacturing method of hardly forming wrinkles on a cylindrical film during drawing operation even if the weight of a filler is relatively heavy in manufacturing a two-component packaging bag by a drawing process.例文帳に追加

シゴキ動作を行う２液袋包装袋の製造において、封入する充填物の重量が比較的重い場合であっても、シゴキ動作の際に筒状フィルムにシワを発生させにくい製造方法を実施する縦型充填包装機を提供する。 - 特許庁

To provide an automatic supplying device of a grommet nut capable of conveying the grommet nuts with a specific posture from a supply source to a supply destination by distinguishing the grommet nuts having the possibility to be conveyed with a wrong posture by the vertical or longitudinal inversion, in a conveying process.例文帳に追加

上下或は前後反転により異なった姿勢で搬送される可能性のあるグロメットナットを搬送過程で弁別することにより、特定の姿勢のものだけを供給元から供給先へ搬送するグロメットナットの自動供給装置を提供する。 - 特許庁

The scanning direction 300 of the excimer laser is made the same as the L length direction (current direction) of the transistor (TFT) 210 forming a buffer in a vertical scanner 200, in the ELA crystallizing process of an active matrix organic EL display 100.例文帳に追加

アクティブマトリクス型有機ＥＬ表示装置１００のＥＬＡ結晶化工程においてエキシマレーザのスキャン方向３００と、垂直スキャナ２００内のバッファを形成するトランジスタ（ＴＦＴ）２１０のＬ長方向（電流が流れる方向）が同方向になるようにする。 - 特許庁

To provide an image data processing apparatus and method which can carry out a drawing process for a strip-shaped pattern extending continuously in the vertical scanning direction and having an uneven length at a high speed, and to provide a storage medium with its data processing program stored.例文帳に追加

副走査方向に連続して伸び均一の長さでない短冊形のパターンの描画処理を高速に行うことができる画像データ処理装置及び方法及び当該データ処理プログラムを格納した記憶媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁

At the time of continuously coating the front and back surfaces of the steel plate traveling in the vertical direction with a surface treating liquid before or after plating process, the coating is carried out to perform the adjustment of the average coating quantity at first, and after that, the coating quantity is uniformalized with a smoothing roll or by jetting a gaseous fluid from the vertical direction to the surface of the steel plate.例文帳に追加

めっき工程前またはめっき工程後の鉛直方向に走行する鋼板の表裏面上に表面処理液を連続的に供給しながら塗布する際、まずコーティングを行って平均塗布量の調節を施し、その後均しロールを用いてまたはガス流体を鋼板面に垂直方向から噴射して塗布量の均一化を施すことを特徴とする鋼板への表面処理液の連続塗布方法。 - 特許庁

This method for manufacturing an HVFET having one or more JFET condition channels comprises a process for successively implanting a dopant of a first conductivity type in a first epitaxial layer of a second conductivity type in order to form a plurality of first buried layers disposed at different vertical depths.例文帳に追加

１つ以上のＪＦＥＴ伝導チャネルを有するＨＶＦＥＴの作製方法は、垂直方向に異なる深さで堆積される第１の複数の埋込層を形成すべく、第２伝導型の第１エピタキシャル層に第１伝導型のドーパントを連続的に打込む工程を備える。 - 特許庁

After that, if the horizontal length of a rectangle circumscribing the two or more objects included in the object group G is equal to the vertical length or more, and the horizontal length of every one of the two or more objects is less than a threshold, a reblocking process is executed.例文帳に追加

その後、オブジェクトグループＧ内に含まれる２つ以上のオブジェクトの外接矩形の水平方向の長さが垂直方向の長さ以上であり、且つ、それら２つ以上のオブジェクトの少なくとも１つの水平方向の長さが閾値以上でない場合に、再ブロック化処理を行う。 - 特許庁

The vertical drift layer 38 of such structure is formed by, for example, stacking an epitaxial growth layer while only a p-type impurity is inserted, and then diffusing the impurity fed in different stage into an epitaxial growth layer all at once in a thermal process.例文帳に追加

かかる構造の縦形ドリフト層３８は、例えば、ｐ型の不純物のみの導入を間挿しながらエピタキシャル成長層を積み増し形成した後、段違いに仕込んだ不純物を熱処理によりエピタキシャル成長層の中に一気に拡散させることで形成できる。 - 特許庁

In the solder connection device where a circuit board is connected in reflow process, vertical motion of a circuit board holder for mounting a circuit board is asymmetrical, and a drive mechanism capable of quick upward motion and slow downward motion is provided.例文帳に追加

回路基板を上下運動させながら、回路基板をリフロー接続するはんだ接続装置において、回路基板を載置する回路基板ホルダの上下運動を非対称し、上昇運動は素早く、下降運動はゆっくり行うことのできる駆動機構を有するはんだ接続装置を提供する。 - 特許庁

To provide a concrete-made horizontal reinforcement block projecting joint protrusion sections for eliminating a joint to vertical plate-like overhang sections formed in both sides in front and behind of both sides of a block body and closely butting the adjoining ones against each other even if there are burr edges inevitably occurs in a manufacturing process.例文帳に追加

ブロック本体の両側面の前後両側に形成した縦板状の張出部に対し目地を不要にするため目地用突部を突設し、なおかつ、製造工程上、不可避的に発生するバリがあっても隣り合うもの同士が隙間なく突き合わさるコンクリート製横筋ブロックを提供する。 - 特許庁

The image data processing apparatus has a converting means which converts printing data to image data by exchanging coordinates of the vertical scanning direction and a horizontal scanning direction, and a means which can compress, expand and rotate the data per band, and is configured to carry out the drawing process and print out.例文帳に追加

画像データ処理装置において、印字データを副走査方向と主走査方向の座標を入換えてイメージデータに変換する変換手段と、該データをバンド単位で圧縮、伸張、回転が可能とする手段を有し、描画処理、印刷出力を行なう構成を備える。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a lead frame in which the opposite end parts of the lead frame in the width direction are not broken and scattered even if they touch the vertical part of a carrying rail when the lead frame is carried on the carrying rail at the time of post-processing.例文帳に追加

リードフレームに後加工が行われる際の、搬送レールによる搬送時にリードフレームの巾方向の両端部が搬送レールの垂直部に接触しても、リードフレームの巾方向の両端部が折れ金属片として飛散することのないリードフレームの製造方法を提供すること。 - 特許庁

Even when water invades the inside of a liquid crystal display element via the alignment layer 30, as the moisture capturing element contained in the alignment layer 30 captures the water, the water scarcely reaches the vertical alignment liquid crystal 40 during an operating process of the liquid crystal display element over an extended period of time.例文帳に追加

液晶表示素子の内部に配向膜３０を通じて水が侵入すると、その配向膜３０中に含まれている水分捕獲元素が水を捕獲するため、液晶表示素子の長期間に渡る動作過程において垂直配向液晶４０まで水が到達しにくくなる。 - 特許庁

In the adjustment member 19d, an eccentric cam 19f provided eccentric to an adjustment shaft 19e, which is rotatable with respect to the process unit, is fitted in an engagement hole 21c of the front-side plate in contact with a pair of side edges extending lengthwise along the vertical direction.例文帳に追加

調整部材１９ｄは、プロセスユニットに対して回転可能になった調整軸１９ｅに対して偏心状態になった偏心カム１９ｆが、正面側プレートの係合孔２１ｃに、上下方向に沿って長く延びる一対の側縁に接触した状態で嵌合している。 - 特許庁

In the processes of loading and unloading a semiconductor workpiece using a means for pushing up the semiconductor workpiece through the process of lifting a processing station 31, the semiconductor workpiece is securely held to stay in an original location without any vertical rise and fall in conjunction with an injector pin 21.例文帳に追加

処理ステーション３１を上昇させて半導体ワークピースを押し上げる手段を用いて、半導体ワークピースをローディング・アンローディングする過程において、半導体ワークピースをイジェクターピン２１に伴って上下昇降させることがなく、元の場所に停留するように確保する。 - 特許庁

On the downstream side of the regular size cutting process of a pipe extrusion-molding line, a tubing conveyance elevator 2 in which tubing receivers 21, 21 are fitted to vertical conveyers 20, 20 is installed, and a tubing sampling machine 3 having a tubing picking-up rotary arm 30 is installed on the transverse piece side of the elevator 2.例文帳に追加

パイプ押出成形ラインの定尺切断工程の下流側に、縦形コンベア２０，２０に管材受け２１，２１を取付けた管材搬送エレベ−タ２を設置し、管材すくい上げ回転ア−ム３０を備えた管材抜き取り機３を前記管材搬送エレベ−タ２の横片側に設置した。 - 特許庁

In this shooting game device, the photographed image of the video camera photographing a shooting area where the spot beam 26 for specifying a shot position is projected is scanned at least in one direction of the horizontal direction and vertical direction to make the position detection process of the spot beam 26 projected to the shooting area.例文帳に追加

このシューティングゲーム装置は、着弾位置特定用のスポット光が投射されるシューティングエリアを撮像するビデオカメラの撮像画像を水平方向及び垂直方向の少なくとも一方向に走査し、前記シューティングエリアに投射されるスポット光２６の位置検出処理を行う。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of stably forming an image over a long term by preventing toner from being stuck and fused on a developer regulating member so as to prevent the thinning of image density and the vertical stripe of the image, and a process cartridge used for the image forming apparatus.例文帳に追加

現像剤規制部材へのトナーの固着および融着を防止することで画像の濃度薄及び縦スジを防ぎ、長期にわたって安定した画像形成を行うことの可能な画像形成装置及び該画像形成装置に用いるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Because the Schottky electrode 24 is Schottky-connected with the N-silicon region 21, an electrode material compatible with a semiconductor process can be used, and therefore, it is possible to form the Schottky barrier diode 20 on a semiconductor substrate 11 identical to that of the vertical P-channel power MOSFET 10.例文帳に追加

ショットキー電極２４は、Ｎ−シリコン領域２１とショットキー接続するため、半導体プロセスと整合性のある電極材料を用いることができるので、縦型ＰチャネルパワーＭＯＳＦＥＴ１０と同一半導体基板１１上にショットキーバリアダイオード２０を形成することができる。 - 特許庁

To provide a SiC semiconductor substrate which can form a vertical semiconductor device, can be produced without a sticking process requiring the planarization of an intermediate interposing member such as a base substrate and a substrate surface, and can reduce the use amount of a high quality single crystal SiC.例文帳に追加

縦型の半導体素子の形成が可能で、かつ、ベース基板のような中間介在物や基板表面の平坦化が必要な貼り合せ工程を必要とせずに製造でき、高品質な単結晶ＳｉＣの使用量を減らすことが可能なＳｉＣ半導体基板を提供する。 - 特許庁

A laminated body 9 where an antiferromagnetic layer 2, a fixed magnetic layer 3, a non-magnetic conductive layer 4, a free magnetic layer 5, a backed layer (average free process extending layer) B1 and a vertical bias layer 6 are laminated and electrode layers 8 formed on both sides of the laminated body 9 are disposed on a substrate K.例文帳に追加

基板Ｋ上に、反強磁性層２、固定磁性層３、非磁性導電層４、フリー磁性層５、バックド層（平均自由行程延長層）Ｂ１、縦バイアス層６が積層されてなる積層体９と、この積層体９の両側に形成された電極層８とを有する。 - 特許庁

The process cartridges 1, 2, 3, and 4 of four colors are stacked in the vertical direction, and the distance from the primary transfer finishing position N4 of a toner image on an intermediate transfer belt 5 to a secondary transfer position 10 to a transfer material 6 is set longer than the length of the material 6 in the carrying direction.例文帳に追加

４色分のプロセスカートリッジ１、２、３、４を積み上げるように上下方向に配置し、中間転写ベルト５上におけるトナー像の一次転写完了位置Ｎ４から転写材６への二次転写位置１０までの距離を転写材６の搬送方向長さより長く設定する。 - 特許庁

In this iris camera, a personal image is obtained by two personal position cameras 8, 9 located at the prescribed interval on the right and left, the distance to an iris 1 and its vertical position are detected by a position detection image process section 10, and the iris 1 to be photographed can be acquired reliably and more quickly.例文帳に追加

人物の画像を所定の間隔をおいた左右両方の２台の人物位置カメラ８、９からとり、位置検出画像処理部１０により虹彩１までの距離および上下の位置を検出し、被撮像対象の虹彩の捕捉がより確実により迅速にできる。 - 特許庁

Each process unit 16 detached from the main body casing 2 can be stably placed in a vertical state by having a first contact portion 48a brought into contact with an installation surface and can be stably placed in a horizontal state by having second contact portions 48b and 39 brought into contact with the installation surface.例文帳に追加

また、本体ケーシング２から取り外された各プロセスユニット１６は、第１当接部４８ａを載置面に当接させることにより縦置きの状態で安定して載置でき、第２当接部４８ｂおよび３９を載置面に当接させることにより横置きの状態で安定して載置することができる。 - 特許庁

To provide an actuator for setting a position possible to form with low driving pressure and without producing vertical vibration accompanied with the movement of a head supporting component and dust and using a complicated assembly process and improve precision for setting a head position of a revolving disc-typed information storing device and, and highten recording density.例文帳に追加

駆動電圧が低く、ヘッド支持部材の運動にともなう垂直振動がなく、さらに発塵することがなく、複雑な組立工程を用いずに形成可能な位置決め用アクチェエータを提供し、回転ディスク型情報記憶装置のヘッド位置決め精度を上げ記録密度を高める。 - 特許庁

To improve the outward appearance of both side parts of a roof at molding installing time, to improve an external appearance quality, to simplify a molding process of a panel bending edge part, to improve the working efficiency, and to restrain a cost by preventing vertical directional flapping of a roof molding.例文帳に追加

ルーフモールの上下方向の波打ちを防止することにより、モール取付時におけるルーフの両側部の見栄えを良好にして、外観品質を向上させると共に、パネル折曲端縁部の成形工程を簡素化し、作業能率の向上及びコストの抑制を実現する。 - 特許庁

To provide a method for operating a melting reduction furnace reducible of a coke ratio more than a conventional one when performing a melting reduction process by blowing metal powder from tuyeres by using a vertical type melting reduction furnace having a packed layer of a carbon-based solid reducing material and provided with the two-stage tuyeres in the upper and lower tiers.例文帳に追加

炭素系固体還元材の充填層を有し、羽口を上下二段に設けた竪型溶融還元炉を用い、金属粉を羽口から吹き込み、溶融還元処理する際に、従来以上にコークス比を低減できる、溶融還元炉の操業方法を提供すること。 - 特許庁

In a third process, a pawl member is inserted into a space between the opposite part of the second substrate and the terminal of the first substrate (a step A30), and the pawl member is moved in a direction including components of a direction vertical to an extension direction of the groove (a step A40).例文帳に追加

さらに、第三工程では、前記第二基板の前記対向部と前記第一基板の前記端子との隙間に爪部材を挿入し（ステップＡ３０）、前記溝の延在方向に対する垂直方向の成分を含む方向に前記爪部材を移動させる（ステップＡ４０）。 - 特許庁

Therefore, a linear shape processing is made in a direction parallel with a cross section for making, and a processing position is corrected with a linear position limited to a vertical direction to the line as a measurement value for the drift correction in reference to the linear shape processing area during the process.例文帳に追加

そのため作成する断面と平行な方向に直線形状加工を行い、加工中にこの直線形状加工領域を参照して直線に対して垂直方向に限定した直線位置をドリフト補正のための計測値として加工位置を補正する。 - 特許庁

In a process for hoisting down the lowest stage, after cut parts 23, and a front end part of an inflow pipe 17 and the front end part of an outflow pipe 18, are fitted, a part of the manhole 22 is hoisted down to a bottom surface of a vertical shaft 13 while the end parts of the pipes 17, 18 are inserted into the cut parts 23.例文帳に追加

最下段吊り降ろし工程では、切欠部２３と、流入管１７の先端部と流出管１８の先端部とを合致後、切欠部２３に両管１７，１８の先端部を挿入しながら、部分マンホール２２を立坑１３の底面に吊り降ろす構成である。 - 特許庁

Interdigital structures 11 and 12 are formed by alternately arranging the conductive layer and the dielectric layer of a nano scale controlled in a deposition process, and are obtained by a cross section substantially vertical to a deposition layer by alternately depositing the conductive layer and the dielectric layer in the thickness of the nano scale by a deposition method such as CVD.例文帳に追加

ＣＶＤなどの堆積法により導電層と誘電体層を交互にナノスケールの厚さに堆積し、堆積層に略垂直な断面により、これら堆積過程で制御されたナノスケールの導電層と誘電体層が交互に配置されたすだれ状の構造１１，１２を得る。 - 特許庁

In addition, the orientation process for the liquid crystal is performed such that the angle between the long axial direction of each liquid crystal molecule with a voltage applied thereto and the direction of an electrical force line formed in the liquid crystal layer with a voltage applied thereto does not exceed 90° in the vicinity of the vertical faces of the projecting structure.例文帳に追加

また、突起構造の垂直面の近傍で、電圧を印加しない状態における液晶分子の長軸方向と、電圧を印加した状態で液晶層に形成される電気力線の方向とのなす角度が、９０度を超えないように、液晶の配向処理がなされている。 - 特許庁

In a heat treatment process, by sequentially rotating the division walls arranged in multistages in the vertical direction from the division walls of an upper stage to the division walls of a lower stage, heat treatment is carried out while the objects to be treated sequentially slide down from the division walls of the upper stage to the division walls of the lower stage.例文帳に追加

熱処理工程において、鉛直方向に多段に配置された分割壁が、上段の分割壁から下段の分割壁まで順次回動することにより、被処理物が上段の分割壁から下段分割壁に順次滑落しながら熱処理される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a compound semiconductor which can accelerate the etch rate of even an SiC wafer which requires a high processing temperature, can process a via hole into a rectangular cross-sectional shape with a vertical side wall without extremely thinning the SiC wafer, and allows easy handling of wafers.例文帳に追加

必要とする加工温度が高いＳｉＣウエハでもエッチング速度を早くすることができ、しかもＳｉＣウエハを極度に薄板化せずにバイアホールの断面を側壁が垂直な矩形状に加工でき、ウエハのハンドリングが容易な化合物半導体の製造方法を得る。 - 特許庁

The processing method of the lumber includes a compression process (S12) wherein a lumber strip 10 cut out of raw lumber and having a flat grain surface or a comb grain surface on the top and the underside is subjected to pressing simultaneously in the vertical direction by a pair of dies, on the whole of the top and the underside of the lumber strip.例文帳に追加

原木から切り出され、上面及び下面に板目面又は追柾面を有する木材片１０を一対の金型によって木材片の上面及び下面に対して全面に同時に垂直方向にプレス処理を行う圧縮工程Ｓ１２を有する。 - 特許庁

To provide a production process of a vertical resonator-type surface-emitting laser, etc., that can bring the central axes of an electrode opening and a current constriction structure in agreement and can construct a mesa structure with a uniform shape, which has high output and can do single-transverse-mode oscillation using the basic mode.例文帳に追加

電極開口部の中心軸と電流狭窄構造の径の中心軸を一致させ、かつ均一な形状のメサ構造を構成することができ、高出力で、基本モードによる単一横モード発振が可能な垂直共振器型面発光レーザの製造方法等を提供する。 - 特許庁

An input filter unit 110 generates from the inputted field data the reduction image data for the divided screen display of odd-numbered and even-numbered fields through a process of carrying out reduction interpolation in a horizontal and a vertical direction in accordance with a coefficient from an input filter coefficient output unit 120.例文帳に追加

入力フィルタ部１１０は、入力されるフィールドデータから、入力フィルタ用係数出力部１２０からの係数に従って水平方向及び垂直方向に縮小補間処理して奇数及び偶数のフィールドの分割画面表示用の縮小画像データを生成する。 - 特許庁

The photograph image forming apparatus 10 has a monitor 18 for displaying the images to form on print-out paper, a mouse 20 and a keyboard 22 for instructing process the images displayed on the monitor 18, and a support 28 for supporting the monitor 18 and the mouse 20 in a manner free to move in the vertical directions.例文帳に追加

写真画像形成装置１０は、印画紙に形成すべき画像を表示するモニタ１８と、モニタ１８に表示される画像に施すべき画像処理の指示を与えるためのマウス２０およびキーボード２２と、モニタ１８およびマウス２０を上下動可能に支持する支持部２８を備える。 - 特許庁

In the first supply process, the stator core 2 is held horizontally under such a posture as the coil ends 3a and 3b of the coil 3 by keeping the upper coil end 3a upward become vertical, varnish is injected from the upper surface of the upper coil end 3a and then the impregnation varnish is made to flow downward from the upper coil end 3a.例文帳に追加

次に、第１供給工程で、上側コイルエンド３ａを上に向けて、コイル３のコイルエンド３ａ，３ｂが上下になる姿勢でステータコア２を水平に保持し、上側コイルエンド３ａの上面からワニスを注入し、上側コイルエンド３ａの上から下へワニスを含浸流下させる。 - 特許庁

To solve the problem that it takes time and labor since conventionally the work process of swingably attaching one end of an anchor to a connection piece and installing the other end of the anchor in the installation layer of back-filling concrete is needed when erecting and arranging molding plates in many stages in the vertical direction and constructing a soil retaining wall.例文帳に追加

従来、成形板を上下方向に多段に立て並べて土留擁壁を構築する際、結合片にアンカーの一端部を揺動可能に取り付けて、アンカーの他端部を裏込めコンクリートの打設層中に設置する作業工程が必要とされるため、手間がかかる。 - 特許庁

The sputtering process is characterized in that a vacuum vessel 1b in which the cross-sectional shape at the inside has a polygon is rotated with the almost vertical direction to the cross-section as a rotary axis, thus sputtering is performed while stirring or rotating the object 3 in the vacuum vessel.例文帳に追加

前記スパッタリング法は、内部の断面形状が多角形を有する真空容器１ｂを、前記断面に対して略垂直方向を回転軸として回転させることにより、該真空容器内の被処理体３を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行うものであることを特徴とする。 - 特許庁

Otherwise, a wafer support bracket 12 for thermal process comprises at least one concentric protruding flat support 21 on its upper surface, and a notch part 32 which is cut radially, with a plate-like reinforcing structure 33 formed vertical to the plate surface at the end part of the notch part 32.例文帳に追加

あるいは、熱処理用ウェーハ支持具１２は、上面に少なくとも１つの同心円状の凸状平面支持部２１と、径方向に切り欠いた切欠部３２と、切欠部３２の端部に板面に垂直方向に板状補強構造３３を形成してなることを特徴とする。 - 特許庁

In the form construction method for the underground structure, the batholiths 1, 2 of the underground are built, and an installation process, in which traveling forms 4, 5 are mounted on the batholiths 1, 2 in response to places, where concrete constituting a part of the vertical wall of the underground structure and a part of the top ground of the underground structure is placed, is conducted.例文帳に追加

地中構造物の底盤１，２の構築後、前記地中構造物の立壁の一部５０および該地中構造物の頂盤の一部５１を構成するコンクリート３８を打設する位置に対応させて、底盤１，２上で移動式型枠４，５を設置する設置工程を行う。 - 特許庁

In the food and drinks industry and fiber industry non-tariff barriers were initially high resulting in a large percentage of one-way trade, but in the process of market integration many non-tariff barriers were abolished, leading to an expansion of vertical intra-industry trade due to the effect of the preference for the diversification of goods.例文帳に追加

食品及び飲料産業や繊維産業では、もともと非関税障壁が高く、このため一方向貿易の割合が高かったが、市場統合で非関税障壁の多くが撤廃されたことで、財の多様化選好の影響により垂直的産業内貿易が拡大した。 - 経済産業省