「Scanning electron microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

The particulate black composite oxide particles comprise 60 to 80 mass% cobalt and 0.1 to 5 mass% manganese and has an average primary particle diameter of 0.05 to 0.3 μm (as measured by observation with a scanning electron microscope (SEM)).例文帳に追加

６０質量％〜８０質量％のコバルトおよび０．１質量％〜５質量％のマンガンを含有し、ＳＥＭ観察で測定した一次粒子平均径が０．０５μｍ〜０．３μｍであることを特徴とする粒状黒色複合酸化物粒子。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope capable of controlling quantity of electrons emitted from a sample generated by collision of electrons with other members, and to provide a method of static charge control for the sample by controlling quantity of electrons.例文帳に追加

本発明は、試料から放出された電子が、他部材に衝突した結果、生じる電子量を制御可能とすることを目的とした走査電子顕微鏡、及び電子量の制御による試料帯電制御方法の提供を目的とする。 - 特許庁

A scanning electron microscope 1 having an automatic focusing function is provided with a coordinate navigation function which allows setting measurement points arbitrarily and an output function for plotting thickness distribution based on the measured data, for measuring flatness of a wafer.例文帳に追加

オートフォーカス機能を有する走査型電子顕微鏡１に測定箇所を任意に設定可能な座標ナビゲーション機能と、計測したデータに基づいて厚さ分布を描画する出力機能を搭載することによりウェーハの平坦度の測定する。 - 特許庁

In the piezoelectric power generating element formed by arranging a piezoelectric ceramics layer on a substrate, the piezoelectric ceramics layer is formed of ceramics in the range of a grain diameter of ≥0.01 μm and ≤0.1 μm by scanning electron microscope observation.例文帳に追加

基板上に圧電セラミックス層を配置してなる圧電発電素子において、前記圧電セラミックス層が走査型電子顕微鏡観察により粒径０．０１μｍ以上、０．１μｍ以下の範囲のセラミックスで形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

In this case, it is set that the area occupancy of the alumina to be calculated from a visual field image by observing the surface of the magnetic layer by a scanning electron microscope is 0.3 to 1.0% and the standard deviation of the spatial distribution of alumina is three or less.例文帳に追加

その場合に、磁性層の表面を走査型電子顕微鏡により観察した視野像から求められる、アルミナの面積占有率が０．３〜１．０％で、かつその空間分布の標準偏差が３以下となるように設定する。 - 特許庁

Further, the observation method for observing the cross section of the semiconductor device includes a process for observing the cross section of the specific place of the semiconductor device by a scanning microscope and a process for forming the protective film of an amorphous structure to the cross section and further observing the cross section by the transmission type electron microscope through the protective film.例文帳に追加

また、半導体デバイスの断面を観察する観察方法において、前記半導体デバイスの特定箇所の断面を走査型顕微鏡で観察する工程と；前記断面に非晶質構造の保護膜を形成し、当該保護膜を透して透過型電子顕微鏡によって前記断面を更に観察する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an edge detecting method and a device, wherein the edge can be detected stably by suppressing an effect of noises even in the case of an image having an inferior S/N ratio obtained by a charged particle beam device such as a scanning electron microscope or the like.例文帳に追加

本発明は、走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置によって得られたＳ／Ｎ比の悪い画像であっても、ノイズの影響を抑えて安定してエッジを検出することが可能なエッジ検出方法、及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A β-type iron silicate has a fluorine content of 400 ppm or less relative to the dry weight and has all or part of iron contained in a β-skeleton structure, provided that crystalline particles of the β-type iron silicate have a dual truncated quadrangle pyramid under a scanning electron microscope.例文帳に追加

乾燥重量に対するフッ素の含有率が４００ｐｐｍ以下、走査型電子顕微鏡観察において結晶粒子が双四角錐台形状である鉄の全部又は一部をβ骨格構造中に含有するβ型鉄シリケートを用いる。 - 特許庁

To provide a small plasma generator hardly affected by noise and preventing bad effect on an image detecting system by light in plasma generation and to provide a scanning electron microscope.例文帳に追加

本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope suitably adapted to the study of the observation of the lattice of lines of magnetic induction or an electron state in a magnetic flux inlusive of the study of a nanoscale non-uniform superconductive state and the observation of the uneven image on the surface of a sample, and its using method.例文帳に追加

ナノ・スケール不均一超伝導状態の研究を始めとして、磁束線格子の観測や磁束内電子状態の研究、さらには試料表面の凹凸像の観測に適用して好適な走査プローブ顕微鏡およびその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide an examining method and a scanning electron microscope capable of improving a fading (decoloring) characteristic of a fluorescent colored substance in a test sample, especially a test sample excitable in an ultraviolet spectrum area, for carrying out simultaneous multicolor detection.例文帳に追加

被検試料中の蛍光着色物質の褪色（脱色）特性を改善し、更に、とりわけ紫外スペクトル領域で励起可能な被検試料において、同時的多色的検出を可能とする検査方法及び走査型顕微鏡を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma generator and a low-vacuum scanning electron microscope which are compact, seldom affected by noises and not influenced by light due to plasma generation on an image detecting system.例文帳に追加

本発明はプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡に関し、小型で雑音の影響を受けにくく、プラズマ発生による光が画像検出系に悪影響を与えないプラズマ発生装置及び低真空走査電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

The length of a known pattern provided, in advance, in a specified region on a sample is measured with a scanning electron microscope (S101-S104), and the length-measurement result is compared with the pattern design value to provide a magnification correction factor (S105 and S108).例文帳に追加

予め試料上の所定の領域に設けられた既知のパターンを走査形電子顕微鏡によって測長し（Ｓ１０１〜Ｓ１０４）、その測長結果を前記パターンの設計値と比較することにより倍率補正係数を導出する（Ｓ１０５，Ｓ１０８）。 - 特許庁

The scanning electron microscope according to the present invention scans a sample along one or more straight lines and adds, to a detection signal for each scan line, information for identifying a start position and an end position of the scan line as address information indicating a scan position on the sample.例文帳に追加

本発明に係る走査型電子顕微鏡は、試料を１以上の直線状に走査し、走査線の開始位置と終了位置を特定する情報を、試料上の走査位置を示すアドレス情報として、１走査線毎の検出信号に付与する。 - 特許庁

To provide an inspection system by which investigation or the like of the causes of defects of a semiconductor sample can be easily performed by making the work for observing defects detected by a SEM (scanning electron microscope)-aided appearance inspection apparatus is surely performable with the use of a review apparatus with high definition.例文帳に追加

ＳＥＭ式外観検査装置で検出した欠陥をレビュー装置で高分解能観察する作業を容易、且つ確実に行えるようにし、半導体試料の欠陥に対する原因究明等が容易に行える検査システムを提供する。 - 特許庁

In the inspection apparatus using an electron microscope which senses the defects present on the pattern of a sample based on the sensed signal of secondary charged particles generated by a scanning electron beam, there is provided such a function that the informations obtained by its ADC function are so fed back to its inspection function in the form of an inspection/non-inspection region as to improve its inspection and ADC performances.例文帳に追加

電子線を走査して発生する二次荷電粒子の検出信号に基づいて試料のパターン上の欠陥を検出する電子顕微鏡を用いた検査装置において、ＡＤＣ機能で得られた情報を検査／非検査領域という形で検査機能にフィードバックさせ、検査性能、ＡＤＣ性能の向上を図る機能を備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sample for cross-section observation by a scanning electron microscope that is appropriate to smooth cross-section formation of 10-100 μm order, does not require a skilled technique of a worker, has high processing position accuracy, and accurately forms a cross section at a desired specific position.例文帳に追加

１０μｍ〜１００μｍオーダーの平滑な断面形成に適し、作業者の熟練の技術を必要とせず、かつ加工位置精度に優れ、所望の特定位置に正確に断面を形成できる、走査電子顕微鏡による断面観察用サンプルの作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CDSEM (Scanning Electron Microscope) capable of highly accurately evaluating and presenting the length measurement reproducibility of the device without being affected by fluctuations of a fine shape, which tend to increase with the miniaturization of semiconductor patterns, and provide a reproducibility evaluation method as a device.例文帳に追加

半導体パターンの微細化に伴なって増加傾向にある微細形状揺らぎに影響されずに、装置の測長再現性能を高精度で評価して提示することができるＣＤＳＥＭ（走査型電子顕微鏡装置）及び装置としての再現性能評価方法を提供することにある。 - 特許庁

As a result, the operator of the scanning electron microscope can find out the occurrence of the abnormality of the device by the mail of the PC1, while the service center for the device can immediately find out the occurrence of the abnormality of the device, the type of the abnormality, the occurrence time of the abnormality and the like by the mail of the PC2.例文帳に追加

この結果、走査電子顕微鏡のオペレータは、ＰＣ１のメールによって装置の異常の発生を知ることができ、一方、装置のサービスサイトでは、ＰＣ２のメールによって装置の異常の発生、その異常の種類、異常の発生時刻等をただちに知ることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus difference control apparatus capable of reducing a measured dimension difference among a plurality of apparatuses by simply estimating generation factors of the apparatus difference to calibrate a scanning electron microscope apparatus based on the estimation result, and allowing further accurate dimension control of a wiring pattern.例文帳に追加

機差の発生要因を簡便に推定し、この推定結果を元に走査電子顕微鏡装置を較正することで、複数台の装置間における計測寸法差を低減させ、より高精度な配線パターンの寸法管理を可能とする機差管理装置を提供することにある。 - 特許庁

In this detector suitable for a scanning electron microscope or the like, which is a PIN photodiode having a thin layer of pure boron connected to the p^+-diffusion layer, the boron layer is connected to an electrode having an aluminum grid to form a path of low electrical resistance on each position between the boron layer and the electrode.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡等に適した検出器は、p^＋‐拡散層に接続された純ホウ素の薄い層をもつPINフォトダイオードで、そのホウ素層は、アルミニウム・グリッドをもつ電極に接続され、そのホウ素層と電極との間の各々の位置において低い電気抵抗の経路を形成する。 - 特許庁

To provide a size analysis program accurately determining parameters such as a correlation distance and variance required to evaluate the roughness of a pattern of a semiconductor device by using a size measurement apparatus such as a scanning electron microscope or the like, and a size measurement apparatus.例文帳に追加

本発明は、走査電子顕微鏡等の寸法測定装置を用いて、半導体デバイスのパターンのラフネスを評価する際に要する相関距離や分散といったようなパラメータを、正確に決定することが可能な寸法解析プログラム、寸法計測装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope device having a function to produce precisely and rapidly an imaging recipe having an equal or better performance than an imaging recipe produced manually by SEM operators based on their own unique know-how, and to provide an imaging method using the same.例文帳に追加

ＳＥＭオペレータが独自のノウハウに基づきマニュアルで生成した撮像レシピと同等あるいはそれ以上の性能をもつ撮像レシピを正確にかつ高速に生成する機能を備えた走査型電子顕微鏡装置ならびにそれを用いた撮像方法を提供する。 - 特許庁

On measuring length of the resist film having the above pattern formed thereon by using a CD-SEM (critical dimension scanning electron microscope), first an objective chip region 11a for length measurement is designated among a plurality of chip regions, and the position of the length measurement pattern 13a placed in the left side is identified.例文帳に追加

このようなパターンの形成が行われたレジスト膜に対して、ＣＤ−ＳＥＭを用いて測長を行う場合には、複数のチップ領域のうちから測長対象チップ領域１１ａを指定した後、その左方に位置する測長パターン１３ａの位置を特定する。 - 特許庁

To determine steps or unevenness formed on a sample by a simple technique or obtain three-dimensional information by using a charge particle beam device such as a scanning electron microscope, and particularly to provide a determination method or its device suitable for unevenness determination of a line and space pattern formed on a sample.例文帳に追加

走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。 - 特許庁

Filtration is made by using a polyvinylidene resin membrane formed by the integration of lamellas of ≥5 nm in the width of the membrane surface structure at a magnification 50000 times when either of the inside/outside surfaces of the membrane and the membrane section is observed by a scanning electron microscope and ≥2 in aspect ratio.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で膜の内／外表面および膜断面のいずれかを観察した時の、倍率５万倍での膜面構造が幅が５ｎｍ以上でアスペクト比が２以上であるラメラの集積により形成されている、ポリフッ化ビニリデン系樹脂膜を用いてろ過を行う。 - 特許庁

To provide: a method for highly precisely estimating a detection value of emitted electrons obtained by actual observation; a method for highly precisely simulating an SEM image obtained by actual observation; and a scanning electron microscope having an electronic optical system or the like set therein, so that a dummy SEM image is actually obtained.例文帳に追加

走査電子顕微鏡において、実観察で得られる放出電子の検出値を高精度に推定する方法、実観察で得られるＳＥＭ像を高精度にシミュレーションする方法と模擬ＳＥＭ像が実際に得られるように電子光学系等が設定される装置を提供する。 - 特許庁

The silver paste comprises rod-like silver powders, a resin component, and an organic solvent, and a powder particle of the rod-like silver powders is needle-like, and has an average diameter L of primary particles of not more than 10 μm as measured with a scanning electron microscope.例文帳に追加

ロッド状銀粉と樹脂成分と有機溶剤とからなる銀ペーストであって、前記ロッド状銀粉の粉粒は針状であり、走査型電子顕微鏡像から判断できる一次粒子の平均長径Ｌが１０μｍ以下であることを特徴とする銀ペースト等を採用する。 - 特許庁

Similarly in correcting a black defect, an etching source material in a liquid state is supplied from the probe of a scanning probe microscope onto only the black defect region by a similar method to Dip-Pen Nanolithography, and an ion beam or an electron beam is supplied to etch to correct the black defect.例文帳に追加

黒欠陥修正の場合も同様に、走査プローブ顕微鏡の探針から液体状のエッチング原料をＤｉｐ−Ｐｅｎ Ｎａｎｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙと同様な方法で黒欠陥領域上のみに供給し、イオンビームや電子ビームを供給してエッチングを行い黒欠陥を修正する。 - 特許庁

The X-ray detected by the method described above is discharged mostly from the region within the diffusion range of the incident electron in the observation sample support member, and if the diffusion range of the incident electron is controlled to about a few nm, the resolution of the scanning X-ray microscope can be not more than 10 nm which has been considered to be the theoretical limit by the conventional method.例文帳に追加

上述の手法で検知されるＸ線は、概ね、観察試料支持部材内での入射電子の拡散範囲内の領域から放出されることとなり、当該入射電子の拡散範囲を数ｎｍ程度に制御すれば、得られる走査型Ｘ線顕微鏡像の分解能は、従来の手法の理論的限界とされていた１０ｎｍ以下とすることが可能となる。 - 特許庁

The aluminum alloy sheet is subjected to cold rolling at a working ratio of 30 to 60%, the average crystal grain size obtained by a cutting method is ≤30 μm, and the area occupancy ratio of intermetallic compounds on the surface obtained by the image analysis of an observed picture in a scanning type electron microscope is 1.0 to 5.0%.例文帳に追加

このアルミニウム合金板は、加工率が３０乃至６０％の冷間圧延が施され、切断法により求めた平均結晶粒径が３０μｍ以下であり、走査型電子顕微鏡の観察画面像の画像解析により求めた表面における金属間化合物の面積占有率が１．０乃至５．０％である。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, which is suitable for mass- production management and has high reliability and stable yield by improving dense distribution of holes and controllability to a hole diameter and by realizing easy inspection process for a buried plug height, using a scanning electron microscope as for the height of the buried plug in formation of a wiring contact part of a dual-damascene wiring.例文帳に追加

デュアルダマシン配線の配線コンタクト部の形成における埋め込みプラグの高さについて、ホールの疎密分布およびホール径に対する制御性を改善し、走査型電子顕微鏡を用いた埋め込みプラグ高さの検査工程を容易にし、量産管理に適した信頼性の高い歩留の安定した半導体装置を得る。 - 特許庁

To provide an inspection system with a scanning electron microscope for performing an inspection for the purpose of detecting a defect on a substrate with a circuit pattern of a semiconductor device, a liquid crystal, or the like formed thereon which allows the easy identification of a minute defect and a pseudo one which have been hard to identify, and an inspection method thereof.例文帳に追加

半導体装置や液晶などの回路パターンが形成された基板上の欠陥を検出する目的で検査を行う走査電子顕微鏡を搭載した検査装置において、困難となっている微細欠陥と擬似の識別を容易に実施できる検査装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

From the observation of the structure under a scanning electron microscope, a target material for deposition of an optical recording medium protective layer has a structure which consists of, in the ratio to the whole, 4-20 mass % SiO2 constituting a network continuous phase and the balance essentially ZnS distributed as a disperse phase filling the meshes of the continuous phase.例文帳に追加

光記録媒体保護層形成用ターゲット材が、走査型電子顕微鏡による組織観察で、全体に占める割合で４〜２０質量％のＳｉＯ_2が網目状連続相を構成し、残りが実質的に前記連続相の網目を埋めた分散相として分布するＺｎＳからなる組織を有する。 - 特許庁

The convex part is defined as the part protruding from outside of a polygon formed by connecting local minimum points to the inside direction of the fiber on a photograph of the cross section of the cellulose acetate fiber taken in a scanning electron microscope of 3000 magnification.例文帳に追加

本発明でいう凸部とは、対象となるセルロースアセテート繊維の繊維軸に垂直方向の断面を、走査型電子顕微鏡を用いて３０００倍の倍率で写真撮影し、繊維の内部方向に対して極小点となる部分を結んでできる多角形の外側に突出している部分を凸部とする。 - 特許庁

A plurality of point probes having sharp tips 1, 2, 3 and 4 access sample electrodes 5, 6, 7 and 8 respectively until contact currents saturate and contact with them securely, while observing through a scanning electron microscope, by the control of a point probe moving control circuit 18 by using point probe moving mechanisms 14, 15, 16 and 17.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路１８による制御で、探針移動機構１４、１５、１６、１７により、鋭利な先端を有する複数の探針１、２、３、４を、それぞれ試料電極５、６、７、８に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接触させる。 - 特許庁

In the piezoelectric power generating element, a pair of electrodes is arranged on a piezoelectric ceramics layer formed of a ceramics in a range of average grain size of 0.01-0.1 μm by observation using a scanning electron microscope, and the piezoelectric ceramics layer subjected to polarization processing is applied with an external force different from the polarization direction, thereby generating electric potentials.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡観察により平均粒径０．０１μｍ以上、０．１μｍ以下の範囲のセラミックスで形成されている圧電セラミックス層に対電極を配置し、分極処理した圧電セラミックス素子に、分極方向と異なる外力を与え電荷を発生することを特徴とする圧電発電素子。 - 特許庁

While observing with a scanning electron microscope, a plurality of probes 1, 2, 3 and 4 each having a sharp tip are made to approach sample electrodes 5, 6, 7 and 8, respectively, and made to come into contact with them completely until a contact current saturates by the use of probe moving mechanisms 14, 15, 16 and 17 under the control of a probe movement control circuit 18.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡で観察しながら、探針移動制御回路１８による制御で、探針移動機構１４、１５、１６、１７により、鋭利な先端を有する複数の探針１、２、３、４を、それぞれ試料電極５、６、７、８に接触電流が飽和するまで接近させ、確実に接触させる。 - 特許庁

This scanning electron microscope is provided with the function of computing corrected precision after coordinates compensation to be displayed by using a vector 39, the function of automatically determining scale factor during search in automatic detection of foreign materials/defects after coordinates compensation from acquired information, and the function of computing appearance ratio of foreign materials/defects and time required from search scale factor and measuring conditions.例文帳に追加

座標補正後の補正精度を算出し、ベクトル３９を用いて表示する機能、得られた情報から座標補正後異物／欠陥を自動検出する際の探索時の倍率を自動で決定する機能、また探索倍率と測定条件から異物／欠陥の出現率とかかる時間を算出する機能を設けた。 - 特許庁

The conductive electroless plating powder in which a nickel film is formed by an electroless plating method on the surface of the core member powder is characterized in that grain boundaries are not admitted at the section in the thickness direction of the nickel film when the section is observed by a scanning electron microscope at magnifying power up to 100,000 times.例文帳に追加

本発明の芯材粉体の表面に無電解めっき法によってニッケル皮膜を形成した導電性無電解めっき粉体は、前記ニッケル皮膜の厚さ方向断面を、走査型電子顕微鏡によって１０００００倍迄の拡大倍率で観察したときに、該断面に結晶粒界が認められないことを特徴とする。 - 特許庁

The device comprises a sample chamber which enables atmosphere control, a sample holder 14 which introduces a volatile substance containing sample in the sample chamber, a scanning electron microscope for observing this sample held, a manipulator which samples the sample held in the sample holder 14, and a sample holder 15 for taking out the sample sampled to the outside of the sample chamber 2.例文帳に追加

雰囲気制御が可能な試料チャンバー２、試料チャンバー内に揮発性物質含有試料を導入する試料ホルダー１４、この保持された試料を観察するための走査電子顕微鏡、試料ホルダー１４に保持された試料をサンプリングするマニピュレータ、サンプリングされた試料を試料チャンバー２の外部に取り出すための試料ホルダー１５を具備する。 - 特許庁

The polishing jig for physical analysis 1 comprises at least an observing block 2 having a sample attaching surface 5a to which the sample 11 is attached and insertable to an in-lens type scanning electron microscope (SEM), a sample mount 3 having a stepped guide part 6 by which the observing block 2 is positioned, and a sample mount holder 4 to which the sample mount 3 is attached.例文帳に追加

試料１１が貼付される試料貼付面５ａを有し、インレンズ方式の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）に挿入可能な観察用ブロック２と、観察用ブロック２が位置決めされる段差ガイド部６を有する試料マウント３と、試料マウント３が固定される試料マウントホルダ４とを少なくとも備える物理解析用研磨冶具１である。 - 特許庁

A polishing composition comprises water sol containing zirconium oxide particles having a specific surface area value of 10 to 400 m^2/g, a particle diameter in the range of 3 to 110 nm converted from it, and the mean value of a primary particle diameter by scanning electron microscope observation in the range of 5 to 150 nm; and is used for polishing a silicon oxide film in manufacturing semiconductor devices.例文帳に追加

１０〜４００ｍ^２／ｇの比表面積値とそれから換算される３〜１１０ｎｍの範囲の粒子径を有し、走査型電子顕微鏡観察による一次粒子径の平均値が５〜１５０ｎｍの範囲にある酸化ジルコニウム粒子を含有する水性ゾルを含み、半導体装置製造時の酸化珪素膜の研磨に使用される研磨用組成物。 - 特許庁

The resin composition foam having foam cells whose average cell diameter measured with a scanning electron microscope (SEM) is 100-3,000 nm is obtained by melt-mixing and foaming a mixture comprising an olefinic rubber (A) containing a functional group, a compound (B) having a group reactive with the functional group contained in the olefinic rubber (A), and a thermoplastic resin (C).例文帳に追加

官能基を含有するオレフィン系ゴム（Ａ）、該オレフィン系ゴム（Ａ）に含まれる官能基と反応しうる基を有する化合物（Ｂ）、および熱可塑性樹脂（Ｃ）を含む混合物を、溶融混合および発泡することにより得られる、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で測定した平均セル径１００〜３０００ｎｍの発泡セルを有する樹脂組成物発泡体。 - 特許庁

The scanning electron microscope includes: a pattern existence determining part 1012 that determines the existence of a pattern with respect to an individual frame image and sub-frame image constituting a synthesis image for inspection/length-measurement; a magnification correction part 1014; a distortion correction part 1018; an image synthesis part 1015; and a storage unit 1111 that compresses and stores those images therein in a video form.例文帳に追加

走査電子顕微鏡において、パターンの検査・測長のための合成画像を構成する個々のフレーム画像やサブフレーム画像に対してパターンの有無を判定するパターン有無判定部１０１２や倍率補正部１０１４、歪曲補正部１０１８、画像合成部１０１５及びそれら画像を動画形式で圧縮保存する記憶部１１１１を備える。 - 特許庁