「current process」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for determining whether a patient having a disease treated through imatinib administration such as CML (Current Model Logic) is sensitive to imatinib, i.e. to predict whether the administration of the patient with the imatinib is effective for treating the disease.例文帳に追加

イマニチブの投与により治療を行うＣＭＬのような疾病にある患者が罹患している場合に、当該患者がイマニチブに対して感受性を有するか否かを判定する、すなわち、当該患者に対してイマニチブを投与することがその疾病の治療に有効か否かを予測する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a flash memory element in which a semiconductor substrate in the boundary of a cell region and a peripheral circuit region can be protected from an etching step for forming first and second trenches and a leak current generated due to damage on the semiconductor substrate can be prevented from increasing, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

セル領域と周辺回路領域との境界部の半導体基板を第１トレンチおよび第２トレンチの形成のためのエッチング工程から保護することができ、半導体基板の損傷で発生する漏れ電流の増加を防止することができる、フラッシュメモリ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a digital display signal processing circuit dissolving such weak points as increasing the current consumption due to use of a signal source clock from a PLL circuit, increasing the cost because of requiring the adjustment process of the PLL circuit, and not being able to correctly sample an inputted digital display signal.例文帳に追加

ＰＬＬ回路からの信号源クロックを用いるため消費電流が増大し、またＰＬＬ回路の調整工程が必要となるためコストがかかり、更に入力されるデジタル表示信号を正しくサンプリングすることができないという欠点を解消したデジタル表示信号回路を提供する。 - 特許庁

Whether the examination claim of each application is required or not is investigated by simply using data (current data of the extraction date) in the DB 102a and the investigated result of the application and errors detected/corrected in the investigation process are also simply stored in the DB 102a.例文帳に追加

そして、以後はもっぱら審査請求ＤＢ１０２ａ内のデータ（上記抽出日現在のデータ）を使用して、個々の出願につき審査請求を要するか否かが検討され、その検討結果および検討の過程で発見・修正されたエラーももっぱら審査請求ＤＢ１０２ａに蓄積される。 - 特許庁

Then, when a secondary transfer process is carried out, a bias of the same polarity as that of toner is applied to the intermediate transfer body 8 by the first power source section 61 so that a current is constant, and a bias of the reverse polarity as that of toner is applied to the secondary transfer member 19 by the secondary power source section 62 so that a voltage is constant.例文帳に追加

そして、２次転写工程がおこなわれるときに、第１電源部６１によって電流が一定になるように中間転写体８にトナーと同極性のバイアスを印加するとともに、第２電源部６２によって電圧が一定になるように２次転写部材１９にトナーと逆極性のバイアスを印加する。 - 特許庁

To solve the problem in which when a plurality of semiconductor devices are manufactured utilizing a laminate structure including a p-type group III nitride semiconductor layer, subjected to etching and other process and divided into individual semiconductor devices, a leak current flows along a surface of the p-type group III nitride semiconductor layer exposed on a side surface of the individual semiconductor devices.例文帳に追加

ｐ型のIII族窒化物半導体層を含む積層構造を利用して複数個の半導体装置を製造し、エッチング等して個々の半導体装置に分割すると、個々の半導体装置の側面に露出するｐ型のIII族窒化物半導体層の表面に沿ってリ−ク電流が流れてしまう。 - 特許庁

This method can facilitate the recognition of the current value and the target value set by the user in the process of control and facilitate the confirmation of the status of the controlled object to eliminate the risk of unnecessarily confusing the user and explicitly show the completion of control.例文帳に追加

従ってこの方法において、例えば制御の途中の現在値や使用者が設定した目標値を容易に確認することができ、また制御対象の状況の把握も容易になり、使用者に無用な混乱を与える恐れが解消されると共に、制御の完了なども明示することができる。 - 特許庁

A belt type conductive material of the specified width having the predetermined cross-section area determined from a current density is cut in the predetermined size, while forming a bus connecting part 11a and a branching circuit breaker 11b in order to form the primary part 11, and an escaping part is formed to the body 11c of the primary part 11 through the squeezing process.例文帳に追加

電流密度から決まる所定断面積を有する所定幅の帯状導電材を、母線接続部１１ａと分岐ブレーカ部１１ｂとを形成しながら所定寸法に切断して一次部品１１を形成し、一次部品１１の胴部１１ｃに絞り加工による逃げ部を形成する。 - 特許庁

When a judgment is made that a restart condition is met, a forced brake pressure process of supplying current to a brake actuator 48 is started to raise a brake hydraulic pressure, and the step of restarting the engine 10 is prohibited until a judgement is made that a brake hydraulic pressure detected by a hydraulic pressure sensor 50 becomes equal to or higher than a specified hydraulic pressure.例文帳に追加

再始動条件が成立したと判断された場合、ブレーキ油圧を上昇させるべくブレーキアクチュエータ４８を通電操作するブレーキ強制加圧処理を開始し、油圧センサ５０によって検出されるブレーキ油圧が規定圧以上になると判断されるまでエンジン１０の再始動処理を禁止する。 - 特許庁

From a time T_15 the output voltage of the fuel cell is raised to a predetermined level and on, the output current Ifc of the fuel cell is gradually increased from zero to Ih_12 (>Ih_11) and thereafter a process for gradually decreasing it to zero again is repeatedly executed until the output voltage of the fuel cell is raised to a predetermined aging termination level.例文帳に追加

そして、燃料電池の出力電圧が所定レベルまで上昇したｔ_15以降は、燃料電池の出力電流Ｉfcを、０からＩh_12（＞Ｉh_11）まで漸増させた後、再び０まで漸減させる工程を、燃料電池の出力電圧が所定のエージング終了レベルまで上昇するまで繰り返し実行する。 - 特許庁

The process control means 18 current carrying-controls the respective steps of washing, rinsing and dry spinning, detects a mounted state of a coin housing box for housing thrown-in coins by a locking detecting means 21 for detecting the locking of a key disposed in the coin-housing box and determines a normal locked state.例文帳に追加

行程制御手段１８は、洗濯、すすぎ、脱水の各行程を通電制御するとともに、投入コインを収納するコイン収納箱の装着状態をコイン収納箱に配設した鍵の施錠を検知する施錠検知手段２１で検知し、正常な施錠状態かどうかを判断するよう構成する。 - 特許庁

Removal of moisture, which is problematic when the coin-shaped battery having a high load current characteristic is formed of a group of wound electrode plates, is accomplished by a vacuum drying process and the coin-shaped battery of high reliability can be formed by such manufacturing method as prevents dust generated during lead welding from being scattered into the case.例文帳に追加

又、巻回構造の極板群によって高負荷電流特性を得るコイン形電池を構成するときの課題である水分の除去を真空乾燥処理により解決し、リード溶接時に発生するチリをケース内部に飛散させない製造方法により信頼性の高いコイン形電池を構成することができる。 - 特許庁

After a voltage stress or a current stress is applied to an MIS transistor formed in the scribe region of a semiconductor wafer for forming a product, the S factor, threshold voltage or transconductance characteristics of the transistor is measured, and the results are compared with specified management values, thus managing the fabrication process.例文帳に追加

製品が形成される半導体ウエハのスクライブ領域にＭＩＳトランジスタを形成し、電圧ストレス又は電流ストレスを付加した後に、トランジスタのＳ因子、闘値電圧又は相互コンダクタンス特性を測定し、その測定結果と所定の管理値を比較・判定することで製造工程の管理を行う。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging device reducing dark current due to an interface state without forming a hole storing layer made of an impurity diffused layer which needs a heating process at high temperature and allowing sensor placement in a shallow part of a semiconductor substrate so as to improve charge transfer efficiency.例文帳に追加

高温での熱処理プロセスを必要とする不純物拡散層からなるホール蓄積層を設けることなく界面準位に起因した暗電流を低減することが可能で、これにより半導体基板の浅い位置にセンサを設けて電荷転送効率の向上が図られた固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

In the sputtering method in an oxidation mode for depositing an optical multilayer film on a substrate face within a vacuum tank, the total pressure in the vacuum tank is controlled in the process of depositing the optical multilayer film, thus at least either the sputtering voltage or sputtering current is held to prescribed value or prescribed width.例文帳に追加

真空槽内で基板面上に光学多層膜の成膜をする為の酸化モードでのスパッタ方法であって、前記光学多層膜の成膜中に前記真空槽内の全圧を調節することによってスパッタ電圧又はスパッタ電流の少なくとも一方を所定値又は所定幅に保つスパッタ方法。 - 特許庁

The process in which n point records from each grouping is serially selected in ascending order of the distance from the current position according to the predefined order of the grouping and in which it is appended to the last part of a point record list is recurrently performed until the point record not registered to the point record list does not remain.例文帳に追加

また、予め定めておいた分類の順番に従って、各分類からｎ個ずつ順番に地点レコードを現在位置からの距離が近い順に順次選択し、地点レコードリストの最後尾に追加していく処理を、地点レコードリストに登録されていない地点レコードがなくなるまで循環的に行う。 - 特許庁

In a VAR process, since a material is molten from the tip of the consuming electrode, a DC current is excited between the electrode and the bottom of the crucible, and charging in a furnace chamber is effected on a cooling crucible having texture-processing wall, to form a container to collect a molten substance from the consuming electrode.例文帳に追加

ＶＡＲプロセスにおいて、消耗電極の先端から材料の溶解を生じるために電極とルツボの底部との間で直流電流を励起し、消耗電極からの溶解物を収集するための容器を形成するテクスチャ加工した壁を備える冷却ルツボの上で炉室に装填される。 - 特許庁

To provide a voltage nonlinear resistor which has better nonlinear characteristics, a larger rated discharge withstand current and improved fluctuation of the characteristics and yield, while the voltage nonlinear resistor used as a lightning arresting element for protecting an electric device from an abnormal high voltage is manufactured via a process for firing the resistor in a firing furnace.例文帳に追加

電気機器を異常高電圧から保護する避雷器の特性要素として用いられる電圧非直線抵抗体は焼成炉内で燒結される工程を経て製造されるが、更に良好な非直線特性、大きな放電耐量を有し、製品のバラツキ、歩留まりを改善した電圧非直線抵抗体が望まれている。 - 特許庁

An automated console device 37 constituted of hardware is converted into an automated console picture 26 constituted of software, and a logical arithmetic operation is performed by an automatic operation logical table 2 from the process quantity of a plant, and the automated console picture 26 is displayed at a display means 12 on which the current operating situation obtained as the result of the logical arithmetic operation is reflected.例文帳に追加

ハードウェアで構成されていた自動化コンソール装置３７をソフトウェア化した自動化コンソール画面２６とし、プラントのプロセス量から自動運転論理テーブル２にて論理演算を行い、その結果得られる現在の運転状態を反映した形で自動化コンソール画面２６を表示手段１２に表示する。 - 特許庁

Since positive holes generated in a manufacturing process are dispersed and captured on two interfaces of the three-layer light transparent film, electric field strength in the vicinity of a surface of the p-type semiconductor layer 102 is made smaller than the conventional case, generation of inversion of conductivity type is made little, and the leakage current between the light receiving part can be reduced.例文帳に追加

この３層の光透過性膜の２つの界面に、製造工程で生じた正孔が分散して捕獲されるので、Ｐ型半導体層１０２の表面付近における電界強度が従来より小さくなり、導電型の反転が少なくなって、受光部間のリーク電流が少なくできる。 - 特許庁

To provide a simple inexpensive oscillator of an integrated circuit, and its method, which has frequency stability improved over a selected frequency range, by reducing an influence of process changes and temperature changes on a base current of a bipolar transistor of an oscillator of an integrated circuit.例文帳に追加

集積回路発振器のバイポーラ・トランジスタのベース電流に対するプロセス変化と温度変化の影響を低減させることによって、選択された周波数の範囲にわたって改善された周波数安定度を有する簡単で低コストの集積回路発振器を提供する方法と装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron emitting electrode having a sharp projection and suitable for a purpose requiring large emission current such as an X-ray generating device by a simple manufacturing method which does not require etching in the separation process from a die, or does not require bonding of a support substrate for reinforcement to the electrode produced or the like.例文帳に追加

鋭利な突起を有し、Ｘ線発生装置などエミッション電流の多い用途に適した電子放出電極を、型からの剥離工程でエッチングを必要としない、作製した電極に補強のための支持基板を接着する必要がない等、簡単な製造方法で提供できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a capacitor which minimizes the generation of such as polymer or conductive residue in a manufacturing process of an MIM (Metal-Insulator-Metal) capacitor, whereby, prevents a short circuit between an upper electrode and lower electrode or with neighboring conductive layers (wiring), and can improve the leakage of current and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＭＩＭキャパシタの製造工程時においてポリマーや導電性残留物の発生を最小化し、これにより、上部電極と下部電極との間または隣り合う導電層（配線）との短絡を防止し、リーク電流を改善させることができるキャパシタ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Bias voltage in the case that alternating current value flowing to the latent image carrier 10 and an charging member 11 is detected to be not less than the necessary minimum and the smallest value is determined as a charging bias alternating voltage at image formation, when a plurality of alternating peak to peak voltage is switched and applied immediately after mounting a process cartridge C.例文帳に追加

プロセスカートリッジＣの装着直後に複数の交流ピーク間電圧を切り替えて印加し、そのときに潜像担持体１０と帯電部材１１に流れる交流電流値が必要最小以上かつ最も小さい値を検知したバイアス電圧を画像形成時の帯電バイアス交流電圧に決定する。 - 特許庁

Oxide films 2 and 3 for a process monitor are provided on the surface of a wafer consisting of a semiconductor substrate 1 and a polysilicon film 5 is provided on the films 2 and 3, whereby a monitoring pattern 10 is formed and a voltage and/or a current is applied between the substrate 1 and the film 5 to evaluate the film quality of the films 2 and 3.例文帳に追加

半導体基板１からなるウェハの表面にプロセスモニター用の酸化膜２、３を設け、その上にポリシリコン膜５を設けることによりモニター用パターン１０を形成し、半導体基板１とポリシリコン膜５との間に電圧および／または電流を印加して前記酸化膜２、３の膜質を評価する。 - 特許庁

Relating to a high-voltage integrated circuit(HVIC) chip where a resistor 32 is connected between a substrate of the chip and a ground, the resistor 32 limits the current flowing a diode 31 when the specific diode 31 of the chip is made conductive by a negative transient phenomenon at the output node, for significantly improved process for negative voltage spike.例文帳に追加

チップの基板と接地の間に抵抗器３２が接続された高電圧集積回路（ＨＶＩＣ）チップで、抵抗器３２は、出力ノードでの負の過渡現象によってチップの固有ダイオード３１が導通したときに、このダイオード３１を流れる電流を制限することによって、負電圧スパイクの処理が大幅に改善される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electron emitting element that is capable of stabilizing the electron emission characteristics of the electron emitting element by reducing the preparatory drive current If-pre flowing in the electron emitting element at the time of carrying out the preparatory drive process for stabilizing the electron emission characteristics, and a manufacturing method of an electron source.例文帳に追加

電子放出特性を安定させるための予備駆動工程を行う際の電子放出素子に流れる予備駆動電流Ｉｆ−ｐｒｅを低減して電子放出素子の電子放出特性を安定させることが可能な電子放出素子の製造方法及び電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

To disclose a technique of forming a domed gate oxide film to relieve stress, which results from different thermal expansive rates between an oxide film and silicon during a subsequent thermal process and preventing a leakage current between source/drain regions by controlling the thickness of the gate oxide film to improve the refresh characteristics.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、半球形のゲート酸化膜を形成して後続の熱工程時に酸化膜とシリコンの熱膨張率の差によるストレスを緩和させ、ゲート酸化膜の高さ調節を介しソース/ドレイン領域間の漏れ電流を防止し、リフレッシュ特性を向上させる技術を開示する。 - 特許庁

A transmitter BIAS 323 and a receiver BIAS 324 carry out a power source variation suppression process for suppressing time variation of a power source current of the transmitter 300 or the receiver 310 at least in any of cases of starting a transmission operation, stopping the transmission operation, starting a reception operation, and stopping the reception operation.例文帳に追加

受信器ＢＩＡＳ３２３、及び受信器ＢＩＡＳ３２４は送信動作を開始する際、送信動作を停止する際、受信動作を開始する際、受信動作を停止する際の少なくともいずれかにおいて、送信器３００または受信器３１０の電源電流の時間変化を抑制する電源変化抑制処理を行う。 - 特許庁

In a second process, the part 10 is pressed at a constant pressure and the part 10 is precisely pressed with the objective pressing force when an output voltage of a load cell 7 reaches an objective voltage, by controlling a drive current value to drive the servomotor 3 so as to keep the objective voltage until a prescribed time elapses.例文帳に追加

そして、第２加圧工程では、ロードセル７の出力電圧が目標電圧に到達したら、所定時間が経過するまでこの目標電圧を維持するようにサーボモータ３を駆動する駆動電流値を制御することで、部品１０が定圧加工されて、目標加圧力で精度良く、部品１０を加圧加工できるようになる。 - 特許庁

To provide a battery electrode plate that is capable of performing three-dimensional current collection although thinly made and that has an excellent performance such as that it does not generate expansion at the rolling process or internal short-circuiting, while having a structure of low cost and high mass producibility, and a manufacturing method of producing the battery electrode plate.例文帳に追加

薄型化しながらも三次元的集電が可能であり、圧延時の伸長や内部ショートが生じないなどの優れた性能を有しながらも、安価で且つ高い量産性で生産できる構成を備えた電池用電極板およびその電池用電極板を好適に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

An electrode material is applied on a metal current collector web or a carbon (glass) fiber fabric web and then treated by immersing, high-temperature drying, and compaction steps so that various battery electrochemical cell components (for example, cathode, anode, and separator) are manufactured for being used in a succeeding process of manufacturing the battery.例文帳に追加

電極材料を金属製の電流コレクタウエブ又はカーボン製（又はグラス製）のファイバーファブリックウエブ上に塗布し、その後、浸漬、高温乾燥及び圧密化ステップを行うことにより、電池製造の後続の工程で使用するための種々の電池用電気化学セルコンポーネント（例えば、カソード、アノード、及びセパレータ）を作る。 - 特許庁

In a first process, when descending a pressing fixture 5, excessive pressing force is not applied to the part 10 and impact applied to the part 10 is eliminated by controlling a drive current to drive a servomotor 3 so that the pressing fixture is descended in a high speed immediately before a part 10 is pressed.例文帳に追加

第１加圧工程では、加圧具５を下降させる際に、部品１０を加圧加工する寸前まで加圧具５が高速で加工するようにサーボモータ３を駆動する駆動電流値を制御することで、部品１０に過大な加圧力が加わることが無く、部品１０に加わる衝撃を無くすことができるようになる。 - 特許庁

The microcomputer 1 has multi-chip configuration in which a chip 2 which is operated by supply of power during the period of time that a sleep mode is set, and a chip 3 which stops operation by interruption of power are manufactured by different manufacturing processes, and the chip 2 is manufactured by a manufacturing process allowing the amount of leak current to be reduced more than the chip 3.例文帳に追加

マイコン１を、スリープモードが設定されている期間に電源が供給されて動作するチップ２と、電源が遮断されて動作を停止するチップ３とを、夫々異なる製造プロセスによりチップ化してマルチチップ構成とし、チップ２は、チップ３よりもリーク電流量を低減可能な製造プロセスで作成する。 - 特許庁

A process variation generated when a built-in resistor is used can be controlled by having a variable resistance circuit 4 built-in, an influence by a parasitic capacity of an external resistor terminal is prevented by having it built-in, and a voltage-current conversion circuit capable of preventing the influence of a PLL loop band and responding in a high frequency band can be provided.例文帳に追加

可変抵抗回路４を内蔵することで抵抗を内蔵した場合のプロセスばらつきを制御でき、かつ内蔵することで、外付抵抗端子の寄生容量の影響を受けずに済み、ＰＬＬループ帯域の影響を受けない高帯域で応答可能な電圧電流変換回路が実現できる。 - 特許庁

The method comprises the following process: putting fresh vegetables in an inner enclosed region of a freezer where a plurality of static magnetic field generators and electromagnetic coil structures generating a variable magnetic field by turning an alternating current are arranged; and rapidly cooling the vegetables down to a predetermined temperature under the effect of the static magnetic field and the variable magnetic field followed by instantaneously freezing the vegetables at the temperature.例文帳に追加

生野菜を、静磁場発生手段および交流を通電して変動磁場を発生する電磁コイル構造体を複数個設置した冷凍庫の内部閉空間に収容して静磁場および変動磁場の作用下で所定の温度まで急速冷却したのち、その温度で瞬時に冷凍する。 - 特許庁

Regarding the production of the surface-treated copper foil, e.g., a process where one side of copper foil is subjected to roughening treatment, the roughening-treated surface is subjected to electrolysis at a current density of ≥2 A/dm^2 using a brown cobalt plating liquid comprising cobalt sulfate (heptahydrate) to form rust prevention-treated layers, and water washing and drying are performed is adopted.例文帳に追加

また、当該表面処理銅箔の製造は、銅箔の片面に粗化処理を施し、当該粗化処理上に、硫酸コバルト（７水和物）を含む茶褐色コバルトメッキ液を用いて、２Ａ／ｄｍ^２以上の電流密度で電解し、防錆処理層を形成し、水洗し、乾燥する手法等を採用する。 - 特許庁

The method is a method for washing a toner transfer line for removing toner deposits in the toner transfer piping of a toner manufacturing process having at least a blower and a dust collector by inserting a washing tool which has a deformable shape and is stretchably connected into the piping in the state of generating an air current in the piping and moving the tool.例文帳に追加

少なくともブロワ、集塵機を有するトナー製造工程のトナー移送配管において、配管内に気流を発生させた状態で変形可能な形状を有し延伸可能に接続された洗浄治具を挿入、移動させることにより、配管内トナー付着物を除去するトナー移送ラインの洗浄方法である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which achieves a reduction in the parasitic resistance of transistors by adopting a silicide layer in active regions of the transistors, when the transistors are formed by using a substrate of which the semiconductor layer is thin as in an FD-SOI, while avoiding an increase in a leakage current by a relatively simple process.例文帳に追加

ＦＤ−ＳＯＩの如き半導体層の厚みが薄い基板を使用してトランジスタを形成する際に、比較的簡便なプロセスでリーク電流の増加を回避しつつ、トランジスタの活性領域にシリサイド層を導入してトランジスタ寄生抵抗の低減を実現し得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A series of operations in charge of manufacturing system administration is organized as the current business process; the business operations are subdivided into activity units, and the measurements of an operator's working hours and the number of operations are multiplied by a standard hourly unit cost of the operator, with the results totalized to calculate the costs of activities per activity unit.例文帳に追加

製造システム運営を担う一連の作業を現状のビジネスプロセスとして整理し、そのビジネスを活動単位に細かく分類し、実際に作業者の作業時間、作業回数を測定した値に作業者の標準時間単価を掛け合わせ、集計することで活動単位あたりの活動コストを算出する。 - 特許庁

The process cartridge 2 having at least a photoreceptor 3 and attachable to or detachable from the image forming apparatus 1 includes: a first electric contact 202 that supplies a current and/or a signal to the image forming apparatus 1; and a cleaning member 203 for cleaning a second electric contact 102 provided to the image forming apparatus 1.例文帳に追加

少なくとも感光体３を備えていて、画像形成装置１の着脱可能なプロセスカートリッジ２において、画像形成装置１に電流及び／又は信号を供給する第１電気接点２０２と、画像形成装置１が備える第２電気接点１０２を清掃する清掃部材２０３とを備える。 - 特許庁

To eliminate the need for a complicated process even when general harmony analysis(GHA) is used and to generate no discontinuous waveform at a joint between observation sections by providing a cross-fader, etc., which fades out the signal of a last frame and fades in the signal of the current frame.例文帳に追加

符号化部の周波数分析手段としてＧＨＡを用いた伝送方式では、観測区間の継ぎ目における不連続波形が復号時に生じることがあるため、符号化部において、複雑な処理をしたり、観測区間を符号化時に重複させる必要があり、また、観測区間の継ぎ目における不連続波形が生じ易い。 - 特許庁

When the analysis of business improving operational standards is performed in the manufacturing industry or the like, series of operations which takes on manufacturing system operation are organized as a current business process, the business is categorized in fine detail, and how long a worker actually takes time for each activity and how many times they are carried out are measured.例文帳に追加

製造業等において業務改善型活動基準分析をする際に、製造システム運営を担う一連の作業を現状のビジネスプロセスとして整理し、そのビジネスを活動単位に細かく分類し、活動単位に実際作業者がどれくらい時間をかけているか、何回実施しているかを測定する。 - 特許庁

In another case, at the time of manufacturing the electrode for the non-aqueous electrolyte battery, an active material slurry containing an active material and a solid state filler is prepared and the active material slurry is applied to a surface of a current collector to form a film coating, and a process for making the solid state filler in the film coating liquid or gaseous is carried out.例文帳に追加

あるいは、非水電解質電池用電極を作製する際に、活物質と、固体状フィラーと、を含む活物質スラリーを調製し、この活物質スラリーを集電体の表面に塗布することにより、塗膜を形成し、さらに、塗膜中の前記固体状フィラーを液体状または気体状とする工程を行う。 - 特許庁

Furthermore, the IFRS and its standards-setting process have been discussed extensively at various international fora such as the Financial Stability Forum to address the current financial crisis. 例文帳に追加

また、昨今の金融危機に対する会計基準の取組みに関し、ＩＦＲＳの内容及び基準設定プロセスについて金融安定化フォーラムなど各種の場において様々な議論が行われているところであり、今後、ＩＦＲＳの基準内容やプロセスに対し我が国からの一層の積極的な意見発信や貢献が必要である。 - 金融庁