DEFECT ORの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2817件
To provide a system and a method enabling repair of a defect manually or without operator intervention by automatic return of a material stationing machine to a defective part.例文帳に追加
材料配置機械が欠陥部分に自動的に戻り、手動による欠陥修復を可能にするか、または、オペレータの介入なしに欠陥を修復することを可能にする、システムおよび方法を提供する。 - 特許庁
To provide a transfer sheet which keeps a patterned metal thin film excellent in corrosion resistance, wrinkles and adhesion defect hardly occur during producing and prevents wrinkles or cracks from occurring in a transfer layer under a high humidity environment.例文帳に追加
パターン化された金属薄膜が耐腐食性に優れ、製造時にシワや密着不良などが生じ難く、高湿度環境下で転写層にシワやひび割れが発生しない転写シートを提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a silicon wafer, which can reduce or eliminate a local irregularity defect on a surface of the silicon wafer caused by polishing, thereby improving the yield of a device.例文帳に追加
研磨に起因したシリコンウェーハの表面の局所的な凹凸欠陥を縮小または消滅でき、これによりデバイスの歩留まりを高めることが可能なシリコンウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁
To detect the projection defect of a surface in the manufacturing line or the like of a material of continuous length such as a sheet and a tubing accurately with a simple device and with low detection costs and maintenance costs.例文帳に追加
シートや管材等の長尺材の製造ライン等で、その表面の突起欠陥の検出を、簡単な装置により、精度よく、かつ安価な検出コストおよびメンテナンスコストで行うことを可能にする。 - 特許庁
To prevent the generation of a micro pattern defect or dust and to prevent the abrupt deterioration of a chemical filter even if the concentration of chemical contaminants contained in air in a clean room is increased.例文帳に追加
クリーンルームの空気中に含まれる化学汚染物質の濃度が高くなっても、微細なパターン欠陥又は異物の発生を防止できるようにすること及び化学フィルタが急激に劣化しないようにする。 - 特許庁
To provide a document reader by which the occurrence of an abnormal image is prevented by preventing the occurrence of defect due to paper powder, a dust or the like on a contact glass without largely changing the existing state of the constitution of a document reader.例文帳に追加
現状の原稿読取装置の構成を大きく変えることなく、コンタクトガラス上の紙粉・ゴミ等による不具合を防止し、異常画像の発生を防止できる原稿読取装置を提供する。 - 特許庁
The correction method for the color filter in which pixels or pixels and black matrix are formed is characterized by specifying a defect of the pixels or color filter, grinding and removing the minimum area including the defect, and forming a color layer into the ground and removed part by the use of the correction color for the color filter, the color layer having a color identical to that of the ground part.例文帳に追加
画素、または画素とブラックマトリックスとが形成されたカラーフィルターにおいて、上記画素またはカラーフィルターに存在する欠陥個所を特定し、該欠陥箇所を含む微小面積を研削除去し、該研削除去部分に、研削された個所と同色の着色層をカラーフィルター補修用カラーを用いて形成することを特徴とするカラーフィルターの補修方法、およびカラーフィルター補修用カラー。 - 特許庁
The method for reforming the surface quality of the copper wire or the copper alloy wire for manufacturing the ultrafine wire comprises the steps of: dissolving and removing the surface defect of the copper wire or the copper alloy wire; and plating it with copper or a copper alloy.例文帳に追加
極細線を製造するための銅線或いは銅合金線であって、前記銅線或いは銅合金線の表面欠陥を溶解除去した後、ついで銅めっき処理または銅合金めっき処理を行う極細線製造用の銅線或いは銅合金線の表面性状改質方法とすることによって、解決される。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus such as a printer, a copying machine or an ink jet printer which performs control by automatically selecting an image forming condition in accordance with a medium by a medium detection sensor and which is prevented from causing an image defect or the like even when the medium detection sensor breaks down because of disconnection or short-circuit.例文帳に追加
メディア検知センサにより、メディアに応じた画像形成条件を自動的に選択し制御を行うプリンタ、複写機、あるいはインクジェットプリンタ等の画像形成装置において、メディア検知センサが断線やショートにより故障しても、画像不良等の発生しない画像形成装置を提供する。 - 特許庁
A CPU or the like of the product electrically reads the defect information or the like of the solid state imaging element A via the terminals P1-P5 in an assemble process or the like of the imaging equipment into which the solid state imaging apparatus 100 is incorporated so as to enable the adjustment operations for every product to be automatically executed based on the information.例文帳に追加
固体撮像装置100を組み込んだ撮像機器の組み立て工程等において、その製品のCPU等が、端子P1〜P5を介して固体撮像素子Aの欠陥情報等を電気的に読み取り、それらの情報に基づく製品毎の調整作業を自動的に実施可能にする。 - 特許庁
The sheet 31 for evaluating the performance of the printed matter inspecting apparatus is configured by printing a picture or a character on one side or both sides thereof, in order to quantitatively carry out the performance evaluation or a calibration of the printed matter inspecting apparatus 2 used for inspecting a defect of a printed matter.例文帳に追加
本発明に係る印刷物検査装置の性能評価シート31は、印刷物の欠陥を検査する印刷物検査装置20の性能の評価又は校正を定量的に行うために片面又は両面に絵柄又は文字が印刷にされた印刷物検査装置の性能評価シートである。 - 特許庁
Consequently, while the bonded strength (metallized strength) of the conductor 12 is ensured, the precipitation of a glass component or an inorganic additive onto the surface of the conductor 12 is suppressed, and its is possible to prevent generation of a swell or air bubbles on the surface of the conductor 12 and generation of a defect on an external appearance such as pinholes or the like.例文帳に追加
これにより、Au表層導体12の接合強度(メタライズ強度)を確保しながら、Au表層導体12の表面へのガラス成分や無機添加物の析出を抑えると共に、Au表層導体12の表面に膨れや発泡、ピンホール等の外観上の欠陥が生じることが防止される。 - 特許庁
The semiconductor is equipped with one or more perfect or partial spare function units, when a defect of the auxiliary function unit which is accumulated to form the semiconductor is detected, its auxiliary function unit is changed so as to be replaced with an auxiliary function unit in a perfect or partial spare function unit.例文帳に追加
半導体は、完全または部分的な1つ以上のスペア機能ユニットを備え、当該スペア機能ユニットは、半導体へと集積される、副機能ユニットの欠陥が検出されると、その副機能ユニットは、切り替えられて、完全または部分的なスペア機能ユニットにおける副機能ユニットと、置き換えられる。 - 特許庁
The Controller may on the application in the prescribed manner of any person aggrieved by the non-insertion in or omission from the register of designs of any entry, or by any entry made in such register without sufficient cause, or by any entry wrongly remaining on such register, or by an error or defect in any entry in such register, make such order for making, expunging or varying such entry as he thinks fit and rectify the register accordingly.例文帳に追加
意匠登録簿への不登録若しくは脱落,又は当該登録簿に十分な理由なしにされた登録,又は当該登録簿に不正に存続している登録,又は当該登録簿への登録における誤記若しくは欠陥を不服とする者が所定の方法により申請したときには,長官は,自己が適当と認めるように登録をし,削除し,若しくは変更する命令を発し,かつ,相応に登録簿を更正することができる。 - 特許庁
The metal ring inspection apparatus having a defect inspection section for inspecting the surface defects of a metal ring after performing both of or one of perimeter correction and perimeter measurement comprises a determination reference generation means (threshold value selection section 49) for generating generating criteria for inspecting defects at the defect inspection section, on the basis of perimeter correction information or perimeter measurement information or other pieces of information related to the information.例文帳に追加
周長補正と周長測定の両方又はいずれか一方を行った後の金属リングの表面欠陥を検査する欠陥検査部を有する金属リング検査装置において、前記欠陥検査部における欠陥検査のための判定基準を、周長補正情報又は周長測定情報若しくはそれらの情報に密接に関連する他の情報に基づいて発生する判定基準発生手段(しきい値選択部49)を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
A first binary image value is outputted if the image address does not match the defect image address of each original image, otherwise the difference value is analyzed for '1' or '0' and the timing for outputting the first or second image data is determined.例文帳に追加
この画像アドレスが元の各画像の欠陥画像アドレスと一致しないときは第1の二値画像値が出力され、アドレスが等しいときは差値が「1」または「0」に対して解析されて第1または第2の画像データがいつ出力されるべきかを決定する。 - 特許庁
The varnish includes a wetting additive that has a strong affinity for the fuser oil on a substrate, thus providing defect-free wetting of prints, with the additional benefit of low or no showthrough or grease marks on the substrate.例文帳に追加
このワニスは、基板の上にあるフューザー油に対し、強い親和性を有する濡れ添加剤を含んでいる為に、印刷物に対し、欠陥のない濡れ性を付与し、基板上に裏透けまたは油の染みがあまり存在しないか、またはまったく存在しないという利点を与える。 - 特許庁
The hollow part 12 is set to have a plurality of kinds of widths, so that sectional areas can be made different from one another; and the mass per unit area or rigidity is made nonuniform, for example, by a difference in mutual separation distance between bulkhead parts 13 or the thicknesses of the bulkheads 13, so that the sound insulation defect can be suppressed.例文帳に追加
中空部12の幅が複数種となるようにして断面積を異ならせる他、隔壁部13の相互離間距離若しくは厚みを異ならせること等によって面密度若しくは剛性を不均一として遮音欠損を抑制することができる。 - 特許庁
When there is nondefect in the first and second transfers 150a, 150b, a specified pattern is displayed on the liquid crystal panel, however, when there is defect in the first or second transfer 150a or 150b, a pattern different from that in the normal state is displayed.例文帳に追加
第1及び第2のトランスファー150a,150bに欠陥がないときには液晶パネルに特定のパターンが表示されるが、第1のトランスファー150a又は第2のトランスファー150bに欠陥がある場合は、正常時と異なるパターンが表示される。 - 特許庁
To provide a storage box that prevents the occurrence of turn-up or chip of a cleaning blade when it is used in an electrophotographic device and prevents the occurrence of an image defect such as strips or unevenness even when an electrophotographic photoreceptor and electrophotographic photoreceptor unit are stored for a long time.例文帳に追加
電子写真感光体および電子写真感光体ユニットを長期にわたり保管しても、電子写真装置で使用する際にクリーニングブレードのめくれや欠けが発生することなく、スジやムラ等の画像欠陥が発生しない保管箱を提供する - 特許庁
To provide management method of an etching liquid, by which a removal defect of a transparent conductive film caused by overlooking a time point for supplement or exchange of the etching liquid is not generated when a dummy substrate is subjected to acid treatment in regeneration of a color filter or dummy substrate; and to provide a glass substrate-regenerating device.例文帳に追加
カラーフィルタ又はダミー基板の再生にて、ダミー基板を酸処理に投入した場合、エッチング液の補充或いは更新の適切な時点を見過ごし、透明導電膜の除去不良を発生させないエッチング液の管理方法、ガラス基板再生装置。 - 特許庁
In a semiconductor substrate where an SiGe layer 2 is formed on an Si substrate 1, a crystal defect region 6 or a structure region 6a for facilitating generation or concentration of dislocation is formed on the interface of the Si substrate 1 and the SiGe layer 2.例文帳に追加
Si基板1上に、SiGe層2が積層された半導体基板において、Si基板1とSiGe層2との界面に、転位を発生あるいは集中し易くするための結晶欠陥領域6あるいは構造領域6aが形成されている。 - 特許庁
To provide an image display device for effectively preventing abnormal display from being caused by corrosion, disappearance or the like of a detecting electrode or a lead wiring conductive film (e.g. Cr) on a wiring terminal part when the defect of a display part is inspected, with a simple constitution.例文帳に追加
表示部の欠陥検査時に、配線端子部にある検査用電極や引出配線用導電膜(例えばCr)の腐食、消失等によって表示異常が生じるのを、簡単な構成で効果的に防止できる画像表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image processor capable of changing a hard-to-view object to an easy-to-view object for the display contents of a main body or print for a user with a defect in color perception or a user with the hard-to-view object, and to provide a control method of the image processor.例文帳に追加
色覚障害等のユーザ、または、見難い物があるユーザにとって、本体の表示内容または印刷について、見難い物を見易い物に変更することができる画像処理装置及び画像処理装置の制御方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an image forming method that is superior in rubfastness and prevents an occurrence of an image defect such as a scratch in an image or the like when a number of recording media are processed at high speed such that conveyance speed of the recording media with respect to an ejecting head is 200 mm/sec or more.例文帳に追加
吐出ヘッドからみて記録媒体の搬送速度が200mm/sec以上となる高速で多数枚処理する際に、優れた耐擦過性を示し、画像中の傷等の画像欠陥の発生が防止された画像形成方法を提供する。 - 特許庁
To prevent or suppress a defect of a print accommodator and a printing apparatus due to a short-circuit of a detecting circuit and the other circuits in the printing apparatus which has the detecting circuit for detecting the presence or the absence of the kind of the print accommodator and the mounting thereof.例文帳に追加
印刷収容体の種類や装着の有無等を検出する検出回路を有する印刷装置において、検出回路と、印刷装置の他の回路との短絡による印刷収容体および印刷装置の不具合を防止または抑制する。 - 特許庁
To determine, even if minute irregularity is made at an irradiation position of light in the surface of an object, while eliminating an influence of the irregularity, whether or not a defect of a foreign substance equal to or higher than a predetermined height exists on the surface of the object.例文帳に追加
対象物の表面における光の照射位置に微小な凹凸が形成されている場合でも、この凹凸の影響を排除しつつ、予め規定された高さ以上の異物欠陥が対象物の表面上に存在するか否かを判定する。 - 特許庁
To resolve the problem that a fault occurs due to dropping of coffee at the time of using an electronic device indoors or rainfall or the like at the time of using it outdoors because water reaches an electronic device circuit part through a keyboard and the problem that a defect of key touch occurs due to accumulation of dust in a keyboard operation part.例文帳に追加
電子機器を屋内で使用する時のコーヒー落下、屋外で使用する時の降雨等により、キーボードを通して水が電子機器回路部に到達して、故障が発生すると共にキーボード操作部にごみがたまり、キータッチ不良が発生する。 - 特許庁
To provide an information input method using a touch control, wherein a defect that erroneous input is induced because a user himself or herself doesn't know whether a proper input is performed or not when performing an input by touch control input is resolved without reducing the convenience.例文帳に追加
タッチコントロール入力で入力する際に、適切に入力されているかを利用者自身が分からないために、誤入力を誘発してしまう欠点を、利便性を低下させることなく解決したタッチコントロールによる情報入力方法を提供する。 - 特許庁
To make high-quality correction of a defect possible even in a fine region where an etching gas or a source gas of a light-shielding film can not be efficiently supplied, without causing decrease in transmittance due to a Ga stain or changes in physical properties due to changes in the element content of the light-shielding film.例文帳に追加
エッチングガスや遮光膜原料ガスを効率的に供給できない微細領域でもGaステインによる透過率の低下や遮光膜の元素含有量の変化による物性の変化が起こらない高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
To provide a metal layered resin film for a plane antenna, with which a high-quality plane antenna can be obtained without incurring any defect such as peeling or pinhole in a portion constituting a circuit pattern even when providing a thick aluminum metal layer whose layer thickness is 1 μ or more.例文帳に追加
層厚1μ以上の厚いアルミニウム金属層を設ける場合であっても、回路パターンを構成する部分に剥がれやピンホールなどの欠点が発生することなく、良質な平面アンテナを得られる平面アンテナ用金属積層樹脂フィルムを提供すること。 - 特許庁
To provide a medium for an MLC display and an IPS, TN or STN display having no defect of conventional technologies or much decreased in degree thereof even if having, and preferably having at the same time a very large resistance and a low threshold voltage.例文帳に追加
従来技術の欠点を有さないか、または有しても程度が低減されていて、しかも好ましくは同時に極めて大きい抵抗値および低いしきい値電圧を有するMLCディスプレイ、IPS、TNまたはSTNディスプレイ用の媒体の提供。 - 特許庁
To provide a method for controlling the precision removal of an unnecessary material from a substrate capable of transmitting light for the separation and removal of a defect from the surface of the substrate, for direct writing in a reticle or photomask and for the resulting reticle or photomask.例文帳に追加
光透過可能基板の表面から欠陥を分離して除去するため、ならびにレチクルまたはフォトマスクの直接書込みと得られたレチクルまたはフォトマスクのために、光透過可能基板からの不要な材料の精密除去を制御する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a reflective film composed of an Ag-based alloy, which never causes a whitened portion or roughing of the whitened portion while having high reflectivity even when a defect is present in the film, and to provide a sputtering target material or a vapor deposition material for forming the same.例文帳に追加
高い反射率を有しながら、膜に欠陥が存在していても、白濁部が発生したり白濁部が粗大化しないAg基合金からなる反射膜およびそれらを形成するためのスパッタリングターゲット材または蒸着材料を提供すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a composite substrate preventing a light emission abnormal point by processing only a part of a defect caused by foreign matter such as dust or dirt involved by dielectric printing or the like after baking, and having a high yield; and to provide the composite substrate and an EL element.例文帳に追加
誘電体印刷などにより巻込まれた塵、埃等の異物により生じた欠陥を、焼成後にその部分だけ処理することによって、発光異常点を防ぎ、歩留まりのよい複合基板の製造方法、複合基板、およびEL素子を提供する。 - 特許庁
As an oxide which contains an activated metal and a rare earth element which is variable in oxidation number, an oxide CeO_2 or Pr_6O_11, a composite oxide of Ce and Zr, or a composite oxide of Ce, Zr and Y is activated with a reductive gas at a high temperature to introduce an oxygen defect.例文帳に追加
活性金属と酸化数変化の可能な希土類元素を含有する酸化物としてCeO_2又はPr_6O_11の酸化物又はCeとZrの複合酸化物又はCeとZrとYの複合酸化物とし、これを高温で還元性ガスにより活性化処理して酸素欠陥を導入する。 - 特許庁
At this time, if the film thickness of each layer is made so thick as the wavelength of the de Broglie wave or is made equal to or less than a "critical film thickness", its lattice constant can be brought close to that of the substrate by applying compressive stress to each of the layers without causing any crystal defect.例文帳に追加
この時に、各層の膜厚を電子のド・ブロイ波の波長程度、あるいは「臨界膜厚」以下とすれば、結晶欠陥を発生させることなく各層に圧縮応力を印加してその格子定数を基板のそれに近づけることができる。 - 特許庁
To provide a polishing cloth capable of suppressing the occurrence of a defect (e.g., flaws or scratches or the like caused after mirror polishing) on the surface of a silicon wafer due to grooves of the polishing cloth which may be caused at the mirror polishing by contriving the shape of the grooves.例文帳に追加
溝形状を工夫することにより、鏡面研磨時に発生する恐れのある、溝に起因するシリコンウェーハ表面の欠陥(たとえば、鏡面研磨後に発生するキズやスクラッチ等)の発生を抑制することができるシリコンウェーハ研磨布を提供する。 - 特許庁
The center position of the light transmitted through the frequency cut filter and the diffraction mask is shifted from the center of the defect detection region in the plate as an object by a distance from one third or more to a half or less of a viewing field of the imager.例文帳に追加
そして、前記周波数カットフィルタ及び回折マスクを透過した光の中心位置が、対象とする板状体の欠陥検出部位の中心から前記撮像装置の視野範囲の1/3以上1/2以下に相当する距離ずらすことを特徴とする。 - 特許庁
To provide an unbaked sheet winding method capable of accurately winding up an unbaked sheet such as a green sheet without generating flaws or holes on the unbaked sheet at the time of winding up the unbaked sheet around a roll body, and to provide a method for manufacturing electronic components prevented from the occurrence of a short circuit defect or the like.例文帳に追加
ロール体への巻き取りに際して、グリーンシートなどの焼成前シートに傷や孔が生ぜず、精度良く巻き取りが可能な焼成前シートの巻き取り方法と、短絡不良などが生じない電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a reflective sheet which hardly causes damage or the like caused by contact of the reflective sheet with a light guide plate even when vibration or pressurization is applied and which has little possibility of causing defect such as a white dot on a liquid crystal display screen and further to provide a method for manufacturing the reflective sheet at a low cost.例文帳に追加
低コストで、振動や押圧をかけても反射シートと導光板との接触による損傷等が生じ難く、液晶表示面に白点等の不具合を生じさせるおそれが少ない反射シート、及び該反射シートの製造方法を目的とする。 - 特許庁
To provide a magnetic resonance imaging apparatus with which a position of a tomogram can be shifted by a BO shift and an influence of a fat suppression defect or the like can be reduced without a major modification of a hardware such as an iron shim or the like, and a magnetic resonance imaging data processing method.例文帳に追加
鉄シム等のハードウェアを大幅に改修することなく、B0シフトによる断層画像位置のシフトや脂肪抑制不良等の影響を低減させることが可能な磁気共鳴イメージング装置および磁気共鳴イメージングデータ処理方法である。 - 特許庁
Heat treatment is performed at about 300-500°C for about 5-60 minutes in a hydrogen atmosphere diluted by hydrogen or nitrogen as first heat treatment, and a defect produced by the MOS transistor, an insulation film formation process or the like is restored.例文帳に追加
その後、第1の熱処理として水素、又は窒素等で希釈された水素雰囲気中にて、300乃至500℃程度の温度で、5乃至60分間程度の熱処理し、MOSトランジスタ及び絶縁膜形成工程等によって生じる欠陥を回復する。 - 特許庁
To provide an evaluating method simply introduced in a fabricating process so as to evaluate whether an epitaxial defect in a process of epitaxial growth of an epitaxial wafer arises or not at the stage of a silicon wafer or a silicon monocrystal before the process of epitaxial growth.例文帳に追加
エピタキシャルウエーハのエピタキシャル成長プロセスにおいてエピ欠陥が発生するか否かを、エピタキシャル成長プロセス前のシリコンウエーハあるいはシリコン単結晶の段階において、製造工程に取り入れられるほどの簡便さで評価する方法を提供する。 - 特許庁
To precisely detect an image defect caused by a foreign matter deposited on a film, a flaw in the film, a foreign matter deposited on a reading system for reading the film or a photographing system for photographing a subject, or the like, without making erroneous detection.例文帳に追加
フィルムに付着した異物、フィルムに付いた傷、フィルムを読み取る読取系または被写体を撮影する撮影系に付着した異物等に起因する画像欠陥を、誤検出なく高精度に検出することができる画像欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁
An organic layer forming part 110 forming an organic layer, a second electrode forming part 120 forming a boundary layer and a second electrode, and a defect inspection part 130 inspecting defect in vacuum or in an inert gas atmosphere are combined through a middle chamber 140 and a base plate transferring mechanism 160 without being exposed in the air.例文帳に追加
有機層を形成する有機層成膜部110と、界面層および第2電極を形成する第2電極成膜部120と、真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で欠陥検査を行う欠陥検査部130とが、中間室140および基板授受機構160を介して大気開放せずに結合されている。 - 特許庁
To solve the problem that leakage in extraction and omission of check of quality defect information in relation to circuit data occur in designing in partly reuse of circuit data, since linking of the information such as quality defect of products which becomes clear after the completion of design and a circuit block or a circuit module of low order hierarchy which constitute the circuit has not been made.例文帳に追加
製品の品質不良などの設計完了後に明確になる情報と、回路を構成する下位階層の回路ブロックや回路モジュールとはリンク付けがされておらず、回路データを部分的に再利用した設計時に、再利用する回路データに関連する品質不良情報の抽出漏れおよび確認抜けが発生する。 - 特許庁
Even when a defect is developed by a reaction with a metal component derived from sources other than the hydrogen permeation membrane 14 at any one of the hydrogen permeation membranes 14, the reaction or the defect can be prevented from having an effect on the other hydrogen permeation membrane 14 because the hydrogen permeation membranes 14 are separated from each other by the porous layer 15 made of components that are not reacted with the hydrogen permeation membranes 14.例文帳に追加
水素透過膜14同士を水素透過膜14と反応しない成分で構成される多孔質層15にて隔てたので、いずれかの水素透過膜14で、水素透過膜14以外から由来した金属成分との反応による欠陥が発生しても、この反応又は欠陥が他の水素透過膜14に影響するのを防止できる。 - 特許庁
A compound represented by general formula (1) or a salt thereof exhibits excellent ameliorating effects in a keratoconjunctival trouble model, and is useful as the agent for treating the keratoconjunctival troubles such as dry eye, corneal ulcer, keratitis, pinkeye, superficial punctate keratitis, corneal epithelial defect, conjunctival epithelial defect, keratoconjunctivitis sicca, superior limbic keratoconjunctivitis, filamentary keratitis.例文帳に追加
下記一般式(1)で表される化合物またはその塩は、角膜障害モデルにおいて優れた改善効果を発揮し、ドライアイ、角膜潰瘍、角膜炎、結膜炎、点状表層角膜症、角膜上皮欠損、結膜上皮欠損、乾性角結膜炎、上輪部角結膜炎、糸状角膜炎などの角結膜障害の治療剤として有用である。 - 特許庁
In the extraction of planning pattern data, a predetermined range of respective X and Y including defect coordinates is calculated at every defect by a control calculator 110 and a cluster or cell data wherein the origin is present within a predetermined range is subsequently extracted from the planning pattern data read from a first magnetic disk drive 109a to form an output file.例文帳に追加
設計パターンデータの抽出は、欠陥一つ毎に、制御計算機110が欠陥座標を包含するX、Yそれぞれの所定範囲を算出し、次いで、第1の磁気ディスク装置109aから読み出した設計パターンデータから、所定範囲内に原点が存在するクラスタまたはセルデータを抽出して出力ファイルを作成する。 - 特許庁
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|