「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(584ページ目) - Weblio英語例文検索

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

The commutation pattern generating device 56 selectable between a commutation pattern for voltage commutation and that for current commutation obtains either of the input voltage information or the output current information from a detected value input to the output voltage command operating device 52.例文帳に追加

交流交流直接変換器の入力電圧検出手段５１及び出力電流検出手段５３と、これらの検出値から出力電圧指令値を演算する手段５２と、出力電圧指令値から双方向スイッチのＰＷＭパルスを演算する手段５４と、ＰＷＭパルスに従って所定のスイッチングパターンを発生する転流パターン発生手段５６とを備え、この発生手段５６は、電圧転流用及び電流転流用の転流パターンを選択可能とし、前記入力電圧情報または出力電流情報のうち何れかを出力電圧指令演算手段５２に入力される検出値から得る。 - 特許庁

In the flexible board, at least one of the plurality of conductor patterns 15b is a ground pattern 15b2, and the first insulator 15a and/or second insulator 15c has an exposure portion 15e for exposing only the ground pattern 15b2 among the plurality of conductor patterns 15b.例文帳に追加

電気絶縁性を有するフィルム状の第一絶縁体１５ａと、第一絶縁体１５ａに形成された金属からなる複数の導体パターン１５ｂと、複数の導体パターン１５ｂを被覆する第二絶縁体１５ｃとを備えるフレキシブル基板１５において、複数の導体パターン１５ｂのうち少なくとも一つがグランドパターン１５ｂ２であり、第一絶縁体１５ａ及び／又は第二絶縁体１５ｃに複数の導体パターン１５ｂのうちグランドパターン１５ｂ２のみを露出させる露出部１５ｅを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold structure includes a transfer step to press the projecting and recessing pattern side of a master disk against an imprint resist layer formed on one surface of a substrate to be worked and composed of an electron beam resist so as to transfer the projecting and recessing pattern to the imprint resist layer.例文帳に追加

原盤の凹凸パターン側を、被加工基板の一方の表面に形成された電子線レジストからなるインプリントレジスト層に押し付け、凹凸パターンをインプリントレジスト層に転写する転写工程を含み、凹凸パターンにおける１ビットの面積Ｓｂｉｔと、１ビットの４つの角部に前記電子線レジストが到達していない欠け部の面積Ｓｃｈｉｐとの比率〔（Ｓｃｈｉｐ／Ｓｂｉｔ）×１００）〕が２％以上である場合には、原盤における１ビットの角部の形状を変化させるモールド構造体の製造方法である。 - 特許庁

The pattern transfer method for filling a concave-convex pattern on a template with a resist material includes steps of: contacting the template with the resist material applied on a substrate, curing the resist while contacting the template with the resist, electrically charging the template and the cured resist with an identical polarity, and removing the template from the resist material while eclectically charging the template and the resist with an identical polarity.例文帳に追加

テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン転写方法であって、前記テンプレートを基板上に塗布された前記レジスト材料に接触させる工程と、前記レジストに前記テンプレートを接触させた状態で前記レジストを硬化させる工程と、前記テンプレート及び硬化した前記レジスト材料を同じ極性に帯電させる工程と、前記テンプレート及び前記レジスト材料を同じ極性に帯電させた状態で、前記レジスト材料から前記テンプレートを離すことを特徴とするパターン転写方法。 - 特許庁

In the process of forming the condenser lens, when a resist pattern is transferred on a lens base for forming the lens, an etching selectivity between the resist pattern and the lens base is adjusted, thereby patterning the lens base so as to have a desired curvature.例文帳に追加

半導体基板上に、光電変換部と前記光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部とを備えた撮像部を形成する工程と、前記撮像部上に、平坦化膜を介して形成された集光レンズを形成する工程とを具備した固体撮像素子の製造方法において、集光レンズを形成する工程が、レンズを形成するためのレンズ基体にレジストパターンを転写するに際し、レジストパターンとレンズ基体とのエッチング選択比を調整することにより、レンズ基体を、所望の曲率にパターニングする。 - 特許庁

A method for fabricating a cellular trench MOSFET includes depositing a first photoresist atop a first epitaxial (epi) layer to pattern a trench area, depositing a second photoresist atop a first gate conductor layer to pattern a mesa area, etching away part of the first gate conductor layer in the mesa area to form a second gate conductor layer with a hump, and titanizing crystally the second gate conductor layer to form a Ti-gate conductor layer.例文帳に追加

多孔質のＭＯＳＦＥＴの製造方法は、トレンチ領域をパターニングするために第１のエピタキシャル（エピ）層の上に第１のフォトレジストを堆積する段階と、メサ領域をパターニングするために第１のゲート導体層の上に第２のフォトレジストを堆積する段階と、ハンプを有する第２のゲート導体層を形成するために前記メサ領域の前記第１のゲート導体層の部分をエッチング除去する段階と、Ｔｉゲート導体層を形成するために前記第２のゲート導体層を結晶的にチタン化する段階と、を含む。 - 特許庁

In the device for optical information reproduction which can reproduce media where an interference pattern generated when signal light and reference light are superposed is recorded, and reproduces information using holography, when information is reproduced, reference light is radiated to the media with ranging reference light angle, the reference light is diffracted by the interference pattern to generate reproduction light, the reproduction light is detected by a photodetector, and signal processed, to reproduce information.例文帳に追加

信号光と参照光とを重ね合わせた時に生じる干渉パターンが記録された媒体を再生することが可能な、ホログラフィを利用して情報を再生する光情報再生装置において、情報の再生時には、幅を持った参照光角度で参照光を媒体に照射し、前記参照光が前記干渉パターンで回折されて再生光を生成し、前記再生光を光検出器で検出し、信号処理することで情報を再生することを特徴とする、光情報再生装置で解決できる。 - 特許庁

A polycrystalline silicon thin film for a display device is featured in that adjoining primary crystal grain boundaries are not parallel and an area enclosed by primary crystal grain boundaries is larger than 1 μm^2, and also characterized by a step of crystallizing amorphous silicon using a laser beam, through the use of a mask having a mixed structure of a laser-transparent line-shaped pattern and a laser-opaque pattern.例文帳に追加

本発明は多結晶シリコン薄膜、これの製造方法及びこれを利用して製造された薄膜トランジスタに係り、隣接したプライマリ結晶粒境界が平行せずにプライマリ結晶粒境界に囲まれた面積が１μｍ^２より大きいことを特徴とするディスプレーデバイス用多結晶シリコン薄膜及びレーザーが透過するライン形態のパターンとレーザーが透過することができないパターンが混合された構造を有するマスクを用いて非晶質シリコンをレーザーを利用して結晶化する段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method of producing a patterned body includes an energy irradiation step for forming a wettability change pattern having a reduced contact angle with water on a resin substrate by arranging a photocatalyst containing layer containing a photocatalyst and a photocatalyst containing layer of a substrate on the photocatalyst containing layer side having a base, and a resin base material having water repellency to face each other and then radiating energy in a pattern.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の光触媒含有層と、撥水性を有する樹脂製基材とを対向させて配置し、パターン状にエネルギーを照射することにより、前記樹脂製基材上に水との接触角が低下した濡れ性変化パターンをパターン状に形成するエネルギー照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

On this film 6, a lost foam pattern 17 for forming the lacking wall part 9a is fitted, and molding sand is made to fill up and hard under reducing the pressure on the film 6 and the pattern 17 and thus, the molding is executed to the mold corresponding to the casting 24.例文帳に追加

複数の壁部８，９に囲まれた凹部１１を有する鋳造品２４を成形するための鋳型の造型法であって、前記鋳造品２４の一部の壁部９ａを欠落した形状の模型３に、加熱軟化した減圧造型用フィルム６を吸引密着し、このフィルム６上に、前記欠落した壁部９ａを成形するための消失模型１７を取付け、フィルム６及び消失模型１７上に鋳砂を充填するとともに該鋳砂を減圧固化することにより、前記鋳造品２４に対応する鋳型２２に造型する。 - 特許庁

To judge the health of a person by arranging an organism signal detecting means for detecting the organism signal of the person, continuously judging the sleep stage from the output signal of the organism signal detecting means to determine a sleep stage transition pattern, calculating a health index from the sleep stage transition pattern by a health index arithmetic means, and judging the health of the person by use of the health index.例文帳に追加

人の生体信号を検出する生体信号検出手段と、その生体信号検出手段の出力信号から睡眠段階を連続的に推定する睡眠段階判定手段と、前記睡眠段階の推移パターンからレムサイクル乱れ度と睡眠効率等の健康指標を算出する健康指標演算手段と前記健康指標のレムサイクル乱れ度と睡眠効率との少なくとも１つを用いて人の健康状態を判定する健康状態判定手段とを備える健康状態判定装置。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask with steps, a photomask which is greatly improved in size precision of an auxiliary pattern by coating even a substrate, obtained by forming a shifter-dug step part on a transparent substrate by etching, with photosensitive resin so that the surface is smooth and the film thickness is uniform, or a photomask with a Levenson type phase shift.例文帳に追加

段差を持つフォトマスクや、透明基板にエッチングによってシフター掘り込みの段差部を形成した基板にも、表面平滑で、且つ膜厚を均一に感光性樹脂を塗布し、補助パターンの寸法精度を格段に向上させるようにしたフォトマスク、又はレベンソン型の位相シフトのフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposing device comprises a projection optical system 3 projecting the pattern of a mask 2 to a substrate 5, and a liquid feeder 6 feeding liquid to between the projection optical system 3 and the substrate 5, and the liquid feeder 6 has an injector 19 for injecting a carbon dioxide to the liquid.例文帳に追加

マスク２のパターンを基板５に投影する投影光学系３と前記投影光学系３と前記基板５との間に液体を供給する液体供給装置６とを備え、前記液体供給装置６は前記液体に二酸化炭素を注入する注入装置１９を有することを特徴とする構成とした。 - 特許庁

To provide an image processing unit capable of ensuring precision in data detection from a printed matter including a copy original for the creation of a data embedded image by dot on/off, embedding a sufficient amount of data, and adding a background pattern formed by dot arrangement simply, and to provide an image processing method and a program thereof.例文帳に追加

ドットオンオフによるデータ埋め込み画像の作成に対して、コピー原稿を含む印刷物からのデータ検出の精度を確保し、十分なデータ量を埋め込み、かつドット配置が形成する背景模様を簡単に付加することができる画像処理装置、画像処理方法、及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁

A solder resist layer 42 is formed on the pad 31a and the distribution layer 31b to form a solder resist pattern 42a through patterning process and plating is effected on the pad 31a and the ball lands 31c to obtain a substrate 100 for semiconductor device having ball lands 51 and pad 52, on which a plating film is formed.例文帳に追加

パッド３１ａ及び配線層３１ｂ面にソルダーレジスト層４２を形成し、パターニング処理してソルダーレジストパターン４２ａを形成し、パッド３１ａ及びボールランド３１ｃ上にめっきを行い、めっき被膜が形成されたボールランド５１及びパッド５２を有する半導体装置用基板１００を得る。 - 特許庁

A pair of magnetic heads where one of the heads having a smaller angle of a magnetization pattern line to a magnetization orientation direction of a magnetic particle in a tape for recording an electromagnetically converted signal, has a 5 to 10% larger recording/reproduction efficiency than that of another magnetic head forming the pair are mounted on a cylinder.例文帳に追加

磁気ヘッドの磁化パターンのラインと電磁変換された信号を記録するテープの磁性粒子の磁化配向方向とで成す角度が小さい方の磁気ヘッドの記録再生効率が、一対を構成する他方の磁気ヘッドの記録再生効率よりも５〜１０％大きい磁気ヘッドをペアにしてシリンダーに搭載する。 - 特許庁

This inkjet ink used for forming a pattern image by ejecting it from an inkjet-recording device equipped with a pressure-impressing means and an electric field-impressing means is characterized by containing the organic semiconductor compound, an organic solvent having a specific permittivity of 10 or less and at least one selected from specific 5 kinds of ionic liquids.例文帳に追加

圧力印加手段と電界印加手段とを備えたインクジェット記録装置により吐出してパターン像を形成するのに用いるインクジェットインクであって、有機半導体化合物、比誘電率が１０以下の有機溶媒、特定の５種のイオン性液体から選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とするインクジェットインク。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic transfer master disk capable of stably forming a highly accurate master substrate when a master disk having a recessed/projected pattern is subjected to electrocasting to form a master disk, and to provide a magnetic recording medium to which good preformat information is magnetically transferred.例文帳に追加

凹凸パターンを有した原盤に電鋳を施してマスター基板を作成するにあたり、高精度なマスター基板を安定して形成することのできる磁気転写用マスターディスクの製造方法を提供するとともに、良好なプリフォーマット情報が磁気転写された磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The timing pulse generating part generates a first timing pulse corresponding to another first waveform part generated next to one first waveform part, within a period of time wherein a part of the voltage change pattern of the second waveform part, that is, a changing part for returning the voltage to the reference voltage after delivering the liquid is generated.例文帳に追加

タイミングパルス生成部は、或る第１波形部の次に生成される他の第１波形部に対応する第１タイミングパルスを、第２波形部が有する電圧変化パターンの一部分であって、液体の吐出後にて電圧を基準電圧まで戻すための変化部分が生成されている期間内に生成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which eliminates the need for prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity, in particular, high sensitivity and good pattern forming properties to active energy rays having a maximum emission wavelength in the range of 400-410 nm from a semiconductor laser as an irradiation source.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device capable of forming a low-resistance metallic semiconductor contact with an excellent reproducibility and excellent adhesive properties, by using a lift-off method proper to the formation of a fine pattern without an oxidation process and a heat treatment process; and to provide the semiconductor device manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

酸化工程や熱処理工程を行うことなく、微細パターン形成に適したリフトオフ法を用いて低抵抗金属半導体接触を密着性良く、かつ再現性良く形成することが可能な半導体装置の製造方法及びその製造方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated polyester film for a decorative plate or a decorative sheet causing no environmental problem during the incineration and showing excellence in a high design surface or an emerging appearance of a picture pattern without an effect of a color tone of a base material and without conspicuous unevenness of interference in view from a clear hard coat surface.例文帳に追加

焼却時に環境問題を生じることがなく、基材の色調による影響を受けることもなく、クリアなハードコート表面から見たときに干渉ムラが目立たずに、高意匠の表面あるいは絵柄模様の現出外観に優れる化粧板または化粧シート用積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting apparatus and its method for sensitively and quickly inspecting defects, such as minute foreign particles, flaws, etc. of the order of 0.1μm on an inspection substrate, such as a wafer having a transparent thin film on a surface, a wafer having a circuit pattern, etc.例文帳に追加

表面に透明薄膜が形成されたウェハ等の被検査対象基板はもとより、回路パターンを有するウェハ等の被検査対象基板に対して、０．１μｍレベルの微小な異物やキズ等の欠陥を、高感度で、しかも高速に検査できるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To obtain a photosensitive resin composition which suppresses peeling of a pattern from a substrate after development of a photoresist in a process for producing electronic parts such as a semiconductor element, is excellent also in shelf life stability in the solution state and has good heat resistance and adhesiveness to a base material after heating at a high temperature.例文帳に追加

本発明は、半導体素子等の電子部品の製造工程におけるフォトレジストの現像後の基板からのパターンの剥がれを低減し、溶液状態での保存安定性にも優れ、更に高温加熱処理後において良好な耐熱性と基材への接着性を有する感光性樹脂組成物を提供するものである。 - 特許庁

The method for patterning on the surface of the rock wool board comprises the steps of forming the stripe-like grooves 2 on the surface of the rock wool board 1 by cutting, and thereafter continuously pressing the stripe-like rugged part by the patterning roll 5 having the pins 4 of different diameters and protruding lengths and implanted thereto to form the rugged pattern 6.例文帳に追加

ロックウール基板１の表面にストライプ状の凹溝２を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部に直径、突出長さの異なるピン４を植設した模様付けロール５で連続的に押圧して凹凸模様６を形成することを特徴とするロックウールボードの表面模様付け方法にある。 - 特許庁

To provide a doll toy for infants that excretes a false drink drunk from the mouth from the lower part of the body, that makes normally invisible color or pattern appear by moisture associated with excretion, and returns to an aspect shown in the original normal state by drying of the moisture.例文帳に追加

口部より飲んだ模擬飲料を体部下方より排泄させる玩具において、排泄時の水分により、常態では不可視の色又は模様を現出させ、水分の乾燥により、元の常態で呈する様相に戻る、繰り返しの変色遊びが安心して楽しめる、幼児向け人形玩具を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for spraying particulate capable of definitely suppressing the spraying of the particulate over a portion that is not required and stably forming an arbitrary spraying pattern that is clear-cut even if the particulate is being sprayed at a high speed over a fiber assembly conveyed with a conveyance belt.例文帳に追加

搬送ベルトにより搬送されてくる繊維集合体上に粉粒体を高速で撒布しても、撒布の不要な部分への粉粒体の撒布を確実に抑えると共に、鮮明な輪郭を有する任意の撒布パターンを安定して形成できる、粉粒体の撒布方法および装置を提供する。 - 特許庁

Then, light emitted from a light source 8 provided over the base 14 is reflected against the surface of the ball through the hole for light guide of the sensor 7 and the fibers 4 and received by the sensor 7 through the fibers 4 again, and the turning direction and turning quantity of the ball 2 are detected from the light receiving pattern.例文帳に追加

そして、透明ガラス基板１４の上方に設けられた光源８から照射されれる光がセンサ７の導光用の孔とファイバ４とを通過しボール２の表面により反射され、再びファイバ４を通過しセンサ７によって受光され、その受光パターンからボール２の回転方向及び回転量を検出する。 - 特許庁

The ITO wiring 2 in a thin film multilayer wiring electrode pattern has a narrow part 2p between a terminal part 2c to be electrically connected to the wiring conductor of a film substrate and the substrate end face 1e of a TFT substrate 101, so as to connect a test probe for the display inspection of a liquid crystal panel single body.例文帳に追加

薄膜多層配線電極パターンのＩＴＯ配線２は、フィルム基板の配線導体に電気的に接続される端子部２ｃとＴＦＴ基板１０１の基板端面１ｅとの間に、液晶パネル単体の表示検査の際にテスト用プローブを接続するための狭小部２ｐを有している。 - 特許庁

To provide a monomer polymer and an organic composition containing the same for forming an organic anti-reflection film which absorbs a light-exposing origin between a layer to be etched and a photoresist film in order to prevent a pattern disintegration under the influence of a standing wave generated at the lower part of a photoresist film at the time of a photolithographic processing.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィ工程時にフォトレジスト膜の下部で発生した定在波の影響によるパターンの崩壊を防止するために、被エッチング層とフォトレジスト膜との間で露光源を吸収する有機反射防止膜形成用単量体、重合体及びこれを含む有機組成物が開示される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an excellent heat dissipating property and a superior efficiency on a manufacture, also having neither deterioration of a reliability nor generation of a voltage potential in a heat sink because a heating and a partial high temperature are not generated in a junction among a circuit pattern and an electrode and a lead for a semiconductor.例文帳に追加

回路パターン及び半導体の電極とリードとの接合に加熱や局所的な高温を発生させることがないことで、信頼性を劣化させることがなく、また放熱板に電位を生じさせることがないことで、放熱性が良く、更に製造効率の良い半導体装置の提供を課題とする。 - 特許庁

The mask for exposure has physical developing nuclei on the transparent substrate, forms a circuit pattern using a silver film obtd. by dissolving a silver halide and receiving an image by the physical developing nuclei in development as a light shielding film and has a protective coat contg. at least a metal oxide component on the light shielding film.例文帳に追加

透明基板上に物理現像核を有し、ハロゲン化銀が溶解され、現像時に該物理現像核によって受像して得られる銀膜を遮光膜として、回路パターンを形成する露光用マスクにおいて、該遮光膜の上部に少なくとも金属酸化物成分を含む保護膜を有する事を特徴とする露光用マスク。 - 特許庁

To relieve the burden on an operator when rejection is caused and to attain a high speed and highly precise character recognition processing in a character recognizing device for performing feature extraction from a character pattern of a document image having an area where handwritten characters and typed characters are entered mixedly and performing character recognition by being collated with a recognition dictionary.例文帳に追加

手書き文字と活字文字が混在して記入される領域を有する文書画像の文字パターンから特徴抽出を行ない、認識辞書との照合によって文字認識を行なう文字認識装置で、リジェクトが発生したときのオペレータの負担を軽減し、高速で高精度な文字認識処理を可能とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor test circuit for remarkably reducing an amount of a scanning test pattern and shortening a full scanning test time by modifying the constitution of an inside scanning chain at any time without increasing a test terminal and remarkably shortening a once-scanning shift action period in an LSI full scanning design, and to provide its test method.例文帳に追加

ＬＳＩのフルスキャン設計において、テスト端子を増加させずに、内部スキャンチェーンの構成を随時変更し、１回のスキャンシフト動作期間の大幅な短縮を行うことで、スキャンテストパターン量の大幅な削減とフルスキャンテスト時間の短縮を可能とする半導体テスト回路及びそのテスト方法を提供する。 - 特許庁

A transparent glass substrate 7 formed with a transparent conductive membrane is placed and set on a stage, and a laser beam is irradiated on the transparent conductive membrane formed on the transparent glass substrate 7 corresponding to an electrode pattern for one cell through a mask 5 with a hole formed having a part corresponding to a discharge gap 11 formed at a center.例文帳に追加

透明導電性膜が形成された透明ガラス基板７をステージ上に載置し、１セル分の電極パターンに対応し、放電ギャップ部１１に対応する部分が中央部に設けられた孔が形成されているマスク５を介して、透明ガラス基板７上に形成された透明導電性膜にレーザ光を照射する。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material of a multilayer resist film used in lithography, for forming a resist underlayer film capable of reducing reflectance, having high etching resistance, high heat resistance and solvent resistance, and free of the occurrence of twist particularly in the etching of a substrate; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a pad oxide film on a semiconductor substrate, forming a silicon nitride film on the pad oxide film, and providing a resist pattern containing at least one droplet capturing area in plan view, in an area that serves as a scribe line on the silicon nitride film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板上にパッド酸化膜を形成する工程と、パッド酸化膜上にシリコン窒化膜を形成する工程と、シリコン窒化膜上のスクライブラインとなる領域に平面から見て少なくとも１つの水滴捕獲領域を含むレジストパターンを設ける工程とを有している。 - 特許庁

In the information display medium having a recording layer containing a photochromic compound on at least part of a substrate and used as a display medium for confidential information, before recording the confidential information in the medium, a pattern of an arbitrary shape is recorded or erased in the recording layer.例文帳に追加

基板上の少なくとも一部にフォトクロミック化合物を含んだ記録層を有し、機密情報の表示媒体として用いる情報表示媒体であって、前記機密情報が前記媒体に記録される以前に、任意形状のパターンが記録層に記録・消去されていることを特徴とする機密情報表示媒体。 - 特許庁

In the method for forming the pattern, a photoresist layer 12 that allows heat-mode deformation is irradiated with condensed light to form a plurality of concave portions 15, wherein the photoresist layer is irradiated with light to form the concave portion 15 while air which is an inactive gas to the photoresist layer 12 is blown and moved on the photoresist layer 12.例文帳に追加

ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 - 特許庁

Further, an address setting section 157 repeats addition and subtraction for an initial value in matching with an output pattern of the pixel data by the analog front end IC to calculate a pixel position of each of the pixel data and sets a memory address corresponding to the pixel position to an address register RR as a write destination memory address of the pixel data.例文帳に追加

また、アドレス設定部１５７は、アナログフロントエンドＩＣによる画素データの出力パターンに合わせて、初期値に対し加減算を繰り返すことにより、各画素データの画素位置を算出し、画素位置に対応するメモリアドレスを、その画素データの書込先メモリアドレスとして、アドレスレジスタＲＲに設定する。 - 特許庁

The target substance detecting element is used for detecting a target substance in a specimen using a plasmon resonance method and has a substrate, the metal thin film formed on the substrate, the dielectric layer formed on the metal thin film and the metal pattern layer formed on the dielectric layer.例文帳に追加

検体中の標的物質をプラズモン共鳴法を利用して検出するために用いられる素子であって、基板と、該基板上に形成された金属薄膜と、該金属薄膜上に形成された誘電体層と、該誘電体層上に形成された金属パターン層とを有する標的物質検出素子。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed board which can manufacture a circuit pattern with higher accuracy than that of a resist to be printed and formed by silk printing, or can use a high viscosity resist as the resist is printed on copper surface of the printed board by a gravure printing roll to be then etched or plated.例文帳に追加

グラビア印刷用ロールによりプリント基板の銅表面へレジストを印刷してその後、エッチングするか又はメッキするものであるので、シルク印刷によりレジストのパターンを印刷形成するよりも高精細な回路パターンを製作することができ、又、高粘度レジストを用いることができるプリント基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a heat resistant resin paste capable of exhibiting a thixotropic property without using a filler such as silica fine particles or insoluble polyimide fine particles, forming a uniform thick film pattern excellent in reliability without having voids or bubbles by a screen printing method, having less dust or ionic impurities and also excellent in productivity.例文帳に追加

シリカ微粒子や非溶解性ポリイミド微粒子などのフィラーを用いなくてもチキソトロピー性を発現でき、スクリーン印刷法で空隙や気泡のない信頼性に優れる均一な厚膜パターンを形成でき、塵やイオン性不純物が少なくかつ生産性に優れる耐熱樹脂ペーストの製造方法。 - 特許庁

In an aligner that lights up a mask by lighting luminous flux having coherent anisotropy, and projects and exposes the pattern of a mask surface onto the light-sensitive substrate by a projection optical system, time for lighting up the light-sensitive substrate is adjusted, thus eliminating the illuminance disturbance that is periodically generated on the light-sensitive substrate.例文帳に追加

コヒーレンスの異方性を有する照明光束でマスクを照明し、該マスク面のパターンを投影光学系によって感光基板上に投影露光する露光装置において、前記感光基板に照明する時間を調整することにより、前記感光基板上に周期的に発生する照度外乱をなくすように構成する。 - 特許庁