「shape defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a material for the therapy of a hard tissue showing the strength required of a substitute for the hard tissue and capable of forming a hardened part with improved biocompatibility, with the hardened part being easily settable into the required shape corresponding to a defect or void in the hard tissue.例文帳に追加

生体硬組織の代替材として必要な所要の強度を示しかつ生体適合性が改善された硬化物を形成することができ、しかも当該硬化物を生体硬組織の欠損部や空隙部に対応した所要の形状に容易に設定することができる生体硬組織治療用材料を実現する。 - 特許庁

To provide a flaw detector capable of enhancing stability of flaw detection performance, and detectability of a defect, by providing a holding mechanism for a probe excellent in close contactness and followability onto an inspected object, even in a complicated shape or a narrow portion such as a welded part of a lower instrumentation pipe block in a nuclear reactor.例文帳に追加

原子炉容器の下部計装管台の溶接部のような複雑な形状、狭隘な部位においても、被検査体への密着性、および倣い性が良好な探触子の保持機構を提供することによって、探傷性能の安定性、欠陥の検出性を向上する探傷装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device of inspecting a semiconductor device by charged particle beams and focused ion beams, for detecting, from a potential contrast difference of secondary electron images, a failure point such as leakage due to a defect in the semiconductor device, which cannot be detected merely through appearance shape observation in conventional semiconductor analysis.例文帳に追加

従来の半導体解析において外観形状観察だけでは検出することが不可能な、半導体装置内部の欠陥に基づくリーク等の不良箇所を、二次電子像の電位コントラスト差から検出する、荷電粒子ビームおよび集束イオンビームによる半導体装置の検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a nozzle capable of preventing the occurrence of a surface shape defect of unvulcanized rubber on a mold winding core due to contact of a swelling part with the nozzle for improving the quality of a product tire even if a winding starting end and its vicinity of the unvulcanized rubber stuck to the surface of the mold winding core swell.例文帳に追加

成型巻芯の表面に貼着させた未加硫ゴムの巻き始端およびその近傍が膨張しても、その膨張部分が、口金に接触することに起因する、成型巻芯上の未加硫ゴムの表面形状不良の発生を防止して、製品タイヤの品質を向上することができる口金を提供する。 - 特許庁

To provide a method of carrying out surface adjustment by uniformly introducing a defect in a catalyst carrying body face made of a carbon plate with high crystallinity, and of making a failure part on a surface of this surface-adjusted plate-shape carrying body uniformly carry metal catalyst particles when fabricating a plate electrode material of a fuel cell.例文帳に追加

燃料電池の板状電極材を作製する際、結晶性が高い炭素板製の触媒担持体面に、欠損を均一に導入して表面調整を行い、かつ、この表面調整された板状担持体の表面の欠損部に金属触媒粒子を均一に担持させる方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to prevent water leakage from a laitance layer on an undersurface side of a separator by only making some corrections to a cross-sectional shape of the separator, so that prevention of water leakage from the separator section enables construction of a concrete structure with a secured quality, reducing repair before completion and defect repair after service.例文帳に追加

セパレ−タの断面形状に少しだけ工夫を加えるだけで、セパレータの下面側のレイタンス層からの漏水を確実に阻止することができ、このようにセパレータ部からの漏水を抑制することで、品質を確保したコンクリート構造物の構築が可能となり、竣工前の手直しや供用後の瑕疵補修が低減される。 - 特許庁

The load-carrying platform is always maintained to be parallel to the ground by the principles of a parallelogram, and deformable parallelogram as a defect can be turned to be the parallelogram capable of preventing from getting out of shape by fixing one of interior angles, and thereby even the load-carrying platform exclusive for rising can be used for the one exclusive for lowering by changing the direction.例文帳に追加

また平行四辺形の原理で地面と常に平行な荷台を保つもので、四辺形の変形自由な欠点をその内角のひとつと固定することにより形のくずれない平行四辺形を得るもので、これらのカートが昇り専用であっても方向を変えれば下り専用使用にもなる。 - 特許庁

The SiC epitaxial wafer is an SiC epitaxial wafer in which an SiC epitaxial layer is formed on a 4H-SIC single crystal substrate made to incline by 0.4°-5° of an off angle, and is characterized in that the defect density of the triangle shape of the surface of the SiC epitaxial layer is at most 1 piece/cm^2.例文帳に追加

本発明のＳｉＣエピタキシャルウェハは、０．４°〜５°のオフ角で傾斜させた４Ｈ−ＳｉＣ単結晶基板上にＳｉＣエピタキシャル層を形成したＳｉＣエピタキシャルウェハであって、前記ＳｉＣエピタキシャル層の表面の三角形状の欠陥密度が１個／ｃｍ^２以下であることを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing a baglike container in which the groove part is formed near an injection port part, the groove part is molded on the inside face of the film forming the baglike container by being overlapped, the defect in the groove part is inspected, the edge part of the film is sealed so as to be cut in a prescribed shape, and the baglike container is manufactured.例文帳に追加

注口部の近傍に溝部を形成した袋状容器の製造方法であって、重ね合わせて袋状容器を形成するフィルムの内側面に前記溝部を成形し、かつ、この溝部における欠陥を検査し、その後、前記フィルムの縁部をシールし、所定の形状に裁断して袋状容器を製造する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the shape restoration of a pattern which has never been carried out because of the absence of a proper method particularly in a semiconductor device regarding a method for realizing the restoration of the defect of a substrate, and to provide a manufacturing method of the manufacturing device where they are applied.例文帳に追加

本発明は、基材の欠陥の修復を可能にする方法に関し、特に半導体デバイスにおいて、これまで適当な方法がないために実施できなかった、パターンの形状の修復を可能とする方法及び装置を提供するものであり、さらにこれらを応用する半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible to reduce the defect by the contact of a solid-liquid interface with the basilar part of a crucible by that the radiant heat from a raw material melt is intercepted by a heat insulating material and the convex degree of a convex shape of a solid-liquid interface is balanced in the manufacturing method of a compound semiconductor single crystal by a LEC method.例文帳に追加

ＬＥＣ法による化合物半導体単結晶の製造方法において、原料融液からの輻射熱を断熱材で遮断することで、固液界面の凸面形状の凸度のバランスをとり、固液界面とルツボ底部との接触による不良を低減することを可能にする。 - 特許庁

To provide a silicon single crystal pulling-up apparatus capable of producing a silicon single crystal ingot having a prescribed shape and no defect by suppressing the occurrence of a flushed burr in a growth process for the crown part of single crystal ingot which is the most important step in the pulling-up process for silicon single crystal by a Czochralski method.例文帳に追加

本発明は、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の引上げ過程で最も重要とされる単結晶インゴットのクラウン部成長工程においてフラッシュアウトの発生を抑制し、所望形状で欠陥のないシリコン単結晶インゴットを製造することができるシリコン単結晶引上装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an SOI wafer, with which the occurrence of voids or crystal defect, a problem of the conventional SOI wafer manufacturing step, can be suppressed by eliminating the surface roughness and an overhung shape formed by the difference in growth speeds in upper and lower layers in a silicon epitaxial growth layer.例文帳に追加

シリコンエピタキシャル成長層における、表面ラフネスの解消と上下層の成長速度差に基づいて形成されるオーバーハング形状の解消とを図ることにより、ＳＯＩウエハ製造工程において問題となっていたボイドや結晶欠陥の発生を抑えることのできるＳＯＩウエハの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a mold press forming apparatus capable of obtaining highly precise optical elements (such as a glass lens) or the like by conducting continuous press forming under optimum forming conditions while restraining crack or shape defect of formed articles even when producing formed articles of high forming difficulty, and a method for producing the formed articles.例文帳に追加

成形難度の高い成形体を製造するときであっても、成形体の割れや、形状不良を抑止しつつ、最適条件で連続プレス成形を行って、高精度の光学素子（例えば、ガラスレンズ）などの成形体を得ることができるモールドプレス成形装置、及び成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laver dehydrating sponge causing no shape defect thereof during dry storage, enabling itself to easily be moistened enough to be usable, having high water absorptivity required in producing laver and moderate hardness, and capable of efficiently discharging water absorbed once without returning it to a laver material as the object for water absorption.例文帳に追加

乾燥保管時に形状的な欠陥を起こさず、かつ容易に使用時が可能な湿潤状態とすることが可能で、かつ海苔製造時に要求される優れた吸水性、適度な硬さ、一旦吸水した水分を吸水対象物である海苔原料に戻さず効率的に排水し得る海苔脱水用スポンジを提供する。 - 特許庁

The optional pattern is formed with high precision and high accuracy by patterning the photo paste, prepared by imparting photosensitive function to a functional material such as having conductivity, by printing such as offset, screen and after that, exposing, developing and removing excess parts due to the correction of the shape, the short defect or the like, drying and firing.例文帳に追加

導電等の機能材料に感光性の機能を付加したフォトペーストをオフセットやスクリーン等の印刷によりパターニングした後、露光、現像を行い、形状の補正やショート欠陥等の余分な部分を除去し、乾燥焼成により任意のパターンを高精度高精細に形成することができる。 - 特許庁

To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color filter, which has excellent development property without occurring defect or stripping off of pixel pattern in developing stage and excellent mechanical strength after film-forming, and also gives a good pattern shape and further does not generate defective display such as image seizing in using for a display panel.例文帳に追加

現像時の画素パターンに欠落や剥がれを生じることがなく、現像性に優れ、かつ成膜後の機械的強度が優れ、またパターン形状も良好であり、しかも表示パネルにしたとき焼き付き等の表示不良を生じることがないカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To enhance the production efficiency of a thermoplastic resin sheet mainly comprising an aliphatic polyester without forming a defect to the sheet by suppressing the deposition of an oligomer on the surface of a cooling drum for molding a thermoplastic resin into a sheetlike shape at the time of molding of the thermoplastic resin sheet.例文帳に追加

本発明の課題は、脂肪族ポリエステルを主成分とする熱可塑性樹脂シートを成形するに際し、熱可塑性樹脂をシート状に成形する冷却ドラム表面へのオリゴマ堆積を抑制し、シートに欠点を生じさせずに生産効率の良い熱可塑性樹脂シートの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and development defect performance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray as an exposure light source, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、現像欠陥性能を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of data of defect inspection obtained in a process for forming a circuit pattern in a wafer 1 and of the shape of a circuit pattern wherein a poor conductive region 7a is found by a VC inspection, when performing DSA by using the data of VC inspection after forming the circuit pattern, a rectangular DSA region 8 is formed so as to surround the circuit pattern.例文帳に追加

ウェハ１に配線パターンを形成する過程で得られる欠陥検査のデータと、配線パターン形成後のＶＣ検査のデータを用いてＤＳＡを行う際、ＶＣ検査によって導通不良領域７ａが見つかった配線パターンの形状を基に、その配線パターンを囲むようにして矩形形状のＤＳＡ領域８を設定する。 - 特許庁

To provide a continuous casting mold and a continuous casting method which can prevent occurrence of temperature lowering and temperature unevenness of a molten metal upon the feed of the molten metal into a mold to stabilize the solidified state of the molten metal in the mold, and can prevent occurrence of flow lines, the unevenness of the structure and the defect of the shape in the produced coarse material.例文帳に追加

溶融金属の金型内への供給時における溶融金属の温度低下や温度ムラの発生を防止し、金型内での溶融金属の凝固状態を安定させて、生成した粗材に湯じわや組織のムラや形状不良が生じることを防止することができる連続鋳造型および連続鋳造方法を提供する。 - 特許庁

The scattering light emitted from the semiconductor substrate 2 is detected by using a CCD camera 3, haze being background light eliminating the scattering light caused by a shape including crystal defect existing in the semiconductor substrate 2, particles and pits is measured, and the recombined life time of a carrier in the semiconductor substrate 2 is found in non-destruction and non-contamination.例文帳に追加

ＣＣＤカメラ３を用いて半導体基板２から発生した散乱光を検出し、半導体基板２中に存在する結晶欠陥、パーティクル、ピットを含む形状に起因するこの散乱光を除いた背景光であるヘイズを計測し、この散乱強度に基づいて半導体基板２中のキャリアの再結合ライフタイムを非破壊かつ非汚染で求める。 - 特許庁

The liquid crystal display device of the transflective type which reduces the occurrence of the alignment defect of the liquid crystal in the rubbing down section and has the satisfactory display grade is provided by improving the plane shape of the projection on a counter substrate side and by setting the boundary portion with the transmission region of the projection in a direction nearer the rubbing direction of the alignment layer.例文帳に追加

対極基板側の突起の平面形状を改善し、突起の透過領域との境界部分を配向膜のラビング方向に近い方向に設定することにより、ラビング擦り下げ部での液晶の配向不良発生を低減し、良好な表示品位を有する半透過型の液晶表示装置を提供することができる。 - 特許庁

The surface defect evaluation device evaluates surface defects of a measurement object, on the basis of measurement point data and reference point data, after aligning the measurement point and the reference point, on the basis of the sequential convergence processing for the sequential convergence of the distance between the measurement point of the measurement object and the reference point, corresponding to a reference surface shape of the measurement object.例文帳に追加

測定対象物の測定点と測定対象物の基準表面形状に対応する基準点との間の距離を逐次収束させる逐次収束処理に基づいて前記測定点と前記基準点とを位置合わせした後の測定点データと基準点データとに基づいて測定対象物の表面欠陥を評価する。 - 特許庁

Man-machine interface means includes display means, controls radiation dose control means, radiation irradiation position control means, partial discharge detection means and voltage application means, and causes the outer shape of a defect detection object, a radiation irradiation position, a partial discharge detection signal waveform and an applied voltage waveform to be displayed on the same screen of the display means.例文帳に追加

マンマシンインターフェース手段は、表示手段を有し、放射線量制御手段、放射線照射位置制御手段、部分放電検出手段および電圧印加手段を制御するとともに、欠陥検出対象物の外形、放射線照射位置、部分放電検出信号波形および印加電圧波形を表示手段の同一画面に表示する。 - 特許庁

To provide an image processing and inspecting method and an image processing and inspecting device capable of extracting the whole shape of a defect quickly and precisely even if a defective image includes many gray-white- flecked noises caused by the surface characteristic of a rubber material and is intermittent, e.g. a defective image existing on the surface of the rubber material.例文帳に追加

たとえば、ゴム材料の表面に存在する欠陥の画像のように、画像中にゴム材料の表面特性に起因したゴマ塩ノイズが多く含まれ、欠陥画像が途切れがちな画像であっても、欠陥の全体的な形状を迅速かつ精度良く抽出することができる画像処理検査方法および画像処理検査装置を提供する。 - 特許庁

The stable operation and the quick drainage can be achieved by removing a defect on the rotation of a valve element caused by the simple spherical shape of a conventional spherical valve, determining the directionality in a case when the valve element is acted on a valve seat, and solving the difficulty in machining by forming an opening for leaking the pressurized fluid on the valve element, though it has been formed on the valve seat.例文帳に追加

従来の球形弁が単純な球形を呈しておりその形状が弁体の自転を生み出す欠点を除去し、弁体が弁座に作用する場合の方向性を定め、弁座に穿設していた圧力流体漏洩用の開口を弁体に穿設することにより加工の困難性を除去し、安定した作動と迅速な排水を達成する。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

The surface defect removal of the cast slab containing the expensive metals such as nickel, vanadium, molybdenum, tungsten, chromium, manganese is performed with a cutting-off method and made to solid-shape by classifying the generated cut-off scrap into the respective contained expensive metals and compression forming at the high pressure of 20-800 MPa, and melted and reused in a refining process for steel containing the same expensive metal.例文帳に追加

ニッケル、バナジウム、モリブデン、タングステン、クロム、マンガンなどの高価金属を含有する鋳片の表面欠陥除去を切削法により行い、発生する切削屑を含有する高価金属別に分別して２０〜８００ＭＰａの高圧で圧縮成形することにより固形化し、同じ高価金属を含有する鋼の精錬プロセスで溶解して再利用する。 - 特許庁

To provide a hermetic scroll compressor solving a defect that an edge part interferes with a chip seal groove wall surface when force acts on a chip seal in a twisting direction due to a rectangular chip seal section shape, floating performance is dropped, and refrigerant leaks into a compression chamber in a lower pressure side by crossing the chip seal to degrade performance.例文帳に追加

チップシール断面形状が概矩形であることにより、チップシールにねじれ方向の力が働いた時にエッジ部がチップシール溝壁面に干渉して、浮上性能が低下し、チップシールを横断してより低圧側の圧縮室へ冷媒が漏れ込んで性能低下するするという課題を解決した密閉型スクロール圧縮機を提供する。 - 特許庁

A hole for converting the pressure of leaking gas or an obstacle to a gas current is installed for the gas leakage detecting device and an inspector hears the pressure of the leaking gas as an audible sound by the simple device, independently of the shape of the defective hole to be inspected nor leak conditions of gas to detect whether there is a defect.例文帳に追加

気体漏れの検出装置に漏れ気体の風圧を音響に変換する孔または気流の障害物を設置することにより、被検査対象の欠陥孔の形状、気体の漏れ条件に関わりなく、簡便な装置で漏洩気体の風圧を可聴音として検査者が聞き取り、欠陥の有無を検出できるようにした。 - 特許庁

To provide CMP pad design for combining a structure of high rigidity necessary for excellent planarization efficiency, in addition to achievement of larger actual contact area with a workpiece and reduction or elimination of necessity for re-forming the texture, with a shape adaptability structure of low rigidity necessary for low defect ratio.例文帳に追加

加工物とのより大きな実接触面積を達成するだけでなく、テキスチャ再形成の必要性を減らすか、又は解消する加えて、良好なプラナリゼーション効率のために必要な高剛性の構造を、低い欠陥率のために必要な低剛性の形状適合性構造と組み合わせるＣＭＰパッド設計が要望されている。 - 特許庁

To prevent defect, in which a shape of adhesion unevenness is copied in a graphic, by a concise and low cost means if an adhesive applied to a reverse surface of a solid state image sensing element has its adhesion unevenness when the reverse surface of the solid state image sensing element formed on a semiconductor substrate is adhered to an element supporting surface of a package by using the adhesive such as silver paste.例文帳に追加

半導体基板に形成した固体撮像素子の裏面を、銀ペーストのような接着剤を使用してパッケージの素子支持面に接着する場合に、固体撮像素子の裏面に塗布した接着剤に付着むらがあると、その付着むらの形状が画像に写し込まれてしまうという不具合を、簡明で低コストの手段によって防止する。 - 特許庁

A defect repairing device for electronic components includes an ultrashort pulse laser light emitting device which suitably adjusts and emits ultrashort pulse laser light, a flexible mask pattern generator that forms the ultrashort pulse laser light emitted by the ultrashort pulse laser light emitting device into a prescribed shape, an optical system which converges the ultrashort pulse laser light, and a first stage where an electronic component to be repaired is mounted and positioned.例文帳に追加

超短パルスレーザーを適宜調整して発生する超短パルスレーザー発生装置と、前記超短パルスレーザー発生装置から照射された超短パルスレーザーを所定の形状に成形するフレキシブル・マスク・パターン・ジェネレーターと、該超短パルスレーザーを集光する光学系と、修復すべき電子部品を載置して位置決めする第１のステージとを含む電子部品の欠陥修復装置。 - 特許庁

When the diameter of the opening 28 is made, for example, 1 to 2 μm larger than the diameter of the lower columnar electrode 10, fringing of an inner wall surface bottom part of the opening 28 is suppressed by a side face of the lower columnar electrode 10 even in case of occurrence of an exposure defect to the plating resist film 27 for columnar electrode formation, thereby reducing deformation of the shape of the upper columnar electrode 11.例文帳に追加

開口部２８の直径を下部柱状電極１０の直径より例えば１〜２μｍ大きく形成すると、柱状電極形成用メッキレジスト膜２７に露光不良が生じても、開口部２８の内壁面底部に発生する裾引きが下部柱状電極１０の側面で抑制され、上部柱状電極１１の形状が歪になるのを軽減できる。 - 特許庁

Article 150 The employer shall, when carrying out a rotating test of high speed rotating body (limited to the one having rotating shaft with weight exceeding 1 ton and circumferential speed exceeding 120 m/sec.), confirm in advance, that there is no defect, which is liable to cause destruction in its rotating shaft by carrying out non-destructive test corresponding to the material, shape, etc. 例文帳に追加

第百五十条　事業者は、高速回転体（回転軸の重量が一トンをこえ、かつ、回転軸の周速度が毎秒百二十メートルをこえるものに限る。）の回転試験を行なうときは、あらかじめ、その回転軸について、材質、形状等に応じた種類の非破壊検査を行い、破壊の原因となるおそれのある欠陥のないことを確認しなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of spherical metal particles in which spherical metal particles are obtained in a step that a metal stock piece or a liquid metal droplet is added in a container filled with a solution and dropped in the solution so that neither shrinkage cavity nor mirror ball-like defect is generated, and the shape of the manufactured metal particles is consistent.例文帳に追加

溶液を満たした容器中に金属素片又は金属液滴を添加し、該溶液中を落下する過程で球状化した金属粒を得る球形金属粒製造方法及び装置において、引け巣欠陥とミラーボール状欠陥のいずれも発生せず、製造した金属粒の形状を安定させることができる球形金属粒製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detecting method and its device capable of stably detecting solely harmful defects by establishing an optimal frequency range and filtering defective signals caused by a harmful defect and noise signals caused by a defective shape which does not pose a problem for processing as for a differential signal output from an eddy current flaw detection sensor.例文帳に追加

渦流探傷センサから出力される差動信号について、有害な欠陥の存在に起因する欠陥信号と、処理上問題とならない形状不良に起因するノイズ信号とを最適な周波数帯域を設けてフィルタリングすることで、有害な欠陥のみを安定して検出することが可能な渦流探傷方法及び渦流探傷装置を提供する。 - 特許庁

In the fault analyzing method of the semiconductor device, the shape defect (existence of disconnection part 13, for example) in the contact part between gate wiring 4A and wiring 8B is detected by irradiating the contact part with light and observing the direction component of reflected light by a polarizing method using a polarized microscope 20.例文帳に追加

本発明の半導体装置の故障解析方法は、偏光顕微鏡２０を用いた偏光法により、ゲート配線４Ａと配線８Ｂ間のコンタクト部における形状不良（例えば、断線箇所１３の存在）を当該コンタクト部に光を照射し、その反射光の方向成分を観察することで、上記コンタクト部における形状不良（例えば、断線箇所１３の存在）を検出することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a fired aluminum titanate body by firing a molded body of a starting material mixture, the method allowing a preferable mechanical strength to be kept even after binder is burnt off upon firing, therefore, suppressing the occurrence of a defect such as cracking during firing and producing a fired aluminum titanate body having a desired shape with a high yield.例文帳に追加

原料混合物の成形体を焼成することによりチタン酸アルミニウム系焼成体を得る方法において、焼成時、バインダが焼失した後においても良好な機械的強度を保つことができ、もって、焼成中におけるひび割れ等の欠陥の発生が抑制され、所望の形状を有するチタン酸アルミニウム系焼成体を歩留まりよく製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, in each pixel region, the reflecting film is provided in the insulating layer in an island shape so as to be separated from adjacent reflecting films and isolated form circumferential reflecting film, thereby limiting influences to only the pixel region even if the color filter layer has a defect such as a pinhole or conductive foreign matter such as metal is mixed to electrically connect the reflecting film and transparent electrode to each other.例文帳に追加

よって、各画素領域内において、反射膜は、絶縁層中に島状に設けられることになり、周囲の反射膜とは離隔されることになり、カラーフィルタ層にピンホールなどの欠陥が存在したり、金属などの導電性の異物が混入し、反射膜と透明電極との間が電気的に導通した場合でも、その影響は当該画素領域のみに抑制することができる。 - 特許庁

To provide a novel precoating liquid epoxy resin for underfill sealing which excels in flowability, has good workability, does not cause a trouble such as entanglement of a void on pressure welding by heat pressurizing, enhances the curability of a fillet not immediately below a semiconductor chip without a defect of its shape, and also can inhibit biting of the resin between electrodes to make electrode connectabiity good.例文帳に追加

流動性に優れて作業性が良く、加熱加圧の圧接時にボイドの巻込みなどの不具合もなく、半導体チップ直下でないフィレット部の硬化性を高めて、しかもその形状の不具合もなく、電極間への噛み込みも抑えて電極接続性を良好ともすることのできる、アンダーフィル封止先塗布用の新しい液状エポキシ樹脂とこれを用いた封止方法、そしてこれによる封止半導体装置を提供する。 - 特許庁

This porous scaffold for culturing a cell for a site of a defective living portion into a shape fitted to the defect, consists of particulate void sections and needle-like void sections, and is characterized in that the porous body which has a porous structure formed by connecting the particulate void sections to one another by the multiple needle-like sections is covered with an outer shell with the porosity less than that.例文帳に追加

本発明１の多孔質足場材は、欠損した生体部分に適合する形状に、当該箇所の細胞を培養する多孔質足場材であって、粒子状空隙部と針状空隙部とからなり、前記粒子状空隙部が多数の針状空隙部により相互に連通されてなる多孔質構造を有する多孔質体が、これよりも気孔率の小さい外郭により覆われてなることを特徴とする多孔質足場材である。 - 特許庁

The inspection method of the active matrix substrate in which a plurality of pixels selectively operable are arranged in a matrix shape comprises: a step of irradiating a specified inspection pixel with electron beams; a step of measuring electric charge quantity supplied to the inspection pixel by the electron beams; and a step of the presence or absence of a defect in the inspection pixel based on the electric charge quantity.例文帳に追加

上述した課題は、選択的に動作可能な複数の画素をマトリクス状に配置したアクティブマトリクス基板の検査方法であって、所定の検査画素に電子線を照射するステップと、前記電子線により前記検査画素に供給された電荷量を測定するステップと、前記電荷量に基づいて前記検査画素の欠陥の有無を判定するステップと、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の検査方法等により解決することができる。 - 特許庁