「surface profile」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

The profile of a cross section along the vertical plane, containing the optical axis Ax, of a reflection surface 26a of the second reflector 26 is formed of a hyperbola H on a second focus side of a pair of hyperbolas, in which a first focus is the rear side focus F of the projection lens 12, and a second focus is a center A of light emission of the second light emitting element 24.例文帳に追加

その際、第２リフレクタ２６の反射面２６ａの、光軸Ａｘを含む鉛直面に沿った断面形状を、投影レンズ１２の後側焦点Ｆを第１焦点とし第２発光素子２４の発光中心Ａを第２焦点とする１対の双曲線における第２焦点側の双曲線Ｈで形成する。 - 特許庁

In the blade structure wherein a fillet round part 9 increasing strength is provided on the hub 8 of the blade profile 3, regarding a nozzle passage of a hub cross section formed between the adjacent blade profiles 3, 3, the fluctuation of a nozzle passage width by the fillet round part 9 is made to be a desirable value by vertically adjusting a shape of an upper surface 21 of a platform 20.例文帳に追加

翼型部３のハブ８に強度を増すフィレットＲ部９が設けられている翼構造において、隣接する翼型部３，３の間に形成されるハブ断面のノズルパッセージが、フィレットＲ部９によるノズルパッセージ幅の変動分をプラットホーム部２０の上面２１の形状を上下に調整して所望の値とされる。 - 特許庁

In addition, in the manufacture method of this invention, a crystallized glass body of a desired profile is made in contact with a molten salt adjusted near the strain point temperature of the crystallized glass, and an alkali metal ion of R_2O in a glassy phase of the side of the free surface 1a is substituted by an alkali metal ion having a larger ionic radius than it to form the compressive stress lamina 2.例文帳に追加

また、本発明の製造方法は、結晶化ガラスの歪点温度付近に調整した溶融塩に、所望の形状の結晶化ガラス体を接触させ、自由表面１ａ側のガラス相中のＲ_2Ｏのアルカリ金属イオンをそれよりもイオン半径が大きいアルカリ金属イオンと置換し、圧縮応力層２を形成する。 - 特許庁

To provide a light-emitting element, in which transparent semiconductors functioning as current diffusing layers can be formed efficiently on both main surface sides of an AlGaInP light-emitting layer section and the variation of the serial resistance, in which the forward current of the element hardly occurs, and which can suppress the deterioration of the light-emitting layer section caused by the thermal diffusion of a dopant profile.例文帳に追加

ＡｌＧａＩｎＰ発光層部の両主表面側に電流拡散層として機能する透明半導体を効率よく形成でき、また、発光層部のドーパントプロファイルの熱拡散による劣化も抑制でき、さらに、素子の直列抵抗ひいては順方向電流のばらつきも生じにくい発光素子を提供する。 - 特許庁

After a high-hydrogen concentration layer having a concentration peak at a depth of 5 μm from the main surface of a crystalline semiconductor substrate in its depth-wise hydrogen concentration profile is formed in the substrate by implanting negative hydrogen ions into the substrate, the thin semiconductor film is peeled from the substrate at the high-hydrogen concentration layer.例文帳に追加

半導体結晶基板に対し、その主表面から水素負イオンを注入することにより、深さ方向の水素濃度プロファイルにおいて、主表面から深さ５μｍ以上の位置に濃度ピークを有する水素高濃度層を形成した後、該水素高濃度層において半導体結晶基板より半導体薄膜を剥離する - 特許庁

An optical member, having a prescribed refracting power, is selected as a processed member 10 from among optical members constituting the system PL, and such a surface profile having uneven distribution to have the random components of the member 10 cancel out is calculated, based on the measured random components of the various aberrations of the system PL.例文帳に追加

投影光学系ＰＬを構成する光学部材の中から所定の屈折力を持つ光学部材を被加工部材１０として選定し、その被加工部材１０に関して、投影光学系ＰＬの諸収差のランダム成分の計測結果に基づいてそのランダム成分を相殺するような凹凸分布を有する表面形状を算出する。 - 特許庁

A chuck auxiliary part 6 is detachably mounted which comprises a guide ring 28 that encloses the outer periphery of a suction holding surface 3 provided with a discharge opening for high pressure gas by such profile as similar to a work W which is a suction object, and a work hooking piece 29 protruded from the outer periphery of the guide ring 28.例文帳に追加

高圧気体の吐出口を設けた吸着保持面３の外周囲に対し、吸着対象となるワークＷとほぼ等しい外形で吸着保持面３の外周囲を包囲するガイドリング２８と、ガイドリング２８の外周囲から突出形成したワーク係止片２９で構成したチャック補助部６を着脱可能に装着した。 - 特許庁

In a temperature profile drawn by a surface of the semiconductor wafer by the light irradiation with such an output waveform, a total residence time in 700-900°C during a temperature rising process and a temperature dropping process with respect to each of two temperature peaks TP1, TP2 corresponding to the two emission peaks EP1, EP2 is 15 ms or shorter.例文帳に追加

このような出力波形の光照射によって半導体ウェハーの表面が描く温度プロファイルにおいて、２つの発光ピークＥＰ１，ＥＰ２に対応する２つの温度ピークＴＰ１，ＴＰ２のそれぞれについての昇温過程および降温過程の７００℃以上９００℃以下の滞在時間の合計は１５ミリ秒以下である。 - 特許庁

This method of manufacturing the integrated seal includes the steps of: supplying a component having an edge portion; forming a profile on the edge portion; supplying a seal; applying a bond preparation on a surface on the edge portion; applying a bonding material on the seal; mounting the seal to the edge portion; and curing bond.例文帳に追加

一体形シールを製作する方法は、エッジ部分を有する構成要素を供給するステップと、エッジ部分上に輪郭を形成するステップと、シールを供給するステップと、エッジ部分の表面上に接着前処理を施すステップと、シール上に接着材料を適用するステップと、シールをエッジ部分に取付けるステップと、接着剤を硬化させるステップとを含む。 - 特許庁

The movement control method of an object allowing an object to move while holding liquid against an emission surface of an optical member where exposure light is emitted includes a step for moving the object based on a predetermined movement profile so that the speed of the object in a predetermined period of time, from a first point in time to a second point in time, changes from a first speed to a second speed.例文帳に追加

露光光が射出される光学部材の射出面との間に液体を保持して移動可能な物体の移動制御方法は、第１時点から第２時点までの所定期間において物体の速度が第１速度から第２速度へ変化するように所定の移動プロファイルに基づいて物体を移動させることを含む。 - 特許庁

The substrate treatment apparatus comprises a treatment liquid supply part for supplying a treatment liquid to the surface of a substrate (100), a carrying device (30) for carrying the substrate, and a control part for controlling the carrying device so as to carry the substrate in a profile of being inclined alternately in the direction of crossing the carrying direction of the substrate.例文帳に追加

本発明による基板処理装置は基板（１００）の板面に処理液を供給する処理液供給部と、前記基板を移送する移送装置（３０）と、前記基板を前記基板の移送方向と交差する方向で交互的に傾けて移送するように前記移送装置を制御する制御部を含むことを特徴とする。 - 特許庁

Between the cover 9 and the cushioning property heartwood 2, there is a ventilation lamina 55 in which air can carry out conduction, this at least partially curves following the profile of the recessed part of the locking channel, and the ventilation lamina 55 in the sector of the locking channel essentially holds its layer thickness d in spite of the recessed part 17 in the surface.例文帳に追加

カバー９とクッション性心材２の間には、エアが通流できるベンチレーション層５５があり、これは、係止チャンネルの凹部の輪郭に続いて少なくとも部分的に湾曲していて、係止チャンネルの領域におけるベンチレーション層５５が、前記表面にある凹部１７にもかかわらずその層厚ｄを本質的に保持するようになっている。 - 特許庁

The multilayer printed wiring board is configured in such a way that a first rigid substrate having a surface-mounted component, a second rigid substrate having an escape portion corresponding to the position and profile of this component, and a flexible substrate formed to be longer than the first and second rigid substrates, are each integrally stacked via an insulating layer; and the component is buried in the rigid insulating layer.例文帳に追加

多層プリント配線板は、部品が表面実装された第１のリジッド基板と、この部品の位置及び外形に対応した逃げ部を有する第２のリジッド基板と、第１及び第２のリジッド基板よりも長く形成されたフレキシブル基板とが、それぞれ絶縁層を介して積層一体化され、部品がリジッドな絶縁層内に埋設されている。 - 特許庁

The surface of a developing sleeve 43 as a developer carrier has a groove portion 43d having a V-shape cross-sectional profile and extending in the longitudinal direction; and the nearly V-shaped bottom of the groove portion 43d is an arc with a radius of r1 satisfying r1>d1, wherein d1 is the radius of developer particles.例文帳に追加

現像剤担持体としての現像スリーブ４３の表面に長手方向に伸びる断面形状が略Ｖ字型の溝部４３ｄを有し、溝部４３ｄの略Ｖ字型の底部は半径ｒ１の円弧上の形状となっており、現像剤粒子の半径をｄ１とすると、円弧状の底部の半径ｒ１は、ｒ１＞ｄ１を満たす。 - 特許庁

The load bearing surface includes: a support structure; a first layer attached to the support structure, the first layer varying under a load depending on a first deflection profile; a second layer attached to the support structure; and a plurality of spring elements disposed between the first layer and the second layer to operatively interact when the first layer deflects under a load.例文帳に追加

耐荷重面が、サポート構造体と、該サポート構造体に取り付けられていて、第一変形プロフィールに基づく荷重で変形可能な第一層と、該サポート構造体に取り付けられた第二層と、該第一層が荷重により変形する場合作動可能に相互作用するために、該第一層と該第二層との間に配置された複数のスプリングエレメントとを具備する。 - 特許庁

When the profile electric discharge machining device 1 installs the tool electrode 20 to a chuck 40 on a machining table 12, the automatic tool changer 50 transfers the tool electrode 20 to a machining main shaft 15 using the shank 22U on the upper surface and the machining main shaft 15 attaches the tool electrode 20 to the chuck 40 on the machining table 12 using the shank 22L.例文帳に追加

そして、形彫放電加工装置１が工具電極２０を加工テーブル１２上のチャック４０に装着する際に、自動工具交換装置５０がの上面のシャンク２２Ｕを使用して工具電極２０を加工主軸１５に移載し、加工主軸１５がシャンク２２Ｌを使用して工具電極２０を加工テーブル１２上のチャック４０に装着する。 - 特許庁

In the arc-welding solid wire without copper plating, the average amplitude in the wavelength of 0.01-0.1 mm range is ≤ 0.04 μm when the roughness profile of the wire surface in the circumferential direction of the wire is separated into the wavelength and the amplitude accompanied thereby at the wave number interval of 1.7 mm^-1 by applying the Fourier analysis.例文帳に追加

銅めっき無しアーク溶接用ソリッドワイヤであって、ワイヤ周方向のワイヤ表面の粗さプロファイルを、フーリエ解析を適用して波数間隔１．７ｍｍ^−１にて波長とそれに伴う振幅とに分離した場合、波長０．０１〜０．１ｍｍ域における振幅平均値が０．０４μｍ以下であることを特徴とする銅めっき無しアーク溶接用ソリッドワイヤ。 - 特許庁

The polishing device 1 for polishing a wafer 10 by bringing a polishing member 25 into contact with the polished surface 11 of the wafer 10 comprises a polishing conditions setting section 42, for automatically altering the setting of polishing conditions depending on a set polishing time such that the polishing profile becomes constant regardless of the polishing time for the wafer 10.例文帳に追加

本発明では、研磨部材２５をウェハ１０の被研磨面１１に当接させてウェハ１０の研磨を行う研磨装置１において、研磨プロファイルがウェハ１０に対する研磨時間に拘わらず一定となるように、設定された研磨時間に応じて研磨条件を自動的に設定変更する研磨条件設定部４２を備えて構成される。 - 特許庁

An impurity concentration profile, at which an inclination 22a where the impurity concentration approximately rectilinearly falls with an increase in the distance from the surface 1a of the semiconductor substrate 1 (with a decrease in depth D) crosses a curve 21a of a transition region at the boundary between the semiconductor substrate 1 and the semiconductor thin film 2, is obtained.例文帳に追加

この結果半導体基板１と半導体薄膜２との界面における遷移領域のカーブ２１ａに対して、半導体基板１の表面１ａからの距離が大きくなるにつれて（深さＤが小さくなるにつれて）略直線状に不純物濃度が低下していく傾斜２２ａが交差する不純物濃度プロファイルが得られる。 - 特許庁

In the enclosed switchgear where a switchgear functional section includes an interrupting section and a disconnecting section contained in an enclosed container filled with gas, a solid state insulator 50 for ensuring insulation at the voltage applying part of the switchgear functional section is provided with an insulation barrier 53 of the same material as the solid state insulator having a surface profile for blocking preceding discharge.例文帳に追加

ガスを充填した密閉容器に遮断部および断路部を含む開閉装置機能部が収納された密閉形開閉装置において、前記開閉装置機能部における電圧印加部分の絶縁を確保する固体絶縁物５０に先行放電を阻止する表面形状を持つ前記固体絶縁物と同じ材質の絶縁バリヤ５３を設ける。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The method includes simultaneously measuring a surface profile of a substrate at a plurality of locations along an orthogonal direction to the direction of a relative motion between the substrate and a droplet ejection device, and the direction where a plurality of nozzles of the droplet ejection device are arranged, by using an array of displacement meter for measuring the substrate along a direction in parallel with the direction where the nozzles are arranged.例文帳に追加

基体の表面プロファイルを、液滴吐出装置の複数のノズルが配列する方向と平行な方向に沿って該基体を測る変位計測器のアレイを用いて、前記基体と前記液滴吐出装置との相対移動の方向に対して垂直な方向であって前記ノズルが配列する方向に沿った複数の位置で同時に、測定する。 - 特許庁

A lens is colored in a coating process to apply a subliming dye on a transfer sheet 120 which can follow up the curved profile of a plastic lens and a transfer process to heat at least the transfer sheet 120 while the coated face of the transfer sheet 120 after coated is made to tightly adhere to the surface of the plastic lens 100 so as to transfer the subliming dye to the plastic lens 100.例文帳に追加

プラスチックレンズの曲面形状に追随できる転写用シート１２０に昇華性染料を塗布する塗布工程と、塗布工程後の転写用シート１２０の塗装した面をプラスチックレンズ１００の表面に密着させながら少なくとも転写用シート１２０を加熱して昇華性染料をプラスチックレンズ１００に移行させる転写工程とでレンズを着色する。 - 特許庁

The embodiment contains a topographic device 42 to map the irregularity of the cornea, the unevenness of the surface of the cornea and the like in details and an interface device which receives a topography data to handle and applies an instruction to a laser device 46 to execute a specified removal profile on a base body of a framework or the like while various visual displays are performed to show actual situations before and after treatment and a simulated situation.例文帳に追加

本発明の好適な実施例は、角膜の不整形と表面凹凸を詳細にマップするトポグラフィ装置と、トポグラフデータを受けて取扱い、角膜間質などの基体上の所定の除去プロフィ−ルを実行させる指示をレーザ装置等に与え、かつ処置前と処置後の実際のものと、シミュレートしたものとの、種々の視覚的表示を行うインタフェース装置とを含む。 - 特許庁

Also, open and close characteristics of the intake valve 2 can be varied by changing a position of a cam side contact part 18 in the input link 13 and a distance X in the open and close direction of the intake valve 2 between a valve side contact part 21 of a profile surface 20 and the cam side contact part 18 through displacement in the radial direction of a first shaft 11.例文帳に追加

また、吸気バルブ２の開閉特性の可変については、入力リンク１３におけるカム側接触部１８の位置、及び、カム側接触部１８とプロフィール面２０のバルブ側接触部２１との間における吸気バルブ２の開閉方向についての距離Ｘを、駆動機構２２の駆動による第１のシャフト１１の径方向への変位を通じて変化させることで実現される。 - 特許庁

When a virtual tread profile line is determined by a first arc shape in the cross-sectional shape of the tread, the land includes: a bulging portion bulging in a second arc shape in a tire radial direction as the sectional outline of a tread surface of the land; and chamfered portions connected to the bulging portion and extending straight toward the respective groove walls of the circumferential main grooves.例文帳に追加

前記トレッド部の断面形状において、第１円弧形状により仮想トレッドプロファイルラインを定めたとき、前記陸部は、前記陸部のトレッド表面の断面輪郭線としてタイヤラジアル方向に第２円弧形状で突出する突出部と、前記突出部と接続されて、前記周方向主溝のそれぞれの溝壁に向かって直線状に延びる面取り部と、を有する。 - 特許庁

The system includes a topography device for mapping in detail the irregularities and surface deviations of a cornea, and an interface system for receiving and manipulating topographical data and for providing directions to a laser system or the like to carry out a predetermined ablation profile on a substrate such as a corneal stroma and for providing a variety of actual and simulated pre and post operative visual depictions.例文帳に追加

本発明の好適な実施例は、角膜の不整形と表面凹凸を詳細にマップするトポグラフィ装置と、トポグラフデータを受けて取扱い、角膜間質などの基体上の所定の除去プロフィ−ルを実行させる指示をレーザ装置等に与え、かつ処置前と処置後の実際のものと、シミュレートしたものとの、種々の視覚的表示を行うインタフェース装置とを含む。 - 特許庁

Accordingly, the focusing position of the first polarization component is largely shifted in a light axis direction from a light detection surface on which beam profiles of plus and minus primary diffracted light of the second polarization component are approximately the same in size, and consequently a beam profile of the first polarization component is made to have sufficient broadness to be detected by a light sensor.例文帳に追加

よって、第２の偏光成分の±１次回折光のビーム形状が略同一サイズとなる光検出面から第１の偏光成分の焦点位置を光軸方向に大きくずらすことができ、この検出面上における第１の偏光成分のビーム形状を、光センサーにて検出するに十分な広がりを持つビーム形状とすることができる。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of solvent coating even if an aqueous dispersion of a pigment is used as a material, excellent in dispersion stability of the pigment, in properties of forming a pattern such as a black matrix (alkali developability and pattern profile), and in surface condition and solvent resistance of an obtained pattern, and having a high concentration as a black photosensitive material.例文帳に追加

顔料の水性分散液を原料として用いても溶剤系塗布が可能であり、顔料の分散安定性、ブラックマトリックス等のパターン形成性（アルカリ現像性、パターン形状）、得られたパターンの面状及び得られたパターンの耐溶剤性に優れ、黒色感材として高濃度な感光性組成物及びそれを用いた表示装置用遮光膜形成用材料の提供。 - 特許庁

In a dressing method of the inverted-crown shaped grinding wheel 1, a dressing tool 3 formed into a profile against the grinding wheel and made of an elastic body is disposed opposite to the grinding wheel, free abrasive grains 6 are supplied between the dressing tool 5 and the grinding wheel, and the dressing tool and the grinding wheel are rotated to dress the surface of the grinding wheel.例文帳に追加

逆クラウン形状の研削砥石１のドレッシング方法において、研削砥石に対して総型に形成した弾性体からなるドレッシング冶具３を研削砥石に対して対向配置してドレス冶具５と研削砥石間に遊離砥粒６を供給してドレッシング冶具と該研削砥石を回転させることにより研削砥石表面をドレッシングすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a simple and efficient method for measuring the size of coke cake particles and the number of cracks on coke cakes in a coal dry distillation testing furnace, by measuring directly the surface profile without decomposition of coke cakes derived from the coal dry distillation testing furnace to thereby determine the number of cracks on the coal cakes and additionally to determine the coke particle diameter from the number of cracks.例文帳に追加

石炭乾留試験炉でのコークス粒度及びコークスケーキの亀裂数の測定を、石炭乾留試験炉で乾留して得られたコークスケーキを解体せずに直接その表面形状を測定することによりコークスケーキの亀裂数を求め、さらにこの亀裂数からコークス粒径を求めるコークス粒度及びコークスケーキの亀裂数の簡易且つ効率的な測定方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a microfabricated pattern provided with an excellent profile and satisfactory characteristics to be required, in a method for contracting the intervals of the photoresist pattern by disposing a water soluble resin coating on the photoresist pattern formed on a substrate surface and subsequently heat treating it, by preventing a solution residue from being caused in removing the water soluble resin coating after contraction treatment.例文帳に追加

基板表面に形成したホトレジストパターン上に水溶性樹脂被覆を設けたのち、これを熱処理してホトレジストパターン間隔を収縮させる方法において、収縮処理後の水溶性樹脂被覆の除去に際し、溶解残留分の発生を防止し、良好なプロファイル及び満足すべき要求特性を備えた微細化パターンを得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming material having a good resist surface profile and capable of forming a higher-definition pattern by using a highly transparent substance as a support so as to form a permanent pattern such as a solder resist, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a permanent pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、高透明な物質を支持体として使用することにより、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。 - 特許庁

Since the N-type layer 13 becomes an N type concentration gradient layer 13a having a concentration profile which decreases in the depth direction from the bonding surface with the Schottky layer 14 by afterward activating of Si ions, the bonding part of a Schottky electrode 14a consisting of the Schottky metal layer 14 and the N type concentration gradient layer 13a becomes the super stage junction structure.例文帳に追加

従って、その後のＳｉイオンの活性化により、Ｎ^- 型ＧａＡｓ層１３は、ショットキー金属層１４との接合面から深さ方向に向かってＳｉ濃度が減少する濃度プロファイルをもつＮ型濃度勾配層１３ａとなるため、ショットキー金属層１４からなるショットキー電極１４ａとＮ型濃度勾配層１３ａとの接合部は超階段接合構造になる。 - 特許庁

The fine particle lower zirconium oxide-zirconium nitride composite having the peak of lower zirconium oxide and the peak of zirconium nitride in the X-ray diffraction profile and 10-60 m^2/g specific surface area is obtained through a step for firing a mixture of zirconium dioxide or zirconium hydroxide, magnesium oxide and metal magnesium under an inert gas flow at 650-800°C.例文帳に追加

二酸化ジルコニウムまたは水酸化ジルコニウムと、酸化マグネシウムと、金属マグネシウムとの混合物を、窒素ガスまたは窒素ガスを含む不活性ガス気流中６５０〜８００℃で焼成する工程を経て、Ｘ線回折プロファイルにおいて、低次酸化ジルコニウムのピークと窒化ジルコニウムのピークを有し、比表面積が１０〜６０ｍ^２／ｇである微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体を製造する。 - 特許庁

A sanitary napkin 1 has a solid section 40 formed of a laminated surface sheet 41 equipped with an outward sheet 44a and an inward sheet 44b which are liquid-permeable, a back sheet 13 which is liquid-impermeable, and an absorbent 20 placed between the solid section 40 and the back sheet 13 and is in a substantially longitudinal profile having a longitudinal direction and a lateral direction.例文帳に追加

生理用ナプキン１は、液透過性の外側シート４４ａ及び内側シート４４ｂを備える積層表面シート４１で形成される立体部４０、液不透過性の裏面シート１３、並びに、これら立体部４０及び裏面シート１３の間に設けられた吸収体２０を有し、長手方向と短手方向を有する実質的に縦長の形状である。 - 特許庁

This device 192 comprises an inlet manifold 200 formed to introduce an exhaust gas flow 202 into the device 192, an air inlet 204 formed to introduced an air flow 206 into the device 192, and at least one surface of the device 192 having a Coanda profile 54 formed to generate a high-speed air flow 208 by entraining an inflow air 206 with the exhaust gas flow 202.例文帳に追加

本デバイス（１９２）は、該デバイス（１９２）内部に排気ガス流（２０２）を導くように構成された入口マニホルド（２００）と、該デバイス（１９２）内部に空気流（２０６）を導入するように構成された空気入口（２０４）と、排気ガス流（２０２）によって流入空気（２０６）を同伴して高速空気流（２０８）を生成するように構成されたコアンダプロファイル（５４）を有する該デバイス（１９２）の少なくとも１つの表面とを含む。 - 特許庁

A laser irradiation method using a laser irradiation apparatus includes: a laser oscillator; a linear optical system for changing a laser beam oscillated from the laser oscillator to a linear beam; and a stage on which a substrate to be irradiated with the linear beam is placed wherein the stage deforms the surface profile of the substrate to follow up the focal position of the linear beam checked by a profiler, and has a supporting means.例文帳に追加

レーザ発振器と、前記レーザ発振器から発振したレーザビームを線状ビームに変える線状光学系と、前記線状ビームが照射される基板を設置するステージと、前記ステージは、ビームプロファイラで調べられた前記線状ビームの焦点位置に沿うように前記基板の表面形状を変形させ、かつ、支持手段を有することを特徴とするレーザ照射装置を用いたレーザ照射方法に関する。 - 特許庁

The interface system, which can be a stand alone item, provides a tool for use by a surgeon or the like which allows a surgeon to input his expertise in the development of a clinical ablation profile that is well suited for the eye characteristics, review and also simulate a wide variety of potential surgical alternatives for a wide variety of corneal defects including irregular eye shapes and corneal surface irregularities.例文帳に追加

自立型のものとすることができるインタフェース装置は、眼の形の不整形や角膜表面の凹凸等を含めた広範囲の角膜欠陥に対する広範囲な潜在的外科的代替処置を調べて、シミュレートもできるようにする角膜の眼の諸特性に良く適合する臨床除去プロフィ−ルの開発に外科医等が自己の専門知識を入力できるようにする、外科医等が使用する手段を提供する。 - 特許庁

By means of the semiconductor device obtained by significantly improving the performance of a buried channel semiconductor device by suppressing the channel leakage current of the buried channel MOSFET and its manufacturing method, a semiconductor integrated circuit device which is excellent in performance is constituted by building the buried channel MOSFET optimized in channel-surface concentration profile by a manufacturing method using a new gate oxide film forming method.例文帳に追加

埋め込みチャネル型ＭＯＳＦＥＴのチャネルリーク電流を抑制し、埋め込みチャネル型半導体装置のパフォーマンスを著しく向上させた半導体装置とその製造方法、でチャネル表面濃度プロファイルを最適化した埋め込みチャネル型ＭＯＳＦＥＴを新しいゲート酸化膜形成方法を用いた製造方法で構築し、パフォーマンスに優れた半導体集積回路装置を構成するものである。 - 特許庁

Here, the main surface of a semiconductor substrate 10 is tilted against a reference plane containing a crystal axis, and related to the selectively oxidized layer 16, a layer which is to be oxidized wherein the profile provided, when it is cut along the plane parallel to the main surface is smooth in a macro manner, comprising at least no singular point, is oxidized starting with a peripheral edge.例文帳に追加

半導体基板１０の主面に、活性層１４を挟んで上下の反射ミラー層１２、１８が形成され、上下の反射ミラー層１２、１８の少なくとも一方にその周縁部が酸化された選択酸化層１６を備えた面発光型半導体レーザにおいて、半導体基板１０の主面を、基準となる結晶軸を含む面に対して傾斜させ、選択酸化層１６を、主面と平行な面で切断したときの外周形状が少なくとも特異点のないマクロ的に滑らかな形状の被酸化層を周縁部から酸化して形成する。 - 特許庁

In the laser beam irradiation device that is used to scan the laser beam on a sealed part arranged between a first substrate and a second substrate in order to seal the first substrate and the second substrate, the laser beam has a fixed beam intensity as a whole, and a beam profile of a symmetrical shape against the laser beam center line of the laser beam in the scanning direction in which both side faces opposing to each other form recessed surface shapes.例文帳に追加

第１基板と第２基板との間に配置された密封部にレーザビームを走査して第１基板及び第２基板の密封に使われるレーザビーム照射装置において、レーザビームは、全体が一定のビーム強度を有し、走査方向におけるレーザビーム中心線に対して対称的形状に中心部の走査方向において互いに対向する両側面が凹状になったビームプロファイルを有することを特徴とするレーザビーム照射装置である。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus for rapidly and reliably drying a substrate by drying process that is performed after wet washing process, and to quickly remove an unneeded thin film formed at and adhered to the bevel and edge sections of the substrate while obtaining a steel slope edge profile even if the film is hard, and to restrain surface roughness at the bevel and edge sections after removing the unneeded thin film.例文帳に追加

ウェット洗浄処理後に行われる乾燥処理で、基板を迅速かつ確実に乾燥できるようにした基板処理装置、並びに、基板のベベル部乃至エッジ部に成膜乃至付着した不要な薄膜を、例え硬質な膜であっても、急勾配なエッジプロファイルを得た状態で、短時間で除去でき、しかも、不要な薄膜を除去した後のベベル部乃至エッジ部における表面粗さを小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

The interface device which is made autonomous and usable by a surgeon allows the surgeon to examine wide ranging potential surgical alternative treatments for detects of the cornea in a wide range containing the irregularities of the shape of eyes and unevenness of the surface of the cornea so that the surgeon can input his own expertise for the development of a clinical removal profile better suited to characteristics of the eyes of the cornea to allow simulation as well.例文帳に追加

自立型のものとすることができるインタフェース装置は、眼の形の不整形や角膜表面の凹凸等を含めた広範囲の角膜欠陥に対する広範囲な潜在的外科的代替処置を調べて、シミュレートもできるようにする角膜の眼の諸特性に良く適合する臨床除去プロフィ−ルの開発に外科医等が自己の専門知識を入力できるようにする、外科医等が使用する手段を提供する。 - 特許庁