1016万例文収録!

「IN PROCESS OF」に関連した英語例文の一覧と使い方(998ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > IN PROCESS OFの意味・解説 > IN PROCESS OFに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

IN PROCESS OFの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 49987



例文

To provide a method of manufacturing a magnetoresistance effect element, for increasing efficiency of a hard bias by performing ion milling after lift-off after formation of a hard film in the forming process of the magnetoresistance effect element, and processing the hard film tip part near the uppermost layer of the magnetoresistance effect element.例文帳に追加

本発明は、磁気抵抗効果素子の製造方法に関し、より詳細には磁気抵抗効果素子の形成過程においてハード膜成膜後のリフトオフを行った後にイオンミリングを行い、磁気抵抗効果素子の最上層近辺のハード膜先端部分を加工することによりハードバイアスの効率を高めた磁気抵抗効果素子を製造する方法に関するものである。 - 特許庁

To establish a quality control method capable of inspecting a condition of a bonded layer of an electrostatic chuck assembly in the final process for manufacturing the electrostatic chuck assembly, or before attaching the assemble onto an actual device, and capable of stopping delivery or use of the assembly when defects such as a void exist exceeding a prescribed threshold value.例文帳に追加

静電チャック組立体を製造する最終工程で、あるいは同組立体を実際の装置に取り付ける前に、その静電チャック組立体の接着層の状態を検査し、ボイドなどの欠陥の存在が所定の閾値を越えたとき、その組立体の出荷あるいは使用を停止できる品質管理の方法を確立することである。 - 特許庁

In the display method for displaying a simulation result of an injection molding process, the maximum temperature out of temperature computed at each point existing within a predetermined range from an object point on the shaped surface of the molding is displayed as the temperature of the object point on the shaped surface of the molding.例文帳に追加

射出成形プロセスのシミュレーション結果を表示する表示方法であって、成形品の形状表面上の対象点から所定範囲内に存在するそれぞれの点において算出された温度のうち最大温度を前記成形品の形状表面上の対象点の温度として表示することを特徴とする表示方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element capable of simplifying the manufacture process and reducing the manufacture cost by varying the thickness of a cap layer immediately above a window region arbitrarily in order to facilitate control of the diffusion depth of a diffusion source thereby controlling the distance from the diffusion source to an active layer and controlling the diffusion depth of the diffusion source, and to provide a wafer for semiconductor laser employing it.例文帳に追加

拡散源の拡散深さの制御を容易に行うために、窓領域を形成する直上のキャップ層厚を任意に変えることにより、拡散源から活性層までの距離を制御し、拡散源の拡散深さを制御し、製造プロセスを簡易にし、製造コストを低下させることができる、半導体レーザ素子およびそれを用いた半導体レーザ用ウェハを提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a treating method for preventing bad conditions such as lowering of heat transfer by occurrence of inorganic salt precipitation, blocking of a fluid flow passage, and loss of catalytic activity, and to provide a treating apparatus for executing the treating method in a process for manufacturing fuel gas composed essentially of hydrogen, methane and the like by treating organic materials such as sewage sludge and biomass containing inorganic salts with supercritical water.例文帳に追加

無機塩類を含有する下水汚泥やバイオマス等の有機物を超臨界水により処理して水素やメタン等を主要成分とする燃料ガスを製造する工程において、無機塩類析出の発生による伝熱の低下、流体流路の閉塞、触媒活性の喪失などの不調を防止する処理方法及びこれを実施するための処理装置を提供する。 - 特許庁


例文

The structure is formed on a substrate by a process comprising a 1st step of depositing a phase change material on the substrate, a 2nd step of forming a feature of a target material by depositing the target material at least partially in a gap and a 3rd step of removing the phase change material to leave the feature of the target material on the substrate.例文帳に追加

基板の上に相変化材料を堆積させる第1のステップと、ギャップ内に少なくとも部分的にターゲット材料を堆積させてターゲット材料のフィーチャを形成する、第2のステップと、相変化材料を除去し、基板上にターゲット材料のフィーチャを残す、第3のステップと、を含む方法により、基板上に構造体を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a laminated vessel body which does not require repair of the resin layer on the inside surface of the vessel corresponding to welding point, lamination of a thermosetting resin, etc., in welding hand rings or washers to the laminated vessel body and is capable of performing welding by using the existing equipment without the need for providing fresh process steps, such as cooling.例文帳に追加

ラミネート缶体へ手環または座金の溶接を行うに際し、溶接箇所に対応する缶内面の樹脂層の補修や熱硬化性樹脂の積層等が不要であり、また、新たな冷却等の工程を設けることなく現状設備を用いて溶接することができるラミネート缶体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The display control device has a control mode to suppresses the expansion of the trajectory through which the outermost part OM of the display member 151 passes and to secure the gap of passage for the unit 132 by controlling the turning motor 163 to transfer the axis of turning X1 in the process of controlling the turning motor 159 to turn the display member 151.例文帳に追加

表示制御装置は、回動用モータ159を制御し表示部材151を回動させる過程にて、回動用モータ163を制御し回動中心軸線X1を移動させることで、表示部材151の最外部位OMが通過する軌道の広がりを抑え、上記ユニット132に対する通過隙を確保する制御モードを有している。 - 特許庁

In a process of forming a printing pattern of ceramic electronic components with the use of an ink jet printer, a wall face of the path for the water-based ink 4 of the ink jet printer is coated with a wettability improvement aqueous solution before the water-based ink 4 is filled, and then the water-based ink 4 is jetted from the ink jet head 1.例文帳に追加

インクジェット印刷装置を用いてセラミック電子部品の印刷パターンを形成する工程において、水系インク4を充填する前に前記インクジェットヘッド印刷装置の水系インク4の経路を濡れ性向上水溶液にて壁面を被覆した後、前記水系インク4をインクジェットヘッド1から吐出させる。 - 特許庁

例文

Accordingly, since plasma formed in an upper part of the electrode plate 12 of the exhaust electrode 11 is made uniform, effects which enable constant etching are obtained, and also since the function of an exhaust pipe 4 is integrated with a function of an electrode, thereby functioning by the one exhaust electrode 11, a volume occupied by a process chamber is reduced and efficiency of a purity chamber is enhanced.例文帳に追加

従って、排気エレクトロード11の電極板12の上部に形成されるプラズマが均一になって一定なエッチングを可能にする効果があるし、また排気管4の機能とエレクトロードの機能を統合して一つの排気エレクトロード11によって機能するようにすることで工程チャンバーが占める体積が減り清浄室の効率を向上させる効果がある。 - 特許庁

例文

To provide the attaching load analyzer of a linear flexible material for analyzing the deformation of the whole of the attaching work of the linear flexible material such as wire harness or the like by a finite-element method of confirming the same on a screen and also evaluating the operation force necessary in the process for reaching restriction operation at a restriction region from an unrestricted region.例文帳に追加

ワイヤハーネス等の線状柔軟物の組付作業の全体の変形を有限要素法により解析して画面上で確認可能にするのに加えて、非拘束位置から拘束部位での拘束操作へ至る過程での必要な操作力も評価可能にする線状柔軟物の組付け負荷解析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device which improves an integration degree by reducing an influence of a back bias effect of the storage device having a charge storage layer and a control gate, in which a ratio of capacities of a floating gate to a control gate is further increased without increasing an occupying area and an unevenness of cell characteristics due to a manufacturing process is suppressed.例文帳に追加

電荷蓄積層及び制御ゲートを有する半導体記憶装置のバックバイアス効果による影響を低減させることにより集積度を向上させ、占有面積を増加させずに浮遊ゲートと制御ゲートとの容量の比をより一層増大させるとともに、製造プロセスに起因するセル特性のばらつきが抑制された半導体記憶装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device constituted of power semiconductor elements in which lead frames and a plurality of pads are arranged, bumps for electrically connecting them and a resin sealing body for carrying out one side sealing of them and a method for manufacturing the semiconductor device by simplifying a burr removing process without generating any burr by deforming the shape of the lead frame projected on the side face of the resin sealing body.例文帳に追加

リードフレームと複数のバッドが配設されたパワー半導体素子とそれらを電気的に接合するバンプ及びこれらを樹脂封止体により片面封止する半導体装置において、樹脂封止体の側面に出ているリードフレームの形状を変形することによりバリがなく、バリ取り工程を簡略化して製造可能とする半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By altering the layout of the respective regions of the semiconductor device, the resistances among the respective regions are set properly, and thereby, the holding voltage and the switching voltage of the thyristor can be optimized independently of each other, and as a result, a proper protecting element and a proper protecting circuit for preventing the electrostatic breakdowns of transistors formed in a CMOS process are made form-able.例文帳に追加

レイアウトの変更により、各領域間の抵抗を適切に設定し、それによってサイリスタのホールディング電圧とスイッチング電圧を独立に最適化可能となり、CMOSプロセスで形成されるトランジスタの静電破壊を防ぐための適切な保護素子および保護回路を形成することが可能となる。 - 特許庁

The attached information is enabled to edit with performing display responding to the configuration of the archive on a display means, so that the certification processing of the attached information with the images is performed before data transfer, influences of the editing of the attached information on the image data in the database is enabled to obtain, then, failures on editing process of the attached information and on storage processing are prevented.例文帳に追加

また、表示手段にアーカイブのデータ管理構成に対応した表示を実行して編集可能としたので、データ転送前に、画像の付帯情報の整合性確認が実行でき、付帯情報の編集によるデータベース内の画像データに対する影響を把握することができ、誤った付帯情報の編集処理、および格納処理を未然に防止することができる。 - 特許庁

A part of a delay process function of a canceling circuit is made to be abbreviated by physically tuning arrival times of a crosstalk and a cancel signal each arriving at ears to almost the same time after specifying the position of the center speaker without passing through a filter in an original signal path which is easy to be influenced on acoustic feeling by the deterioration of signals.例文帳に追加

信号の劣化による聴感上の影響を受けやすい元の信号経路にはフィルターを通さず、又センタースピーカーの位置を特定することでクロストークとキャンセル信号の耳への到着時間を物理的に合わせることにより、キャンセル回路の遅延処理機能の一部省略を可能にした。 - 特許庁

The density (number) of precipitates relating to oxygen and nitrogen which act as nuclei of SSDs is decreased by controlling three parameters of oxygen concentration, nitrogen concentration and cooling speed in a process of pulling and growing a silicon single crystal based on the knowledge that the density (number) of the a precipitates increases by annealing a silicon wafer, and thereby, SSDs can be decreased.例文帳に追加

シリコンウェーハをアニールすると、SSDの核となる酸素と窒素に関連した析出物の密度(数)が増大するとの知見に基づき、シリコン単結晶の引上げ成長の過程で、酸素濃度、窒素濃度、冷却濃度という3つのパラメータを制御して上記析出物の密度(数)を減らし、これによりSSDを減らすことができる。 - 特許庁

As for the method for manufacturing the developing roller, etc., including a process of forming the coated film on the substrate surface of the roller 1 by dipping the substrate of the roller 1 into the coatings, the temperatures of the substrates of many rollers 1 suspended by a hanger 2 are maintained so as to be nearly uniform in the entire roller 1 before the rollers are dipped.例文帳に追加

ローラー1の基体を塗料へディップさせることによって、ローラー1の基体表面に塗膜を形成させる工程を含む現像ローラー等の製造方法において、ディップ前におけるハンガー2に吊支された多数のローラー1の基体の温度を、全ローラー1においてほぼ均一となるように維持する。 - 特許庁

To provide a wavelength multiplexing/demultiplexing unit which is equipped with an input waveguide which has structure capable of realizing the expanding of a bandwidth and the preventing of the degradation of signal quality in the demultiplexing process of a multiplexed optical signal by reducing a side lobe which is generated by allowing an optical signal to be coupled from a fundamental mode to a higher mode.例文帳に追加

低次モードから高次モードに光信号がカップリングされることにより発生するサイドローブを減少させ、多重化光信号の逆多重化過程で、帯域幅の拡張と信号品質の低下防止を実現可能な構造の入力導波路を設けた波長分割多重化/逆多重化器を提供する。 - 特許庁

A session controlling device 20 of a monitor controlling system 1 notifies an IP address of a monitor device 10 as a transferring destination address to a PC-A30a in a process of controlling an establishment of a session, and then the PC-A30a transmits an IP packet making an incoming address the IP address of the monitor device 10.例文帳に追加

モニタ制御システム1のセッション制御装置20がセッションを確立する制御の過程おいて、転送先アドレスとしてモニタ装置10のIPアドレスをPC−A30aに通知した後、PC−A30aは、着信アドレスをモニタ装置10のIPアドレスとしたIPパケットを送信する。 - 特許庁

This image recognition processor 20 which performs the recognition process of binarized image data has a memory 23 which stores the binarized image data, and a first binarized means 22 which divides the image data into a pixel blocks, consisting of a plurality of pixels and which binarizes the pixel block with an accumulated pixel value of the plurality of pixels and stores the value in the memory.例文帳に追加

2値化した画像データの認識処理を行う画像認識処理装置20であって、前記2値化した画像データを格納するメモリ23と、画像データを複数画素から成る画素ブロックに分割し、前記複数画素の累積画素値によって前記画素ブロックを2値化して前記メモリに格納する第一の2値化手段22と、を有する。 - 特許庁

The film deposition method by a sputtering process using a target composed of a material having a specific resistance of ≥1×10^3 Ω cm and intermittently applying negative voltage to the target is characterized in that the application of negative voltage is performed at the frequency of <1 MHz while feeding electrons to the surface of the target.例文帳に追加

比抵抗1×10^3Ω・cm以上の材料からなるターゲットを用い、該ターゲットに負電圧を間欠的に印加して行なうスパッタリング法による成膜方法であって、該ターゲット表面に電子を供給しつつ、負電圧の印加を1MHz未満の周波数で行なうことを特徴とする成膜方法。 - 特許庁

In the construction method of the building equipped with the peripheral enclosing concrete wall, the peripheral enclosing concrete wall has a uniform cross section over the height thereof and is constructed by a plurality of concrete casting processes, and the peripheral enclosing part (1) of the concrete wall is successively made to cast concrete on the upper part of the finished part of the concrete wall by every process.例文帳に追加

周辺閉鎖コンクリ−ト壁を備える構築物を建設する方法では、周辺閉鎖コンクリ−ト壁がその高さにわたり一様な横断面を有し且つ複数のコンクリ−ト打ち行程で建造され、それぞれの行程でコンクリ−ト壁の周辺閉鎖部分(1)がコンクリ−ト壁の既に仕上げられた部分の上端に引き続いてコンクリ−ト打ちされる。 - 特許庁

The star-shaped polycarbonate includes a reaction product of a polyfunctional compound having three or more functional groups having an active hydrogen, an alkylene oxide, and carbon dioxide and one terminal of each polycarbonate chain present in the star-shaped polycarbonate is boded to the residue of the polyfunctional compound through the part of the functional group of the polyfunctional compound, and the process for producing the same is described.例文帳に追加

活性水素を有する官能基を3つ以上有する多官能性化合物と、アルキレンオキシドと、二酸化炭素との反応生成物を含む星形ポリカルボナートであって、当該星形ポリカルボナートに含まれる各ポリカルボナート鎖の一つの末端が、多官能性化合物の官能基部分を介して多官能性化合物の残基と結合している、星形ポリカルボナート、及びその製造方法が提供される。 - 特許庁

In the instrument life evaluation system 10, the instrument life evaluation method for evaluating the instrument life due to the structural damage of the instrument based on creep or fatigue considers the structural damage of the instrument based on creep or fatigue as the development of fine cracks and lets a computer process the evaluation of the instrument life by predicting the development of these fine cracks.例文帳に追加

本発明に係る機器寿命評価システム10では、クリープ或いは疲労に基づく機器の構造損傷による機器寿命を評価する機器寿命評価方法において、クリープ或いは疲労に基づく機器構造の損傷を微小亀裂の進展とみなして、この微小亀裂の進展を予測することで機器寿命の評価を行う処理をコンピュータに実行させるようにした。 - 特許庁

The wafer surface protective tape employed for a process of grinding the rear surface of the wafer is provided with respective centerline average roughness (Ra) of 0.05-2.00 μm in the widthwise and lengthwise directions of a surface, on which the adhesive agent of the substrate film is not applied, while the thickness thereof is 50-300 μm.例文帳に追加

ウェハ裏面を研削する工程に用いられるウェハ表面保護テープであって、その基材フィルムの粘着剤が塗工されていない面の幅方向及び長さ方向のそれぞれの中心線平均粗さ(Ra)が0.05〜2.00μmであり、かつその厚さが50〜300μmであるウェハ表面保護テープ。 - 特許庁

In a process for kneading compounding chemicals (B) with the rubber raw material (A) using a hermetically closed mixer, the compounding amount of at least one of the compounding chemicals (B) is controlled on the basis of the actually measured or estimated value of the viscosity of the rubber raw material (A) before and/or during kneading.例文帳に追加

密閉式混合機を用いてゴム原材料(A)に配合薬品類(B)を混練りする工程において、該混練り前に及び/又は該混練り中に上記ゴム原材料(A)の粘度を実測或いは推測した値に基づいて、上記配合薬品類(B)中の少なくとも1種の配合量を制御することを特徴とするゴムの混練方法。 - 特許庁

When inputting a signal including measuring data different in a form by a kind of measurement or a measuring instrument 13, the signal is converted into the measuring data of a certain form by executing processing suited to a form of its signal and the data, and for example, the whole measuring data of an inspection process of a manufacturing system can be converted into electronic data.例文帳に追加

計測の種類又は計測器13により形式が異なる計測データを含む信号が入力されると、その信号及びデータの形式に合わせた処理を行ってある形式の計測データにし、例えば製造システムの検査工程の全ての計測データを電子データ化できるようにしたものである。 - 特許庁

The heating resistor 26 and the circuit resistor 45 are formed through a step of forming a resistor layer on the head substrate 22 by a thin film process and a step of forming an electrode layer having heating resistor electrodes 29 and circuit resistor electrodes 43 in a part of the surface of the resistor layer such that a part of the resistor layer becomes the heating resistor 26 and the circuit resistor 45 for example.例文帳に追加

発熱抵抗体26および回路抵抗体45は、たとえばヘッド基板22上に薄膜プロセスで抵抗体層を形成する工程と、抵抗体層の一部が発熱抵抗体26および回路抵抗体45となるように抵抗体層の表面の一部に発熱抵抗電極29および回路抵抗電極43を備えた電極層を形成する工程と、によって形成される。 - 特許庁

In a dry etching process of the fine mask pattern of a membrane mask, a radical and an ion, containing at least one of nitrogen, carbon, and oxygen that do not contribute to pattering, are generated by plasma for supplying to the upper and side surfaces and foundation of the mask pattern, and a layer (membrane) for restraining the generation of stress is reliably formed on the side.例文帳に追加

メンブレンマスクの微細マスクパターンのドライエッチング工程において、パターニングに寄与しない窒素、炭素もしくは酸素の少なくとも一つ以上を含むラジカルやイオンをプラズマにより発生させて、マスクパターンの上面、側面および下地に供給し、側面に応力発生を抑制する層(膜)を確実に形成する。 - 特許庁

In the process for manufacturing an armature, an armature core having a plurality of coils arranged circumferentially is constituted and coils are formed by winding a wire on the opposite side faces on the coil side on teeth having a surface substantially parallel with the coil side boundary surface and a level difference of a height substantially equal to an integer times of the average thickness of each layer of the coil.例文帳に追加

コイルを円周状に複数配列した電機子のコアを構成し、コイルサイド側の両側面に、コイルサイド境界面と略平行な面、及びコイルの各層の平均の厚みの整数倍と略等しい高さの段差を有するティース上に、電線を巻回してコイルを形成することを特徴とする電機子の製造方法。 - 特許庁

The component mounter, used in the process of assembling a printed wiring board, comprises a section for inspecting the state of solder printed on the printed wiring board before mounting a component, and inspecting the state of the mounted component and the state of solder printed on the printed wiring board, after the mounting of the component.例文帳に追加

プリント回路基板を組み立てる工程で使用される、実装部品を装着する部品装着装置であって、上記実装部品の装着前における上記プリント回路基板上の印刷された半田の状態を検査すると共に、上記実装部品の装着後における上記実装部品の状態および上記プリント回路基板上の印刷された半田の状態を検査する検査部を備える。 - 特許庁

To provide a surface-mounted type light-emitting diode, in which generation of crack of thermosetting resin and generation of open failure to a lead frame of an LED chip are prevented, by improving a thermal curing process of the thermosetting resin when at least the LED chip is sealed with the thermosetting resin, having light transmission property, and to provide a method for manufacturing the light-emitting diode.例文帳に追加

透光性のある熱硬化性樹脂による少なくともLEDチップの封止にあたり、当該熱硬化性樹脂の熱硬化過程に工夫を凝らし、当該熱硬化性樹脂のクラックやLEDチップのリードフレームとの間のオープン不良の発生を未然に防止するようにした表面実装型発光ダイオード及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A first method for the crystallization of an amorphous silicon film, is to crystallize the film by primarily applying a high voltage of about 500V-2,000 V to electrodes from one direction of a substrate, and then again crystalize the film by secondarily applying the high voltage of about 500V-2,000 V to the electrodes configured in a direction perpendicular to the position of the primary crystallization process.例文帳に追加

本発明による非晶質シリコン膜の結晶化のための第1方法は、一次的に基板の一方向から500V〜2000Vの高電圧を印加して結晶化し、二次的に前記電極を一次結晶化工程の位置と垂直な方向で構成して約500V〜2000Vの高電圧を印加してもう一度結晶化を進める。 - 特許庁

The method of manufacturing toner is characterized in that a toner having a softening point of 80 to 115°C is produced through a process of aggregating and melting resin fine particles containing a resin and at least a hydrocarbon wax as a wax having a melting point of 70 to 90°C and a melt viscosity of 12 to 20 mPa s at 100°C, with colorant particles at 80 to 100°C.例文帳に追加

少なくともワックスとして融点が70〜90℃、100℃における溶融粘度が12〜20mPa・sの炭化水素系ワックスと樹脂を含有する樹脂微粒子と、着色剤粒子を80〜100℃の温度で凝集、融着させる工程を経て、軟化点80〜115℃のトナーを作製することを特徴とするトナーの製造方法。 - 特許庁

A laser beam is irradiated from either of both sides of a semiconductor wafer to a prescribed depth position of the semiconductor wafer by aligning a focal position with the prescribed depth position of the semiconductor wafer so as to generate a multiphoton absorption process only in a specific part, located at the prescribed depth position, of the semiconductor wafer, thereby forming a gettering sink by making the specific part as a modified part.例文帳に追加

半導体ウェーハの両面のいずれか一方の面から、該半導体ウェーハの所定深さ位置に、焦点位置を合わせてレーザビームを照射し、前記所定深さ位置にある半導体ウェーハの特定部分のみに多光子吸収過程を生じさせて改質部分としゲッタリングシンクを形成する。 - 特許庁

The operating method and device for the internal-combustion engine 1 of the vehicle is arranged so as to make assisted by the internal-combustion engine 1 and capable of making dynamic compensation of the load request of the steering device 5, in which a margin signal for adapting the output variable to be output by the internal-combustion engine 1 is formed as a function of the steering process.例文帳に追加

内燃機関(1)によりアシストされるかじ取り装置(5)の負荷要求の動的補償を可能にする車両の内燃機関(1)の運転方法および装置において、かじ取り過程の関数として、内燃機関(1)により出力されるべき出力変数を適合させるための余裕信号が形成される。 - 特許庁

To provide a method for producing a marine engine valve capable of solving such problem as to drop the temperature of a portion to be forged due to a die-forging of a head part in the producing process of the marine engine valve, thereby reducing the loss of heat through the forging die and lowering the temperature drop during a forging, and to provide an apparatus used therefor.例文帳に追加

舶用エンジンバルブの製造技術の改良であって、材料の一部を鍛造して軸部を形成した中間材とし、ついで傘部を鍛造してバルブ素材とするときに、被鍛造部分の温度低下という問題を解消し、鍛造型を通じての失熱を少なくし、鍛造の間の温度低下を軽減して、鍛造時のワレをなくす。 - 特許庁

To solve such problems that when an image forming process is stopped as a result of a recording material running out due to a relation between a timing of image formation on an image carrier and the paper recording timing of the recording material occasioned by the increase of a speed and coloring and increase the burden of a cleaning device, in an image forming device provided with an addition paper feeding part.例文帳に追加

付加給紙部を設けた画像形成装置において、その高速化やカラー化に伴って、像担持体上での画像形成のタイミングと記録材の給紙タイミングの関係から、記録材が無くなって画像形成工程を停止する際に、不要な画像形成が行われて、クリーニング装置の負担を増す等の種々の問題が生じている。 - 特許庁

The equipment for inspecting a foreign matter at the forward end of a cigarette is provided with a color sensor for irradiating the forward end of cigarettes C being carried sequentially, side by side, in the production process of cigarette with light comprising three prime color components of red, green and blue and receiving reflected light while decomposing into three prime color components of red, green and blue.例文帳に追加

シガレットの先端部における異物の有無を検査するものであって、シガレットの製造工程において横並びに順次搬送されるシガレットCの先端に赤色、緑色、および青色の3原色成分からなる光を照射し、その反射光を赤色、緑色、および青色からなる3原色成分に分解してそれぞれ受光するカラーセンサを備える。 - 特許庁

When the granular foreign substances (x) of transparent or translucent synthetic resins are mixed into the liquid crystal layer 19 in a manufacturing process, a number of pieces of the granular foreign substances (x) aggregate and generates an aggregation defect X, and there is the possibility that this defect is a bright point defect to transmit light at all times, regardless of the orientation state of the liquid crystal.例文帳に追加

製造工程にて液晶層19中に透明または半透明な合成樹脂の粒状異物xが混入すると、その粒状異物xが多数個凝集して異物凝集欠陥Xが生じ、そこが液晶の配向状態とは無関係に光を常時透過する輝点欠陥となる可能性がある。 - 特許庁

The process management method includes steps of: (A) calculating wiring resistance and wiring capacitance in a condition where manufacturing dispersion of the width and thickness of the wiring is represented by points on a predetermined equal probability circle of a joint probability density function; and (B) specifying a variation range RNG of the wiring resistance and the wiring capacitance caused by the manufacturing dispersion based on the calculated wiring resistance and wiring capacitance.例文帳に追加

そのプロセス管理方法は、(A)配線の幅及び厚さの製造ばらつきが同時確率密度関数の所定の等確率円上の点で表されるという条件の下で、配線抵抗及び配線容量を算出するステップと、(B)算出された配線抵抗及び配線容量に基づいて、製造ばらつきに起因する配線抵抗及び配線容量の変動範囲RNGを規定するステップとを含む。 - 特許庁

In a formation process of an absorption layer pattern of the method of manufacturing the laminated feedthrough capacitor 1, precursors of a step absorption layer 22 for grounding and a step absorption layer 24 for grounding are formed on an electrode pattern 43 for grounding, and a precursor of a step absorption layer 32 for grounding is formed on an electrode pattern 44 for grounding.例文帳に追加

積層貫通コンデンサ1の製造方法では、吸収層パターンの形成工程において、接地用電極パターン43上に接地用段差吸収層22及び接地用段差吸収層24の前駆体を形成し、また、接地用電極パターン44上に接地用段差吸収層32の前駆体を形成する。 - 特許庁

To use memory resources for preparing data for display corresponding to a necessity degree and to effectively utilize them without making a user waste time by changing a display method corresponding to the experience of the operation of the user in the case of displaying the operation process and procedure of equipment for the support of an input operation to the equipment by the user.例文帳に追加

ユーザによる機器への入力操作の支援に機器の動作過程や手順を表示する場合に、ユーザの操作の習熟度に応じ表示方法を変化させることにより、ユーザが無駄な時間を費やすことなく、表示用データを用意するメモリ資源も必要度に応じ用い有効利用を図るようにすることを目的とする。 - 特許庁

The method for producing a textile fabric having a pattern giving raised feeling includes the application of water to a textile fabric, the application of a UV-curable ink by an inkjet process, and the curing of the ink with ultraviolet rays, wherein the textile fiber contains water corresponding to 60-90% of the saturated water content in application of the UV-curable ink.例文帳に追加

繊維布帛に対し、水を付与した後、インクジェット方式により紫外線硬化型インクを付与し、次いで紫外線によりインクを硬化させることによって凸感のある模様が形成された繊維布帛の製造方法であって、紫外線硬化型インクが付与されるときの繊維布帛が飽和吸水量の60〜90%の水を含有している、凸感のある模様が形成された繊維布帛の製造方法。 - 特許庁

To provide a power generating system capable of stably outputting intended electric energy by supplying reformed gas of which density of carbon monoxide generated together with hydrogen is restrained below a prescribed value to a power generating cell part in a process of reforming fuel for power generation and generating reformed gas containing hydrogen, and to provide a control method of the same.例文帳に追加

発電用燃料を改質して水素を含む改質ガスを生成する過程で水素とともに発生する一酸化炭素の濃度を規定値以下に抑制した改質ガスを発電セル部に常時供給して、所望の電気エネルギーを安定的に出力することができる電源システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

In the wafer washing process for semiconductor integrated circuit production, a microfiltration filter cartridge which is composed of a microporous filter membrane (a), a membrane support, a core, an outer peripheral cover and an end plate, which are all made of polysulfone type polymer, is used and (b) the filtration of the washing chemicals is started without prior moistening processing by means of alcohol with respect to the filtration of the washing chemicals.例文帳に追加

半導体集積回路製造のウエハー洗浄工程において、洗浄薬液のろ過に、(a)微孔性ろ過膜、膜サポート、コアー、外周カバー及びエンドプレートにより構成されており、上記構成要素の全てがポリスルホン系ポリマーでできている精密ろ過フィルターカートリッジを用い、且つ(b)アルコールによる予備濡らし処理を行うことなく洗浄薬液のろ過を開始する。 - 特許庁

When the conductive support body for an electrophotographic photoreceptor is manufactured using aluminum or aluminum alloy having a Brinell hardness HB(10/500) of50 as a material, a honing unit with a means for honing process of the conductive support body is controlled, in such a way that the pressure of the internal atmosphere of the honing unit is kept lower than that of a cleaning unit for cleaning the conductive support body.例文帳に追加

材質がブリネル硬さHB(10/500)50以下であるアルミニウムもしくはアルミニウム合金を用い電子写真感光体用の導電性支持体を作製する場合には、該導電性支持体をホーニング加工するための手段を有するホーニングユニットと、洗浄するための洗浄ユニットがその内部の雰囲気の圧力を洗浄ユニットの雰囲気より低い圧力に保つように加工する。 - 特許庁

To provide an organic photoreceptor, capable of simultaneously solving the contradicting characteristics of adhesiveness of foreign substances to the organic photoreceptor and wear-resistance characteristics, preventing the occurrence of dash marks and black dots, preventing the occurrence of a transfer memory, and to provide potential characteristics proper in long term and providing proper electrophotographic images, and to provide a process cartridge using the organic photoreceptor and an image forming apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は有機感光体の対異物付着性と耐摩耗特性との相反する特性を同時に解決し、ダッシュマークや黒ポチの発生を防止し且つ転写メモリーの発生を防止し長期的に良好な電位特性と良好な電子写真画像を提供できる有機感光体を提供することであり該有機感光体を用いたプロセスカートリッジ、画像形成装置を提供することである。 - 特許庁

例文

In the case that the horizontal inclination angle of the traveling machine body relative to a horizontal reference plane, detected by an inclination angle detection means, uncreases as the machine body lowering control is executed for bringing both of the grounding parts of a pair of right and left travel devices closer to the traveling machine body, a forced stopping process is carried out for stopping the execution of the machine body lowering control.例文帳に追加

左右一対の走行装置の接地部の両方を走行機体に接近させる機体下降制御を実行するのに伴って、傾斜角検出手段にて検出される走行機体の水平基準面に対する左右傾斜角が大きくなる場合には、その機体下降制御の実行を停止する強制停止処理が行なわれる。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS