「さあさあ」に関連した英語例文の一覧と使い方(136ページ目) - Weblio英語例文検索

材質がフッ素樹脂で構成されてなり、押出成形法で成形されたチューブと、前記チューブの表面１ａに表面粗さＲｚの値が４５ｎｍ以上１６５ｎｍ以下とする表面処理がされたマーキング部７と、を有することを特徴とするマーキング部付きフッ素樹脂チューブ１を用いることにより、上記課題を解決できる。例文帳に追加

The fluororesin tube 1 with the marking section is a tube whose material is constituted of a fluorine resin and which is extrusion-molded, having a marking section 7 which is a part of the surface 1a of the tube surface-treated and whose surface roughness Rz is 45 to 165 nm, which allows marking on the fluororesin tube 1 with the marking section. - 特許庁

基板表面の最大突起粗さＲｐ、うねりＷａが小さく、向上した平坦度ＦＴをそなえ、機械的ポリッシュ加工により表面に残留した研磨スラリー、洗剤シミなどの汚れが除去されて、欠陥のない高密度化の磁気メモリーディスクを得ることを可能とする磁気メモリーディスク用ポリッシュ基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To produce a polished substrate for a magnetic memory disk having small maximum projection roughness Rp, small waving Wa and enhanced flatness FT of the surface, freed of contaminants such as an abrasive slurry remaining after mechanical polishing and blotches of a detergent and capable of giving a defect-free high density magnetic memory disk. - 特許庁

略同じ位置にある２つの光源から出射された発散光がコリメータレンズに入射する前に光路の長さを調整することができ、かつ、この際に非点収差あるいはコマ収差の発生するのを防止することのできる光路調整用光学素子、光源装置、および光ヘッド装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an optical path adjusting optical device, a light source device and an optical head device capable of adjusting the length of the optical path before the divergent light emitted form two light sources at nearly the same position enters a collimator lens, and capable of preventing astigmatism or a coma aberration from being generated at this time. - 特許庁

外径が軸方向に亘って変化した外周面を有するゴム弾性体からなると共にディスクの周縁部に当接して当該ディスクをローディングするディスクローディングロール１０において、当該ロールの外周面が凹凸面であると共に、当該凹凸面の表面粗さＲmaxが２０μｍ以上である。例文帳に追加

In the disk loading roll 10 consisting of a rubber elastic body having an outer peripheral surface whose external diameter is changed along the axis direction and loading a disk abutting against the peripheral part of the disk, the outer peripheral surface is formed in a rugged surface and the rugged surface has ≥20 μm surface roughness Rmax. - 特許庁

上記課題を達成するため、高圧アルミニウムダイキャスト法を用いて鋳包み加工に供される鋳鉄部材であって、当該鋳鉄部材は、その表面にアルミニウム材との密着性を向上させるための改質被覆層を備え、且つ、その表面粗さ（Ｒａ）が５μｍ〜１５０μｍであることを特徴とした鋳包み用鋳鉄部材を採用する。例文帳に追加

The cast iron member is used for insert casting working using a high pressure aluminum die casting process, and is provided with a modification coating layer for improving its adhesion with an aluminum material on the surface, and also, its surface roughness (Ra) is 5 to 150 μm. - 特許庁

少なくとも一方の面に凹凸を有する樹脂板において、その凹凸の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５〜５μｍであり、タルクを含有することを特徴とする樹脂板、及び押出機から押出されたタルク含有樹脂に、表面温度１４０〜１９０℃のエンボスローラーで凹凸を付与することを特徴とする前記の樹脂板の製造方法。例文帳に追加

This resin plate has an unevenness, the center-line mean roughness Ra of which is 0.5 to 5 μm, on at least one of its sides and includes talc so as to give an unevenness to a talc-containing resin extruded from an extruder with an embossing roller having a surface heated up to 140 to 190°C. - 特許庁

（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物及び（Ｃ）置換基を有するヘキサアリールビイミダゾールの光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｃ）成分が下記一般式（１）で表される化合物の群から選ばれる少なくとも１種を含む感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition comprises: (A) a binder polymer; (B) a photopolymerizable compound having at least one polymerizable ethylenically unsaturated group within a molecule; and (C) a photopolymerization initiator of a hexaarylbiimidazole having a substituent, wherein the component (C) comprises at least one selected from the group of compounds represented by general formula (I). - 特許庁

自己免疫疾患、狼瘡、アレルギー症状、急性および慢性炎症性症状、慢性気管支炎、移植組織拒絶、アテローム性動脈硬化症、ＨＩＶ感染症、肉芽腫等から選ばれる疾患又は症状を治療又は予防するのに有用な一般式（Ｉ）で表わされる化合物又は薬学的に許容することのできるその塩の使用及びそれを包含する医薬組成物。例文帳に追加

The medicine composition containing a compound represented by general formula (I) or a pharmaceutically acceptable salt thereof is used to cure or prevent a disease or a symptom selected from among autoimmune diseases, lupus, allergic symptoms, acute and chronic inflammatory symptoms, chronic bronchitis, transplant refusal, atherosclerosis, HIV infection, granuloma and the like. - 特許庁

基板上に、少なくとも感光層または感熱層、およびシリコーンゴム層を有する水なし平版印刷版原版であって、前記シリコーンゴム層の表面の中心平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする水なし平版印刷版原版。例文帳に追加

The waterless lithographic printing plate precursor has at least a photosensitive layer or a heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, wherein the center average roughness (Ra) of the surface of the silicone rubber layer is 1 to 100 nm, preferably 5 to 50 nm. - 特許庁

バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を少なくとも含む感光性組成物からなる感光層を支持体上に有してなり、前記バインダーが、Ｉ／Ｏ値が０．３００〜０．６５０のポリマーを含み、前記光重合開始剤が、親水性基を有するヘキサアリールビイミダゾール化合物を含むパターン形成材料である。例文帳に追加

The pattern forming material has on a support a photosensitive layer formed of a photosensitive composition comprising at least a binder, a polymerizable compound and a photopolymerization initiator, wherein the binder comprises a polymer having an I/O value of 0.300-0.650 and the photopolymerization initiator comprises a hexaarylbiimidazole compound having a hydrophilic group. - 特許庁

素子抵抗が小さく、電子移動度の大きな化合物半導体をセンサ部２に用いて、化合物半導体センサ部２と化合物半導体センサ部２からの電気信号を処理して演算を行う集積回路部３とを同一パッケージ内にハイブリッド形成することにより、これまでにない小型で、簡易なパッケージで室温動作可能な赤外線センサＩＣを実現できる。例文帳に追加

Using a compound semiconductor that has a low device resistance and a large electron mobility as a sensor unit 2, the compound semiconductor sensor unit 2 and an integrated circuit unit 3 that performs an operation by processing electrical signals from the compound semiconductor sensor unit 2 are hybridized in a same package. - 特許庁

本発明の高耐食性、高生産性の金めっき部材は、下地金属上に被覆されたニッケルめっき層と，前記ニッケルめっき層上に被覆された金めっき層とを有するニッケル−金めっきであって、前記ニッケルめっき層表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、0.05以下であることを特徴とするニッケル−金めっきである。例文帳に追加

The gold plating member having high corrosion resistance and high productivity is nickel-gold plating of ≤0.05 in the arithmetic mean roughness (Ra) of the gold plating layer of the nickel plating layer in the nickel-gold plating having the nickel plating layer coated on a backing metal and the gold plating layer coated on the nickel plating layer. - 特許庁

本発明は、無認可アクセスを含む、文書処理周辺装置の処理を監視するシステムおよび方法に関し、さらに詳細には、文書処理周辺装置の処理を監視し、無認可処理、動作あるいは文書処理周辺装置の使用レベルを検出し、次いでそのような無認可処理に対する通知を生成するシステムおよび方法に関する。例文帳に追加

To provide a system and a method, which monitors processings of document processing peripheral apparatuses including unauthorized accesses, detects unauthorized processing, operations or usage levels of the document processing peripheral apparatuses, and generates notification to such unauthorized processing. - 特許庁

穴径が０．５〜１５０μｍ，深さ２〜１００μｍ，アスペクト比（深さ／穴径）が６以下のブラインドビアホールを有し、そのブラインドビアホールを電気銅めっきにより穴埋めする工程を経て作られるビルドアップ基板において、電流密度を低下させずに、ボイドの発生がない穴埋め可能範囲を広げる。例文帳に追加

To widen a hole fillable range which is free of the formation of a void as to a build-up substrate which has a blind via hole of 0.5 to 150 μm in hole diameter, 2 to 100 μm in depth, and ≤6 in aspect ratio (depth/hole diameter) and is formed through a process of filling the blind via hole by electric copper plating. - 特許庁

ＭＩＳ構造の複素インピーダンスＺの周波数依存性を測定した後、当該測定結果に基づいて、複素インピーダンスＺの虚部（反転値）測定値−Ｉｍ（Ｚ）の周波数依存性におけるピーク高さＲｐ／２を算出し、当該算出結果を用いて並列抵抗の抵抗値Ｒｐを算出する。例文帳に追加

The frequency dependency of a complex impedance Z having a MIS structure is measured, a peak height Rp/2 in the frequency dependency of an imaginary section (an inverted value) measured value-Im(Z) of the complex impedance Z is computed on the results of the measurement and the resistance value Rp of a parallel resistance is computed by using the results of the computation. - 特許庁

第１不純物濃度のシリコンからなる半導体ウエハ１上に、エピタキシャル層２の深さ（厚さ）方向において均一に第２不純物濃度のエピタキシャル層２を形成した後、半導体ウエハ１を熱処理して、エピタキシャル層２の深さ方向において、エピタキシャル層２の不純物濃度分布を、第１不純物濃度から第２不純物濃度へ傾斜させる。例文帳に追加

The epitaxial layer 2 which is uniform in second impurity concentration in the direction of its depth (thickness) is formed on a silicon semiconductor wafer 1 kept in first impurity concentration, then the semiconductor wafer 1 is subjected to a thermal treatment to make the concentration distribution of impurities contained in the epitaxial layer 2 slope from a first impurity concentration to a second impurity concentration in the direction of depth of the epitaxial layer 2. - 特許庁

タンタル酸リチウム単結晶から成るウエハの一方主面に、弾性波を発生させる励振電極を形成するための弾性波装置用ウエハであって、前記ウエハの他方主面の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６μｍ未満であるとともに、該他方主面の反り量が１０μｍ〜４０μｍであることを特徴とする。例文帳に追加

This invention provides the wafer for elastic wave devices to form the exciting electrode for stimulating an elastic wave on one major side of the wafer comprising lithium tantalate single crystal and the wafer is characterized in that the arithmetic mean roughness (Ra) of the other major side of the wafer is less than 0.6 micron and a bent of the other major side is 10 μm-40 μm. - 特許庁

反射シート基材１０上に、互いに非相溶である少なくとも２種類の成分を含む混合溶液を塗布し、その後乾燥等にて反射シート基材１０に塗布された混合溶液を硬化させることで、容易かつ簡便に表面に、表面に算術平均荒さＲａが０．１μｍ以上５μｍ以下の凹凸層２０を有する傷つき防止反射シート１を提供することができる。例文帳に追加

The damage prevention reflective sheet 1, which includes irregularity layer 20 of 0.1-5 μm in arithmetic average roughness Ra on the surface, is readily and simply provided by applying a mixed solution, including at least two components being mutually insoluble on a reflective sheet base material 10 and making the mixed solution applied on the reflective sheet base material 10 in drying, or the like, cure, thereafter. - 特許庁

本発明の成膜装置用部品は、基材と、前記基材に形成されたプレコート層と、前記プレコート層上に形成された多孔質溶射層を有する成膜装置用部品であって、前記プレコート層が、水性無機コーティング剤から形成されたものであり、前記基材の線熱膨張率（α_1）と前記プレコート層の線熱膨張率（α_2）との差（│α_1−α_2│）が１８×１０^-6／℃以下であることを特徴とする。例文帳に追加

The component is characterized in that the precoat layer is composed of an aqueous inorganic coating agent, and that the difference (|α_1-α_2|) between the coefficient of linear thermal expansion (α_1) of the base and the coefficient of linear thermal expansion (α_2) of the precoat layer is not more than 18×10^-6/°C. - 特許庁

蘚苔類植物が繊維の集合体に保持されてシート状になされており、その蘚苔類植物保持シート２が通気を遮断する支持体１に取り付けられて、設置面より嵩上げされていることにより、降雨等で大量の水分が供給された場合でも蘚苔類植物が水没するのを防ぐことができる。例文帳に追加

The moss-supporting body has the following structure: the moss is held by a fibrous aggregate to be formed into a sheet-like one; and the thus prepared moss-holding sheet 2 is attached to a ventilation-blocking supporting body 1 to be raised above its setting surface so as to prevent the moss from sinking in the water even when a large amount of rainwater or the like is supplied. - 特許庁

軸３と、該軸３にラジアル流体軸受Ｒの流体軸受すきまＣｒを介して対向するスリーブ２と、を備えたスピンドルモータにおいて、軸３の外周面３ｆ及びスリーブ２の内周面２ｆのうち少なくとも一方の表面粗さＲｐｍを、流体軸受すきまＣｒの大きさの１５％以下とした。例文帳に追加

In a spindle motor comprising a shaft 3 and a sleeve 2 facing with the shaft 3 by way of a fluid bearing clearance Cr of a radial fluid bearing R, a surface roughness Rpm of at least one of the outer periphery 3f of the shaft 3 and the internal circumference 2f of the sleeve is selected as 15% or smaller of the fluid bearing clearance Cr. - 特許庁

コイル状金属線１７の長さは、基板１２のコイルアンテナ１６の取り付け位置側端部からコイル状金属線１７の先端位置までの筐体長さ（アースの長さ）Ｌ１が、最も良好なアンテナ特性（例えば、指向性、利得、周波数帯域など）が得られる条件となるような値に設定される。例文帳に追加

The length of the coiled metallic wire 17 is set to a value by which a case length (grounding length) L1 from an end portion of the attachment position side of the coil antenna 16 on the substrate 12 to the tip position of the coiled metallic wire 17 goes into condition which enables the most favorable antenna characteristics (directivity, gain, frequency band, etc.), to be obtained. - 特許庁

なお、前記未処理銅箔の前記結晶組織における粒状の大きさ分布は、１μｍ以上の粒径が１０％以上を占めていることが望ましく、また、前記電解エッチング処理は、エッチング後の銅箔の表面粗さＲｚが２．５μｍ以下となるように未処理銅箔の表面を電解エッチング処理することが好ましい。例文帳に追加

In this case, the distribution of particle size in the crystal structure of the non-treated copper foil is desirably a share of more than 10% of particle size of ≥1 μm, and the surface of the non-treated copper foil is preferably treated by electrolytic etching to establish the surface roughness Rz of the copper foil of 2.5 μm or less after etching. - 特許庁

多関節アームロボット３を利用したレーザー加工装置１のレーザー光の焦点を石英ガラスプレート２の表面に合わせ、所望の表面粗さにするために予め表面粗さＲａ０．５〜５０μｍの範囲内における速度と表面粗さの関係式から求めた速度で移動させて、石英ガラスプレートの表面に微細な凹凸面を形成した。例文帳に追加

The focus of a laser beam of a laser beam machining apparatus 1 using a multi-joint arm robot 3 is aligned to the surface of a quartz glass plate 2 and is moved at the speed previously determined from a relational expression between the speed and surface roughness within a range of 0.5 to 50 μm of the surface roughness Ra in order to obtain the desired surface roughness to form the fine uneven surface. - 特許庁

撮像素子或はその近傍に付着した異物を除去する異物除去動作中に、撮影動作に関連した動作要求（Ｓ３０２）を受け付けると、設定されている撮影条件に応じて異物除去動作、或は動作要求に応じた処理のいずれを実行するかを判定し（５０１、Ｓ５０２）、その判定結果に基づいて処理を実行する。例文帳に追加

When an operation request (S302) associated with photographing operations is received, during foreign material eliminating operations for eliminating the foreign material adhering to an imaging element or its vicinity, the imaging apparatus determines whether to execute the foreign material eliminating operation or processing responsive to the operation request, according to photographic conditions which is set (S501, S502) and executes processings, on the basis of the determination result. - 特許庁

軽合金からなるシリンダブロックに鋳包まれる内燃機関用のシリンダライナにおいて、当該シリンダライナの外周面に、アルミニウムまたはアルミニウム合金を溶射してなる溶射皮膜を形成し、かつ、当該溶射皮膜の表面粗さＲａを、ＪＩＳ Ｂ０６０１（２００１）に規定される測定方法で、４０〜１４０μｍとする。例文帳に追加

In the cylinder liner for an internal combustion engine cast in the cylinder block made of a light alloy, a thermal spray coating film of aluminum or aluminum alloy is formed on an outer circumference surface of the cylinder liner and surface roughness of the thermal spray coating film is maintained in a range of 40 - 140 μm when measured with a measurement method provided by JIS B0601 (2001). - 特許庁

Ｙ_２Ｏ_３焼結体からなるセラミックガスノズルであって、ハロゲン性腐食ガスの流れる内面が焼成したままの面であり、ハロゲン性腐食ガスあるいはハロゲン性腐食ガスのプラズマに曝される外表面が表面粗さＲａが１μｍ以上に粗面化されていることを特徴とするＹ_２Ｏ_３焼結体セラミックガスノズル。例文帳に追加

The ceramic gas nozzle made of a Y_2O_3 sintered compact has an inner surface of an as-fired state, on which a halogenous corrosive gas passes; and an outer surface which is exposed to the halogenous corrosive gas or the plasma of the halogenous corrosive gas, and is roughened into the surface roughness of 1 μm or more by Ra. - 特許庁

スパッタリングターゲットのエロージョンされる面を精密機械加工により加工変質層を低減した後、エッチングにより加工変質層を除去し、さらに前記ターゲットのエロージョンされる面の中心線平均粗さＲａで規定される表面粗さをターゲットを構成する金属原子の平均結晶粒径の０．１％から１０％の範囲となるようにエッチング時間を調整する。例文帳に追加

The face to be eroded in a sputtering target is subjected to precision machining to reduce working decomposed layers, and, after that, etching time is controlled in such a manner that the surface roughness prescribed by the center line average roughness Ra in the face to be eroded in the target lies in the range of 0.1 to 10% of the average crystal grain size of metallic atoms composing the target. - 特許庁

底面が曲面状のジグヘッドであって、上部から後部につながる餌或いは擬似餌を取り付けるための凹部１１及び１２を形成し、且つ鉤のシャンクを受け入れる凹部１３を形成し、上部が軽く下部が重い形状にするとともに、鉤の可動を制限する壁面を立設し、仕掛けの遊泳姿勢を安定させる着脱式の鉤吸着用マグネットユニットを設けた。例文帳に追加

The jig head has a curved surface on the bottom to form concave parts 11 and 12 for attaching a bait or a lure connecting from the upper part to the rear part, and a concave part 13 receiving the shank of the hook, stands a wall face for restricting the movement of the hook and sets up a magnet unit for attaching and removing a detachable hook that can be stabled in its swimming posture. - 特許庁

嵩上げスペーサは、その前後両端部に、サスペンションクロスメンバとサイドフレームとを固定する固定用ボルトが上下方向に向かって挿通されるボルト挿通孔が、固定用ボルトのボルト径よりも前後方向に向かって所定距離だけ長大化された部位が含まれるように形成され、固定用ボルトを前後方向に対して非拘束状態としている。例文帳に追加

On front and rear ends of a raising spacer, a bolt insertion hole through which a fixing bolt for fixing the suspension cross member and the side frame is inserted along the vertical direction is formed so as to include a part enlarged to the longitudinal direction to be larger than a bolt diameter of the fixing bolt for a predetermined distance, and the fixing bolt is in a non-restraint state to the longitudinal direction. - 特許庁

金属元素を含有しプラズマ耐食性を増大した石英ガラスであり、該石英ガラス中の泡と異物の含有量が１００ｃｍ^3当りの投影面積で１００ｍｍ^2未満、ＯＨ濃度が１００〜２０００ｐｐｍ、表面粗さＲａが０．０１〜１０μｍ、及び室温から１０００℃までの放出ガス量が２ｍｏｌ/ｍ^3以下であるようにした。例文帳に追加

The quartz glass contains metal elements and is improved in plasma corrosion resistance and has a content of foams and foreign matters <100 mm2 projected area per 100 cm3, OH concentration 100-2,000 ppm, surface roughness Ra 0.01-10 μm, and discharge gas amount 2 mol/m3 or less from room temperature to 1,000°C. - 特許庁

また、ゲート３が受ける荷重の周波数と、ゲート面外方向の並進振動の固有振動数との差、或いはゲート３が受ける荷重の周波数と、ゲートポンプ２０の水平線２２に関する遥動振動の固有振動数の２倍との差、が有るようにゲートポンプ２０に質量を付加する。例文帳に追加

A mass is applied to the gate pump 20 so that there may be a difference between the frequency of the load applied to the gate 3 and the natural frequency of translation vibration outward of a gate plane or a difference between the frequency of the load applied to the gate and the doubled natural vibration of oscillating vibration of the gate pump 20 with respect to a horizontal line 22. - 特許庁

透明な支持体の上に、帯電防止機能を持たせ、かつ前記透明な支持体の屈折率と同じくなるように屈折率を調整し、さらにその表面が、添加した粒子により、平均表面粗さ（Ｒｚ）が１００ｎｍ以上の微小な凸部を設けた第１層と、ハードコート性を有する第２層を積層した構成とすることにより解決した。例文帳に追加

The antistatic transparent laminate is constituted of a first layer which has an antistatic function with a capability of adjusting a refractive index so as to match with the refractive index of the transparent support and further, has microprotrusions with an average surface roughness (Rz) of not less than 100 nm formed of added particles and a second layer with hard coating properties, laminated on the transparent support. - 特許庁

表層に熱可塑性樹脂を含有する記録媒体に、インクで画像を形成するインクジェット画像形成方法において、画像形成した該記録媒体の面に表面粗さＲａが１５０ｎｍ以下の処理シートを接触した状態で該記録媒体を加熱した後、該処理シートを剥離することを特徴とするインクジェット画像形成方法。例文帳に追加

In the inkjet image forming method, in which the image is formed with ink on a recording medium including a thermoplastic resin in an outer surface, a processing sheet is peeled off after the recording medium is heated under the state that the processing sheet having the surface roughness Ra of not more than 150 nm is brought into contact with the surface of the recording medium, on which the image is formed. - 特許庁

少なくともポリアミド、無機充填剤、着色剤及び銅化合物を含む強化ポリアミド樹脂組成物からなる成形品であって、色調の指標の一つであるＬ値が１０〜３０の範囲にあり、且つ、その表面特性の指標の一つである中心線平均粗さ(Ｒａ)が、０．５〜８μｍの範囲にあることを特徴とする着色された強化ポリアミド樹脂製成形品。例文帳に追加

This colored and reinforced polyamide resin molding product is characteristically a molding product composed of a reinforced polyamide resin composition comprising at least a polyamide, an inorganic filler, a colorant and a copper compound, has an L value being one index of color tone in a range of 0-30 and a central line average roughness (Ra) being one index of surface characteristics in a range of 0.5-8 μm. - 特許庁

無電解めっきを施す層Ａを有し、且つ該層Ａの表面粗さが、カットオフ値０．００２ｍｍで測定した算術平均粗さＲａで０．５μｍ未満であり、且つ該層Ａの９０度引き剥がし粘着力が１．０Ｎ／２５ｍｍ以下であり、且つ該層Ａが特定の構造を有するポリイミド樹脂を含有することを特徴とするめっき用材料よって上記課題を解決しうる。例文帳に追加

The material to be plated has a layer (A) to be electroless-plated thereon, which has the surface roughness less than 0.5 μm by arithmetical mean roughness Ra measured at a cutoff value of 0.002 mm; shows an adhesion of 1.0 N/25 mm or less, when measured by a 90 degrees peeling test; and contains a polyimide resin having a specific structure. - 特許庁

天然木を超えた質感、優しさ、暖かみ及び外観を備えると共に、雨風にさらされても腐食・変形・破損しにくい等、耐久性及び抗菌性の優れた素材から構成され、簡単な組立てでありながらも、美観を損ねることもなく、地震や暴風雨にも耐え得る程の充分強固な構造の物置を提供する。例文帳に追加

To provide a storing room equipped with quality, gentleness, warmth and appearance better than natural wood, at the same time, comprised of a material difficult of corrosion/deformation/damage or the like and excellent in durability and antibacterial activity even if it is exposed to rain and wind and provided with sufficient durable strength against an earthquake or a storm without impairing the appearance while having a simple structure. - 特許庁

一方、光ファイバケーブル１ａを切断余長を持たせて装着したコネクタ１１を切断装置１７のコネクタプラグ取付台１７ａに載置し、上記カッター刃２の刃が＋Ｘ方向に移動してＰＯＦの切断部分に接触し、加熱軟化しながらＰＯＦを所定長さ（厚さ）の切断片に切断する。例文帳に追加

A connector 11 fitted with an optical fiber cable 1a with a cutting marginal length is mounted on a connector plug attaching table 17a of the cutter 17, an edge of the cutter blade 2 is moved along a +X direction to contact with a cut part of the POF, and cuts the POF into a prescribed length (thickness) of cut piece while heating and softening the POF. - 特許庁

半導体の歪みゲージのチャネル発生を防止するもので、拡散抵抗領域の周囲に不純物や電荷が付着した場合、あるいは半導体基板の不純物濃度が低い場合に電極パッド間に発生しやすくなるチャネルの発生を防止して、出力の抵抗値を安定させることのできる、各種加速センサ、圧力センサ等に利用できる半導体歪みゲージ及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor strain gauge and the manufacturing method for preventing generation of channels in the semiconductor strain gauge, which stabilizes the resistance value of output by preventing the generation of channel which tends to be generated between electrodes pads, when impurities and charge are adhered around a diffusion resistor region, or when the impurity concentration of the semiconductor substrate is low, and which can be used for various acceleration sensors, pressure sensors, etc. - 特許庁

すなわち、複数または単一のトナー層を画像として転写体上に定着する画像形成方法において、定着された層におけるＲＭＳ（Ｒｏｏｔ・Ｍｅａｎ・Ｓｑｕａｒｅ）表面粗さ（Ｒｑ）を、６０度光沢度の範囲（最小値Ｇｍｉｎ［％］、最大値Ｇｍａｘ［％］）において、５／Ｇｍａｘ［％］＜Ｒｑ［μｍ］＜５／Ｇｍｉｎ［％］とする。例文帳に追加

Namely, a plurality of or a single toner layer is fixed as an image on a transfer body and the RMS (Root Mean Square) surface roughness (Rq) of the fixed layer is set within a range of a 60° luster degree (5/Gmax[%]<Rq[μm]<5/Gmin[%], where Gmin[%] is a minimum value and Gmax[%] is a maximum value). - 特許庁

この入力受付装置では、同一の長さ及び単位長さ当たり一定の同一抵抗値を有する第１及び第２の抵抗体１，３が基板部材２１上に平行配置されており、スイッチ素子５が押圧操作された際のスイッチ素子５を介した抵抗体１，３間の導通状況に基づいてスイッチ素子５を介した操作入力が受け付けられる。例文帳に追加

In this input-receiving device, first and second resistors 1 and 3 each having an equal length and an equal constant resistance value per unit length are arranged on a board member 21 in parallel with each other, and operation input is received through a switch element 5 based on a conduction state between the resistors 1 and 3 through the switch element 5 when the switch element 5 is pressingly operated. - 特許庁

溶融シリカ粉末原料を含むスラリーを型に流し込んで成形し、得られた成形体を乾燥させた後、１１５０℃以上１２５０℃以下で焼成し、外表面に研削加工およびラップ処理を施すことにより、弾性率が４５ＧＰａ以上、かつ、表面粗さＲａが０．５μｍ以下である溶融シリカ質ロールを製造する。例文帳に追加

A fused silica roll having a modulus of elasticity of 45 GPa or higher and a surface roughness Ra of 0.5 μm or smaller is produced by casting a slurry containing a raw fused silica powder material into a mold and molding it, drying the obtained molding, firing the dried molding at 1,150-1,250°C, and subjecting its external surface to grinding and lapping. - 特許庁

生体組織接着用柔軟性金属箔テープは、熱、振動、及び圧力の少なくとも一つを付与することによって生体組織と接着させるために用いられるものであって、厚さが５〜３００μｍで、前記生体組織との接着面の表面粗さが算術平均粗さ（Ｒａ）で０．０５〜５．０μｍである金属箔からなることを特徴とする。例文帳に追加

The flexible metal foil tape for tissue adhesion is used for adhesion with the living tissues with at least heat, oscillation, or pressure applied thereon, which is made of a metal foil whose thickness is 5-300 μm and whose surface roughness of an adhesion surface with the living tissues is 0.05-5.0 μm when represented by the arithmetic mean roughness (Ra). - 特許庁

キー操作にエラーがあったときは、まず表示画面１７ａにエラーマーク２０を表示し、その後、ＨＥＬＰキーが押された場合に、エラーマーク２０を消去するとともに、キー操作の内容４１ａ、エラーの説明４１ｂ、エラー解消のための操作案内４１ｃを含むエラーガイダンス４１を表示画面１７ａに表示する。例文帳に追加

When an error is caused in key operation, the error mark 20 is displayed on the display screen 17a, after that, when the HELP key is depressed, the error mark 20 is erased, while error guidance 41 including contents 41 of key operation, explanation 41b of the error, and operation guide 41c for dissolving the error is displayed on the display screen 17a. - 特許庁

第４リンク１４は、連結軸線Ｐ２４６から連結軸線Ｐ３４まで伸び、上記閉リンク機構の一部を構成するリンク部１４ａと、リンク部１４ａに対して所定の角度に屈曲して連結軸線Ｐ２４６から連結軸線Ｐ３４の反対側に向けて伸びる操作アーム部１４ｂとを備えている。例文帳に追加

The fourth link 14 is extended from a connection axial line P246 to a connection axial line P34 and is provided with a link part 14a constituting a part of the closed link mechanism and an operation arm part 14b bent at a predetermined angle for the link part 14a and extended from the connection axial line P246 toward the opposite side to the connection axial line P34. - 特許庁