「Remove」に関連した英語例文の一覧と使い方(306ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an inexpensive antimicrobial plant activator extremely simple in its production method, giving sufficient inactivating effects on viruses, bacteria, fungi (mycetes), etc. each burdening stress on plants and causing their diseases, activating the rhizospheric microfloral phase near plant roots to give good circumstances for plant growth and remove offensive odor, and leading to getting no lethal cases even if humans and/or pet animals put itself accidentally into their mouths.例文帳に追加

植物にストレスを与え病気を引き起こす、ウイルス、細菌、カビ（真菌）等に対して、十分な不活化効果を与えると同時に、植物根付近の根圏微生物相を活性化させ植物の発育に良い環境をつくり、悪臭を除去し、人間やペットが誤って口にしてしまっても致命的にならず、かつ製造方法が極めて単純で安価な、抗菌性植物活性剤を提供すること。 - 特許庁

The hydrogen feeder 64 includes: an ejector 86 disposed in a vertical piping portion 88a that composes the hydrogen circuit 88 and extends in a gravity direction; and a baffle plate 104 that is located in a lower portion of an inlet 100 of the ejector 86, disposed in the vertical piping portion 88a, and protrudes into the fuel gas flow passage in order to remove water in the fuel gas circulating in the upward gravity direction.例文帳に追加

水素供給装置６４は、水素循環路８８を構成し重力方向に延在する垂直配管部８８ａに配置されるエゼクタ８６と、前記エゼクタ８６の吸入口１００の下方に位置して前記垂直配管部８８ａに配置され、重力上方向に流通する燃料ガス中の水分を除去するために、燃料ガス流通路内に突出する邪魔板１０４とを設けている。 - 特許庁

The electrophotographic printer 10 is formed such that infrared heaters 17 are each placed in a position between two of a plurality of electrophotographic printing units 12 placed in the web flow direction, and that infrared rays are applied from the infrared heaters 17 to portions (intra-unit extensions 101c) each positioned between the printing units 12 of the web 101 to partly vaporize and remove carrier liquid of the web 101 and to partly fix the toner.例文帳に追加

ウェブ流れ方向において複数設置された電子写真印刷ユニット１２同士の間の位置に赤外線ヒータ１７を設置し、ウェブ１０１の印刷ユニット１２間に位置する部分（ユニット間延在部１０１ｃ）に前記赤外線ヒータ１７から赤外線を照射してウェブ１０１のキャリア液の一部蒸発除去及びトナーの一部定着を行うようにした電子写真印刷機１０を提供する。 - 特許庁

The ceramic element 2, a polishing medium 3, and a buffer material 4 are thrown in a barrel 1a, the ceramic element 2 is polished through rotation of the barrel 1a to be chamfered, and polishing wastes of the ceramic element 2 are attracted to the buffer material 4 through electrostatic attracting operation, so the buffer material 4 where the polishing wastes stick is only sorted out after the polishing process to efficiently remove the polishing wastes.例文帳に追加

セラミック素子２と、研磨媒体３と、緩衝材４とがバレル１ａに投入されて、バレル１ａが回転することにより、セラミック素子２が研磨されて面取りが行われるため、セラミック素子２の研磨屑は静電吸着作用により緩衝材４に吸着されるので、研磨工程の後に研磨屑が付着した緩衝材４を選り分けるだけで、研磨屑を効率よく除去することができる。 - 特許庁

A liquid metal cooling type reactor 10 includes a reactor vessel 22 for holding a reactor core 11 and coolant L thereof, a containment vessel 23 for surrounding the outside of the reactor vessel 22, an air channel U for making the air flow around the outside of the containment vessel 23 to remove the heat, and an injection part 30 for injecting a filler T into the gap D between the reactor vessel 22 and the containment vessel 23.例文帳に追加

液体金属冷却型原子炉１０において、炉心１１及びその冷却材Ｌを保持する原子炉容器２２と、原子炉容器２２の外側を取り囲む格納容器２３と、格納容器２３の外側に空気を流動させて除熱を行う空気流路Ｕと、原子炉容器２２及び格納容器２３の間隙Ｄに充填材Ｔを注入する注入部３０と、を備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the organic thin film has a step of forming a first organic molecular layer having a regular molecule arrangement consisting of first organic molecules on the substrate; a step of forming a second organic molecule layer epitaxially growing on the first organic molecule layer; and a step of sublimating, evaporating or dissolving the first organic molecule layer to remove it from the second organic molecule layer.例文帳に追加

基板上に第１の有機分子からなる規則的な分子配列を有する第１の有機分子層を形成する工程と、前記第１の有機分子層の上にエピタキシャル成長する第２の有機分子層を形成する工程と、前記第１の有機分子層を昇華、蒸発あるいは溶解して前記第２の有機分子層から除去する工程を有する有機薄膜の製造方法。 - 特許庁

Since this device erases the images on the display, by applying erasing voltages between the pixel electrodes 11 and common electrodes 21 and applies a writing voltage several times between them, in order to write other images after erasing, the device can remove the images that are not completely erased in the erasing process and still remaining by carrying out another writing.例文帳に追加

画素電極１１と共通電極２１との間に表示画像を消去する消去電圧を印加して表示部で表示している画像を消去し、画像を消去した後、画素電極１１と共通電極２１との間に新たな表示画像を書き込む書込電圧を連続して複数回印加することとしたので、消去駆動によって消去しきれずに形成された残像を書込の際に除去することができる。 - 特許庁

In a wet scrubbing tower 1 in which liquid chemicals are sprayed on waste gas containing acidic components and organic halogen compounds such as dioxins to chiefly remove the acidic components, at least part of the liquid chemicals circulated and sprayed through the absorption of the acidic components is fed to an organic halogen compound removing unit 7, freed of the organic halogen compounds, circulated and sprayed.例文帳に追加

酸性成分およびダイオキシン等の有機ハロゲン化合物を含む排ガスに薬液を噴霧して排ガスに含まれる酸性成分を主に除去する湿式洗浄塔１において、排ガス中の酸性成分の吸収を経て循環噴霧される薬液の少なくとも一部を、有機ハロゲン化合物除去装置７に流通させて薬液中の有機ハロゲン化合物を除去したあと、循環噴霧に供する。 - 特許庁

The method for producing a purified β-D-glucan comprises a first process for adjusting a microorganism culture solution containing a β-D-glucan or a ground microorganism solution, a second process for removing a microorganism or an insoluble admixture to give a supernatant and a third process for ultrafiltering the supernatant in alkalinity so as to remove the whole or a part of a low-molecular admixture from the β-D-glucan.例文帳に追加

β−Ｄ−グルカンを含む微生物培養液又は微生物破砕液をｐＨ１２以上に調整する第１工程と、微生物又は不溶性夾雑物を除去して上清を得る第２工程と、上清をアルカリ性下で限外ろ過してβ−Ｄ−グルカンより低分子の夾雑物の全部又は一部を除去する第３工程とを含む精製β−Ｄ−グルカンの製造方法。 - 特許庁

As a result, the blast material 33 in the filter vessel 14 is moved and brought into contact with the aluminum electrode 18 at an irregular interval to prevent the sticking of scale such as aluminum hydroxide on the surface of the aluminum electrode 18 and to remove the scale such as aluminum hydroxide stuck to the surface of the aluminum electrode 18 and the purification performance is kept for a long period.例文帳に追加

これにより、ろ過槽１４内のブラスト材３３を流動させ、ブラスト材３３をアルミニウム電極１８に不定期間隔に接触させることによって、アルミニウム電極１８表面への水酸化アルミニウム等のスケールの付着を防止することができるとともに、アルミニウム電極１８の表面に付着した水酸化アルミニウム等のスケールを除去することができ、浄化性能を長期にわたって維持することができる。 - 特許庁

Accordingly, the konjak noodles 10 have reduced water content and high breaking load with no wateriness and gives moderate toughness in comparison of the half product 34 of the conventional konjak noodles (described later) having a water content of 96% and a breaking load of 172 gf under the same conditions as the conventional and can remove the wateriness and gives moderate toughness.例文帳に追加

従って、水分率が９６％で破断荷重が１７２ｇｆの従来の蒟蒻麺と同じ条件の本発明の蒟蒻麺半製品（後述する蒟蒻麺半製品３４）に比べて本発明の蒟蒻麺１０は水分率が低くて破断荷重が高いので、水っぽくなくて適度な歯ごたえがあるため、従来の蒟蒻麺を食べて感じていた水っぽくて歯ごたえの無い食感を排除することができる。 - 特許庁

The method for producing the metal oxide thin film precursor enables the preparation of the metal oxide thin film precursor from a metal chloride solution obtained by dissolving the metal chloride in a solvent, provided by precipitating a chlorine component by cooling the metal chloride solution to remove the chlorine component for capable of obtaining the metal oxide thin film precursor without containing the chlorine component.例文帳に追加

本発明は、金属塩化物を溶剤に溶解した金属塩化物溶解液から金属酸化物薄膜前駆体を調製する金属酸化物薄膜前駆体の製造方法において、上記金属塩化物溶解液を冷却することにより塩素成分を析出し、この塩素成分を除去することにより、塩素成分を含まない金属酸化物薄膜前駆体を得ることが可能になる。 - 特許庁

This device for judging abnormality judges whether gas molecules adhering on a coating layer and a detection side electrode of the oxygen concentration sensor are oxygen molecules or un-burned component molecules (step 915) when abnormality judgment execution conditions are satisfied (step 910), and applies predetermined voltage corresponding to the judgment result between a base side electrode and a detection side electrode (step 920, 925) to remove the adhering gas molecules.例文帳に追加

この異常判定装置は、異常判定実施条件が成立すると（ステップ９１０）、酸素濃度センサの検出側電極及びコーティング層に付着しているガス分子が酸素分子であるか未燃成分分子であるかを判別し（ステップ９１５）、その判別結果に応じた所定の電圧を基準側電極と検出側電極との間に印加し（ステップ９２０、９２５）、同付着しているガス分子を除去する。 - 特許庁

The cleaning method for plasma etching equipment includes the steps of supplying a cleaning gas into a chamber 102 of plasma etching equipment 100, changing the cleaning gas into plasma in the chamber 102, and putting the cleaning gas, changed to plasma, into contact with a deposit adhering to the inner wall of the chamber 102 to etch and remove the deposit, thus performing plasma cleaning inside the chamber 102.例文帳に追加

本発明のプラズマエッチング装置のクリーニング方法は、プラズマエッチング装置１００のチャンバー１０２内に、クリーニングガスを供給する工程と、チャンバー１０２内において、前記クリーニングガスをプラズマ化する工程と、プラズマ化された前記クリーニングガスを、チャンバー１０２の内壁に付着した堆積物に接触させ、該堆積物をエッチング除去することにより、チャンバー１０２内のプラズマクリーニングを行う工程と、を含む。 - 特許庁

A coating film comprising a composite material wherein the carbon particles are uniformly dispersed in a silver layer can be formed on a base material by uniformly dispersing the carbon particles in a silver plating liquid by adding carbon particles, subjected to an electrolytic treatment in order to remove lipophilic organic substances from the surface of each carbon particle, into the silver plating liquid and then, performing electroplating by using the silver plating liquid.例文帳に追加

電解処理により炭素粒子の表面の親油性有機物を除去し、この親油性有機物を除去した炭素粒子を銀めっき液に添加することにより炭素粒子を銀めっき液中に均一に分散させ、この銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀層中に炭素粒子が均一に分散した複合材からなる皮膜を素材上に形成する。 - 特許庁

The method comprises immersing the digestive caecum in a solution of an organic acid to leach out metals in the gland into the solution, bringing the solution containing the leached out metals into contact with a graft-polymer capturing material by a circulating means to remove the metals from the solution and reusing the solution after the removal of the metals in the immersion of the digestive caecum of scallops, with the procedures carried out continuously.例文帳に追加

ホタテ貝中腸腺を有機酸溶液に浸漬して有機酸液中に金属を溶出させるとともに、循環手段を用いて金属が溶出した有機酸溶液をグラフト重合捕集材に接触させて該有機酸溶液から金属を除去し、金属が除去された有機酸溶液をホタテ貝中腸腺の浸漬に再利用する操作を連続的に行なうホタテ貝中腸腺からの金属除去方法。 - 特許庁

To provide a motor controller capable of removing effectively a low-frequency component, capable of calculating easily a vibration waveform necessary for abnormality diagnosis, and capable of diagnosing effectively abnormality, and an abnormality diagnostic method therefor, in the motor controller for averaging vibration waveform signals to remove a noise component, and for diagnosing the abnormality, based on a noise component removed signal, and the abnormality diagnostic method therefor.例文帳に追加

振動波形信号を平均化処理して雑音成分を除去し、雑音成分除去信号に基づいてシステムの異常診断をするモータ制御装置とその異常診断方法において、効果的に低周波数成分を除去でき、異常診断に必要な振動波形を簡単に計算でき、効果的に異常診断することができるモータ制御装置とその異常診断方法を提供する。 - 特許庁

(a) the patentee or the patentee's predecessor in title failed to ensure the provision to the Commissioner of the information required by subsection 45(3) or section 101D in relation to the patent; and (b) the effect of the proposed amendment would be to remove a lawful ground of objection under paragraph 18(1)(b) or 18(1A)(b) to the specification arising from the existence of some or all of the information not provided. 例文帳に追加

(a) 特許権者又はその前権原者が，その特許に関して，第45条(3)又は第101D条によって要求されている局長に対する情報の提供を確保せず，かつ (b) 補正提案の効果が，提供されなかった情報の一部又は全部の存在から生じる，その明細書に対する第18条(1)(b)又は第18条(1A)(b)に基づく異論の合法的理由を除去することにあると思われる場合 - 特許庁

the renewal fee and additional renewal fee within the period commencing on the date 6 months after the actual date of registration (that is to say, at the end of the period referred to in paragraph (a) and ending on the date 6 months after the due date of renewal), and, where the fees referred to in paragraph (b) are not paid within the period specified in that paragraph the Registrar shall, subject to rule 50, remove the mark from the register. 例文帳に追加

実際の登録日から6ヶ月後に始まる期間内(すなわち(a)にいう期間の末日，及び更新期限日後6カ月の最終日に更新手数料及び割増更新手数料を納付)に更新手数料及び割増更新手数料を納付。 さらに，(b)にいう手数料がその項で定められた期日内に支払われない場合，登録官は規則50に従って登録簿から当該標章を抹消する。 - 特許庁

(3) At the prescribed time be fore the expiration of the last registration of a trademark, the Registrar shall send notice in the prescribed manner to the registered proprietor of the date of expiration and the conditions as to payment of fees and otherwise upon which a renewal of registration may be obtained, and if at the expiration of the time prescribed in that behalf those conditions have not been duly complied with the Registrar may remove the trademark from the Register. 例文帳に追加

(3)最新の商標登録期間満了前の所定の期間に、登録官は、登録された所有者に対し、期間満了日並びに登録更新を得るための手数料の支払い等の条件について、所定の方式で通知を送付する。それらの条件が所定の期間満了時に適正に充足されていない場合、登録官は当該商標を登録簿から抹消することができる。 - 特許庁

For the purpose of reducing the short-circuit defects between wirings and enhancing the yield in the manufacturing stage, the semiconductor layer is patterned utilizing the dry etching construction method, then etched by using dilute HF before a thin film is deposited in the next stage to remove the polymer generated at the time of patterning of the semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層のパタンニング時に発生するポリマを除去し、ショート不良を低減し製造工程における歩留まりの向上を達成するために、半導体層のパタンニングをドライエッチ工法を利用して行い、エッチングした後、次の薄膜堆積前に希ＨＦにてエッチングすることによって、半導体層のパタンニング時に発生するポリマを除去し、配線間のショート不良を低減し製造工程における歩留まりの向上につなげる。 - 特許庁

Further, when the printed wiring board is repaired, it is cut to remove the bonded part, thereby obtaining the printed wiring board that is provided with an electrode terminal having at least a length enough to connect the wiring boards, and the wiring board provided with the electrode terminal having such the length is used to connect the printed wiring boards again.例文帳に追加

さらに上記プリント配線板をリペアするにあたって、プリント配線板を切断することによって接合部を除去し、少なくとも配線板同士を接続するために必要な長さの電極端子部を備えたプリント配線板を取得するとともに、この少なくとも配線板同士を接続するために必要な長さの電極端子部を備えたプリント配線板を使用し、再びプリント配線板同士を接続する。 - 特許庁

To provide a method of purifying a photoresist resin which can effectively remove oligomers and low molecular weight polymers produced in the polymerization of a resin as by-products, and high molecular weight polymers having a molecular weight higher than a target weight average molecular weight present in a resin solution containing the photoresist resin before purification and can obtain a photoresist polymer having a narrow molecular weight distribution and a low concentration of residual metals.例文帳に追加

精製前のフォトレジスト用樹脂を含有する樹脂溶液中に含まれる、樹脂の重合の際に副生したオリゴマーや低分子量のポリマー、目的とする重量平均分子量よりも高分子量のポリマーを効果的に除去することができ、分子量分布が狭く且つ残留金属濃度の低いフォトレジスト用樹脂を得ることができるフォトレジスト用樹脂の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide an environmental sterilizer which can sufficiently exhibit the sterilization and deodorization efficacies of iodine, even when the iodine whose metal corrosion inhibition and human body safety are evaluated is used, and to provide a sliminess-preventing tool which can apply the potencies of the environmental sterilizer for a long period to remove the sliminess of a kitchen and the urolith of a toilet.例文帳に追加

金属に対する腐食性の抑制や人体に対する安全性も評価されているヨードを使用しても、充分にヨードの有する抗菌性および消臭性という効力を発揮させることができる環境殺菌剤の提供、および、この環境殺菌剤の有する効力を長期間持続させて台所のぬめりやトイレの尿石を除去することができるぬめり防止具の提供を目的とする。 - 特許庁

The method has a process for forming a resist pattern on a film formed on a semiconductor substrate, performing the dry etching using the resist pattern as a mask to form the micro pattern, a process for supplying a resist removing liquid to the micro pattern formation plane of the semiconductor substrate to remove the resist pattern by single wafer processing, and a process for performing rinsing on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板に設けられた膜上にレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクに用いてドライエッチングを行い、前記膜の微細パターンを形成する工程と、前記半導体基板の微細パターン形成面にレジスト除去液を供給し、枚葉式処理により前記レジストパターンを除去する工程と、前記半導体基板をリンス処理する工程と、を有する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the water treatment apparatus (1), water to be treated is stored in an electrolytic aggregation tank (2) having an electrolysis unit (9), and electrolytic aggregation treatment is applied to the water to be treated by using the electrolysis unit (9) to remove impurities in the water to be treated.例文帳に追加

本発明では、電気分解装置(9)を有する電解凝集槽(2)に被処理水を貯留し、前記電気分解装置(9)を用いて被処理水に対して電解凝集処理を施すことで被処理水中の不純物を除去する水処理装置(1)において、電気分解装置(9)は、コイル状に形成した正極の電極端子（23〜31）と負極の電極端子（32〜40）とで二重螺旋形状の電極端子対（41〜49）を形成することにした。 - 特許庁

In another embodiment, a degassing and defoaming unit which degasses and defoams a used developer, an ion exchange unit and/or an NF membrane separation unit which remove impurities such as a photoresist from the degassed and defoamed developer to obtain a TAAH solution and a filter membrane treatment unit which removes fine impurity particles from the TAAH solution are successively arranged in this order.例文帳に追加

また、現像廃液から脱気脱泡する脱気脱泡処理装置、脱気脱泡された現像廃液からフォトレジスト等の不純物を除去してＴＡＡＨ溶液を得るイオン交換処理装置及び／又はＮＦ膜分離処理装置、および、ＴＡＡＨ溶液から不純物微粒子を除去する濾過膜処理装置をこの順序で配置し、現像廃液からの再生現像液の回収再利用装置を構成する。 - 特許庁

To provide a moisture retention material obtained by using a solid component of a micro capsule containing a thermal storage medium that has functions to remove various uncomfortable odors derived from materials for the thermal storage medium and those necessary for microcapsulation and as heat generating materials having quick and stable temperature reproducibility by microwave when heating the microcapsule containing the thermal storage medium and a composition containing a water absorbable pigment by irradiation of microwave.例文帳に追加

蓄熱材を内包したマイクロカプセルの固形物を用いた保温材で、蓄熱材やマイクロカプセル化に必要な素材から発する様々な不快な臭気を除去する事と、蓄熱材を内包するマイクロカプセル及び吸水性顔料を有する組成物をマイクロ波を照射して加熱する際に、マイクロ波照射による迅速且つ安定な温度再現性のある発熱材としての機能を付与する。 - 特許庁

The immersion lithographic apparatus includes a liquid supply system which has an inlet configured to supply the liquid to a space between the projection system of the lithographic apparatus and the substrate and an outlet configured to remove at least a part of the liquid and is configured to rotate the inlet, the outlet, or both of them about an axis substantially perpendicular to an exposure plane of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置の投影システムと基板の間の空間に液体を供給するようになされた入口と、この液体の少なくとも一部を除去するようになされた出口とを有し、基板の露光平面に対して実質的に直角の軸線の周りに、この入口、出口もしくはその両方を回転させるようになされた液体供給システムを有する液浸リソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

The method for treating the indium-containing solution comprises the steps of: adding activated carbon into the solution containing lead and indium to make the activated carbon adsorb lead; adding a sulfurizing agent in an amount of sufficiently sulfurizing lead remaining in the solution, into the solution to remove the remaining lead as a sulfide; and collecting indium from the solution from which the sulfide of the lead has been removed.例文帳に追加

鉛とインジウムとを含有する溶液へ活性炭を添加し鉛を吸着させる工程と、当該溶液中へ、当該溶液中に残留する鉛を硫化するに足る量の硫化剤を添加し、当該残留する鉛を硫化物として除去する工程と、当該鉛の硫化物を除去した溶液からインジウムを採取する工程と、を有するインジウム含有溶液の処理方法である。 - 特許庁

This method for purifying the adamantanemonool compound from a mixture comprising the adamantanemonool compound and the 2-adamantanone is characterized by dissolving the mixture in an ester solvent having a water-octanol distribution coefficient of ≥0.5 or in an ester solvent having a solubility of ≤10 wt.% in water at 20°C, and subjecting the solution to a recrystallizaton operation at ≥5°C to remove the 2-adamantanone.例文帳に追加

アダマンタンモノオール類と２−アダマンタノンを含む混合物からアダマンタンモノオールを分離する方法であって、該混合物を水−オクタノール分配係数が０．５以上であるエステル溶媒、又は２０℃における水への溶解度が１０ｗｔ％以下であるエステル溶媒に溶解し、５℃以上で再結晶操作を行うことで２−アダマンタノンを除去することを特徴とするアダマンタンモノオール類の精製方法。 - 特許庁

The composition comprises one or more kinds water soluble organic solvents comprising glycol ether, water, a fluoride containing compound conditioned on that when the fluoride containing compound is ammonium fluoride, no additional fluoride containing compound is added to the composition, and an optional quaternary ammonium compound, and is used to remove the residue.例文帳に追加

製品から残留物を除去するための組成物であって、当該組成物が、グリコールエーテルを含む１種以上の水溶性有機溶媒；水；フッ化物含有化合物がアンモニウムフルオライドである場合に、追加のフッ化物含有化合物を当該組成物に添加しないことを条件とするフッ化物含有化合物；そして随意選択的な第４級アンモニウム化合物；を含む、残留物を除去するための組成物。 - 特許庁

This invention concerns the ready-mixed concrete transfer hoses and their cleaning process. The pumping tube and pressure-transfer hose are connected by means of connecting pipe having a cock, which can be opened or closed, thereby enabling the cleaning of the pumping tube alone or by sending hydrophobic resilient material down the pumping tube, connecting pipe and pressure-transfer hose to remove residues of ready-mixed concrete completely from all of the parts. 例文帳に追加

この発明は、生コンクリートの輸送ホース及びその洗浄方法に関し、ポンピングチューブと圧送ホースとを開閉自在な開口部を有する接続管を介して連通接続することにより、ポンピングチューブのみを洗浄可能とするとともに、非吸水性の弾性部材を水圧で移送してポンピングチューブ、接続管及び圧送ホースの内周面に付着した生コンクリートを完全に洗浄できるように構成したものである。 - 特許庁

Before the decision, referred to in paragraph (1), is taken and in cases other than those specified in section 16, the Patent Office may demand in an order that the applicant remove, from the description of the design or from the illustration, within the fixed time limit and under the pain of discontinuance of the proceeding, in particular inscriptions or illustrations contrary to the public order or morality, as well as make corrections, as appropriate, resulting from the withdrawal of certain forms of the design.例文帳に追加

(1)にいう決定をする前に，第16条に規定の事情以外の場合は，特許庁は，出願人が定められた期限内に，かつ，応じない場合は手続が停止されることを条件として，意匠の説明書又は図解から特に公序良俗に反する銘又は図解を削除し，意匠の一定の形態の取下から生じる適宜の訂正をすることを命令により求めることができる。 - 特許庁

Article 16-3 (1) The owner, manager or possessor of a manufacturing facility, storage facility or handling facility shall, in the event that an outflow of hazardous materials or any other accident has occurred at said manufacturing facility, storage facility or handling facility, immediately take emergency measures to prevent the subsequent outflow and spread of hazardous materials, remove the hazardous materials that have flowed out and prevent the occurrence of any other disaster. 例文帳に追加

第十六条の三　製造所、貯蔵所又は取扱所の所有者、管理者又は占有者は、当該製造所、貯蔵所又は取扱所について、危険物の流出その他の事故が発生したときは、直ちに、引き続く危険物の流出及び拡散の防止、流出した危険物の除去その他災害の発生の防止のための応急の措置を講じなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 16-6 (1) A municipal mayor, etc. may order a person who stores or handles the designated quantity or a larger quantity of hazardous materials without obtaining the approval set forth in the proviso to Article 10, paragraph (1) or the permission under the provision of the first sentence of Article 11, paragraph (1), to remove the hazardous materials thus stored or handled and take other necessary measures to prevent disasters caused by the hazardous materials. 例文帳に追加

第十六条の六　市町村長等は、第十条第一項ただし書の承認又は第十一条第一項前段の規定による許可を受けないで指定数量以上の危険物を貯蔵し、又は取り扱つている者に対して、当該貯蔵又は取扱いに係る危険物の除去その他危険物による災害防止のための必要な措置をとるべきことを命ずることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Article 35 (1) When a food sanitation inspector intends to remove food, additives, apparatus, containers and packaging, or toys listed in each item of Article 78 (hereinafter referred to as "food, etc.") pursuant to the provisions of Article 28, paragraph (1) of the Act (including cases where it is applied mutatis mutandis under Article 62, paragraphs (1) and (3) of the Act), he/she shall issue a certificate for removal according to form 2 to a person whose articles are removed. 例文帳に追加

第三十五条　法第二十八条第一項（法第六十二条第一項及び第三項において準用する場合を含む。）の規定により、食品衛生監視員が、食品、添加物、器具、容器包装又は第七十八条各号に掲げるおもちや（以下「食品等」という。）を収去しようとするときは、被収去者に様式第二号による収去証を交付しなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(2) Each Fisheries Adjustment Commission or the Fisheries Policy Council may let the commission members or the persons engaged in the affairs of the commission or the council enter other persons' land, to survey or inspect, or to move or remove things obtrusive to the surveying or inspection, when the commission or council finds it necessary for dealing with the matters belonging to its authority pursuant to the provisions of this Act. 例文帳に追加

２　漁業調整委員会又は水産政策審議会は、この法律の規定によりその権限に属させられた事項を処理するために必要があると認めるときは、その委員又は委員会若しくは審議会の事務に従事する者をして他人の土地に立ち入つて、測量し、検査し、又は測量若しくは検査の障害になる物を移転し、若しくは除去させることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a cleanser composition for washing machine drums, which can effectively peel and remove fungi, bacteria adhered to the back sides of the washing machine drums, filmy stains comprising detergents or the like, and other stains, has excellent storage stability, has low corrosiveness to various metals, when used as aqueous solutions, and does not produce irritative odors even in a high concentration aqueous solution.例文帳に追加

本発明は、洗濯機槽の裏側に付着したカビ、細菌、洗剤等からなるフィルム状の汚れやその他汚染物を、効果的に剥離、除去できるとともに、保存安定性に優れ、水溶液にして使用した場合に各種金属に対する腐食性が低く、しかも高濃度水溶液にしても刺激臭を発生しない洗濯機槽用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

This filter 1 for removing a water-soluble harmful chemical substance comprises a hygroscopic porous material 4 and is characterized in that drain water 16 produced in an air conditioner 100 is fed into a hygroscopic porous material 4 to bring air into contact with water contained in the hygroscopic porous material 4 and thus to remove a water soluble harmful chemical substance contained in the air.例文帳に追加

吸湿性多孔質材料４を含む、水溶性有害化学物質の除去フィルタ１であって、空気調和機１００において発生するドレイン水１６を吸湿性多孔質材料４に供給し、吸湿性多孔質材料４に含まれる水分に空気を接触させて、空気中に含まれる水溶性有害化学物質を除去することを特徴とする水溶性有害化学物質の除去フィルタ。 - 特許庁

The forming method of an inorganic structure is a method to form an inorganic structure on a substrate and includes a coating process a to coat a paste containing an inorganic substance and a binder resin on the substrate and form a paste layer, a transfer process to transfer a shape of the structure on the paste layer by imprinting, and a calcination process b to calcine and remove the binder resin.例文帳に追加

本発明にかかる無機構造物の作製方法は、基材上に無機構造物を作製する方法であって、無機物とバインダー樹脂とを含むペーストを基材に塗布してペースト層を形成する塗布工程ａと、上記ペースト層にインプリントによって構造物の形状を転写する転写工程と、上記バインダー樹脂を焼成して除去する焼成工程ｂと、を含む作製方法である。 - 特許庁

The spring 1 is made to abut against on the ship bottom, and the rope 4 is pulled at both the ends of efficiently remove the unwanted deposited mattes by repeating the expansion/restoration of the spring 1.例文帳に追加

両端部が小径部で中間部に大径部を有する径を順次変化させた金属性コイルばね１と、上記コイルばね１の両端の小径部の孔に通されたロープ４とよりなり、上記ロープ４に２つのストッパ５、５’がコイルばね１中に存するように作られた船底掃除具であり、コイルばね１を船底に当接させ、ロープの両端を引張ることによりコイルばねの伸長、復元を繰返して不要付着物を効率良く除去する。 - 特許庁

To repair and remove flaws by machining the surface of a disk by a machining section at the machining depth meeting the depth of the flaws and to prevent the deviation of the focal position of a laser beam in reading the information of the disk after the repair and to exactly record and reproduce the information by forming a repair layer according to the machining depth by a repairing agent.例文帳に追加

切削加工部によりディスクの表面を傷の深さに応じた加工深さで切削加工することにより傷を修復除去することができると共に修復剤により加工深さに応じた修復層を形成することにより、修復後のディスクの情報読み取り時におけるレーザー光の焦点位置を狂わせることがなくなり、情報の記録再生を正確に行うことができる。 - 特許庁

In the method for preparing a polyalcohol by subjecting a polyketone to be obtained by copolymerizing carbon monoxide and an olefin to hydrogenation reaction in the presence of a homogeneous metal catalyst and a solvent to hydrogenating the carbon-oxygen double bonds present in the polyketone, the solution containing a polyalcohol after the hydrogenation is brought into contact with a nonpolar solvent to remove components derived from the metal catalyst from the polyalcohol.例文帳に追加

一酸化炭素とオレフィンを共重合させることによって得られるポリケトンを、均一系金属触媒および溶媒の存在下、水素添加反応に附し、該ポリケトンに含まれる炭素−酸素間二重結合を水素化して、ポリアルコールを製造する際に、水素化後のポリアルコールを含む溶液を非極性溶媒と接触させることにより、金属触媒由来の成分をポリアルコールから除去する。 - 特許庁

A monitoring device for a semiconductor polishing device has a noise removing circuit in a signal line that branches from a control signal line that has no feedback circuit to the control signal line, and can thus remove system noise caused by a host computer to quickly and accurately monitor a variation and a change with time in polishing characteristics and then improve a manufacturing yield and productivity.例文帳に追加

半導体研磨装置のモニタリング装置は制御信号線から分岐した信号線で制御信号線へのフィードバック回路を有さない信号線にノイズ除去回路を有することを特徴としているので、ホストコンピューターに起因するシステムノイズの除去が可能であるために、研磨特性の変動や経時変化を迅速かつ正確に監視することができ、製造歩留りおよび生産性向上することが可能である。 - 特許庁