「顕露」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

作業者や作業環境にとって悪影響の少ない低エネルギーの光源で後露光処理が可能であり、かつ、耐刷性の改善効果が顕著で安定性の優れた光重合性感光材料の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a processing method for a photopolymerizable sensitive material in which postexposure is possible with a low energy light source having little adverse effect on an operator and working environment, and by which a printing durability improving effect is made significant and excellent stability is ensured. - 特許庁

光源からの光量を損失することなく輪帯照明を得られ、明るい位相差観察や暗視野観察が可能な照明光学系、露光装置用の照明光学系とそれを用いた顕微鏡照明装置。例文帳に追加

To provide an illumination optical system for enabling bright phase difference observation and dark field observation by obtaining annular illumination without losing light intensity from a light source, and to provide an illumination optical system for an exposure device and a microscope lighting system using it. - 特許庁

第１の被処理側経路Ｂ１から除湿ロータ５を介して循環経路Ｒに移動した水分が、第１及び第２の顕熱交換器２，３の各第１の風路２ａ，３ａにて結露する。例文帳に追加

The water transferred to a circulation route R from the first route B1 in the defined side through the dehumidifying rotor 5 is condensed into dew drops in respective first ventilation routes 2a, 3a of a first and the second sensible heat exchangers 2, 3. - 特許庁

半導体パターンの微細化にともなって露光装置のフレアによりパターン寸法変化や限界解像度の低下をもたすという問題が顕在化し、製造現場においてフレア率を簡単に測定できる方法が望まれる。例文帳に追加

To provide a method for easily measuring a flare rate at a manufacture site so as to solve the problems of the dimensional changes in the patterns, or reduction in the limit resolution caused by flares in an exposure device accompanying a finer semiconductor pattern. - 特許庁

本発明は、水中等、水曝露が顕著な条件下で使用した場合でも低水濡れ性に優れる繊維構造物さらに詳しくは、水着等に好適な低水濡れ性に優れる繊維構造物を提供せんとするものである。例文帳に追加

To obtain a fiber structure having excellent low wettability with water even in the case of use under severe conditions of water exposure such as use in water, etc., in more detail, a fiber structure having excellent low wetting suitable for swimming suit, etc. - 特許庁

カラープリンタなどの画像形成装置本体１０は、周面が帯電された感光体１７を露光して形成された静電潜像を、現像部１８のトナーにより複数色に現像して顕像化する。例文帳に追加

In the main body of the image forming device 10 such as a color printer, an electrostatic latent image formed by exposing a photoreceptor 17 whose peripheral surface is electrified is developed in a plurality of colors with toner in a developing part 18 as a developed image. - 特許庁

また、プリンタ装置１０は、擬似輪郭が顕在化しやすい低濃度域の中から、ターゲット濃度値を選択し、ターゲット濃度値の面内むらを抑制するように、露光量補正方式の補正量を決定する。例文帳に追加

Furthermore, the printer 10 selects a target density value from a low density zone where false contour line tends to be actualized, and determines the amount of correction of light exposure correction system such that in-plane unevenness of target density value is suppressed. - 特許庁

清掃時には、タンク２５を横倒し姿勢に簡単に変更できるため、台板１０側に残置して露顕した肥料落下調節板機構７０に対し真近にアクセスでき、掃除が容易になる。例文帳に追加

Since the tank 25 can simply be changed into the falling posture on its cleaning work, a worker can easily approach and clean the fertilizer dropping-adjusting plate mechanism 70 left and exposed on the side of the base plate 10. - 特許庁

帯電後の像担持体に、像露光光を連続照射した際の、像担持体上での電位分布の電位差が５０Ｖ以上あり、電界の効果を顕著に受け易い現像バイアスで現像処理をおこなう。例文帳に追加

In the device, the difference in potential of distribution of potential on an image carrier is ≥50 V when an image exposure light is consecutively radiated on the image carrier after electrifying and developing process is carried out at developing bias where the effect of the electric field can be markedly received. - 特許庁

ラッピング後、エッチングした半導体ウェハを、露出時間が数値表示される顕微鏡写真撮影装置にセットして、当該導体ウェハの裏面についての露出時間を計測し、予め把握されている上記露出時間とエッチング量との相関から、当該半導体ウェハの裏面粗さを評価する。例文帳に追加

The semiconductor wafer which is etched after lapping is set on a microscopic photographing device with an exposure time numerically displayed, the exposure time for the rear face of the semiconductor wafer is measured, and the roughness of the wafer rear face is evaluated based on a known correlation between the exposure time and the etched amount. - 特許庁

顕隠二教を以って一体となすのが特徴で、顕露教の教説を語るものとしては『古事記』『日本書紀』『先代旧事記』（三部本書）、隠幽教の教説は『天元神変神妙経』『地元神通神妙経』『人元神力神妙経』（三部神経）に基づくとするが、兼倶独自のものとは言い難く、その教理や儀礼は密教や道教、陰陽道等の教理や儀礼を取り入れている。例文帳に追加

It is characterized by being composed of two religions, Kenro kyo and Inyu kyo, and while "The Kojiki (Records of Ancient Matters)," "The Nihon Shoki (Chronicles of Japan)," and the "The Sendai kujiki" (Sanbu honsho (three books on ancient Japan)) describe the lessons of Kenro kyo, and Inyu kyo are said to be based upon "Tengenshimpen shimmyokyo," "Chiggenshintsu shimmyokyo," and "Jingenshinryoku shimmyokyo" (Sanbu shinkyo), it is not likely to be uniquely Kanetomo's, and includes principles and rituals from Esoteric Buddhism, Taoism, Onmyodo (way of Yin and Yang; an occult divination system based upon the Taoist theory of the five elements), etc.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

走査型又は透過型電子顕微鏡、オージェ電子分光装置等の表面分析装置、電子線露光機、特に、電子ビームの加速電圧が１ｋＶ以下の低加速で用いられる走査型電子顕微鏡、ＣＤ ＳＥＭ、ＤＲＳＥＭ等の半導体ウェハ検査装置に用いられる電子源を提供する。例文帳に追加

To provide an electron source used for a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer such as an Auger electron spectroscope, an electron beam exposure machine, in particular, a scanning electron microscope used at low acceleration where an acceleration voltage of an electron beam is not higer than 1kV, or a semiconductor wafer inspection device such as a CD SEM or a DRSEM. - 特許庁

走査型プローブ顕微鏡、例えば走査型トンネル顕微鏡において、プローブ５でＧａＡｓ層４の表面を走査することによりＧａＡｓ層４を選択的にエッチング除去してＩｎＧａＡｓ層３を部分的に露出させ、試料表面にＧａＡｓ層４のパターン形状に応じた歪分布を形成する。例文帳に追加

In a scanning probe microscope, such as a scanning tunnel microscope, one part of the layer 4 is selectively etched away by scanning the surface of the layer 4 with a probe 5 to make the layer 3 partially exposed, and a strain distribution to respond to the shape of the pattern of the layer 4 is formed on the surface of a sample. - 特許庁

こうして見ていくと、文筆の家ではもっとも露骨に顕彰されている三善康信の子孫で、時期に該当するのは1293年（永仁元）から1321年（元亨元）まで問注所執事であった太田時連が候補の筆頭として上がり、二階堂行貞もまた編纂者であった可能性が高い。例文帳に追加

Therefore Tokitsura OTA was considered the most likely compiler, as he was an under secretary of Monchujo from 1293 to 1321 when the work seems to have been compiled, and also one of the descendants of Yasunobu MIYOSHI, who was praised most plainly among the families of letters, and there is strong possibility that Yukisada NIKAIDO was a compiler, too.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

しかし、文政11年（1828年）紅葉山文庫を所管する書物奉行でもあった高橋景保が、長崎オランダ商館付の医師であるフィリップ・フランツ・フォン・シーボルト（1796年-1866年）に禁制品である伊能図を贈ったことが露顕し、高橋景保は逮捕され、翌年3月に獄死した（シーボルト事件）。例文帳に追加

However, it was revealed that in 1828 Kageyasu TAKAHASHI who was shomotsu bugyo (archive commissioner) taking charge of Momijiyama Library presented Ino map to a doctor working at the Dutch trading house in Nagasaki, Philipp Franz von Siebold (1796-1866) in spite of a ban on possessing the map so Kageyasu TAKAHASHI was arrested and died in prison in March the following year (Siebold Incident).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

経房の孫にあたる資経の子・吉田為経が甘露寺系、同じく吉田経俊が勧修寺系、同じく万里小路資通が万里小路系として分かれる（さらに経俊の子中御門経継からは中御門家が、曾孫の勧修寺経顕からは勧修寺家が出る）。例文帳に追加

The family split into the Kanroji lineage of Tametsune YOSHIDA, who was the son of Suketsune and the grandson of Tsunefusa, the Kajuji/Kanjuji lineage of Tsunetoshi YOSHIDA, and the Madenokoji lineage of Sukemichi MADENOKOJI (moreover, the Nakamikado family was established by Tsunetsugu NAKAMIKADO, who was the son of Tsunetoshi, and the Kajuji family by Tsuneaki KAJUJI, who was a great-grandson of the same).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

このような経済構造は、中東欧諸国が急速な経済成長を目指す中で、世界的な金融緩和を背景に市場のリスク感覚が麻痺していたときにはリスクが顕在化することはなかったものの、いったん巻き戻しが始まると、その脆弱さを一挙に露呈することになりました。例文帳に追加

While the Central and Eastern European countries pursued rapid economic growth, such inherent risks in their economic structures were overlooked as financial markets were insensitive to risks under the great moderation. However, once things started to go wrong, they were exposed to their inherent vulnerabilities.  - 財務省

電子顕微鏡および電子ビーム露光装置等の、電子ビームを制御して利用する電子ビーム制御装置であって、電子ビームの飛跡に影響を及ぼす、外界からの影響による磁気変動量を測定するための磁気センサーを備えている。例文帳に追加

The electron beam control device for controlled use of an electron beam, such as an electron microscope or an electron beam aligner, comprises a magnetic sensor for measuring an externally influenced magnetic variation that influences a track of an electron beam. - 特許庁

そして、レチクルＲのパターンをウエハＷ上に本露光するに先立って、レチクルＲのパターンをＥＵＶ光ＥＬで照明することによってシリル化レジストに形成された潜像を、原子間力顕微鏡ＡＦＭで計測する構成とした。例文帳に追加

Then, before actually exposing the pattern of a reticle R onto the wafer W, is the pattern of the reticle R is illuminated with an EUV beam EL to measure a latent image formed on the resist subjected to silylation with the atomic force microscope(AFM). - 特許庁

放熱性を十分に確保しつつ、電子親和力が低いことにより、高輝度を達成するとともに加熱温度を抑えてエネルギー幅を抑制することが可能な電子放射陰極、当該電子放射陰極を備えた電子顕微鏡および電子ビーム露光機を提供する。例文帳に追加

To provide an electron emitting cathode, capable of attaining a high luminance due to low electron affinity while sufficiently ensuring heat radiation performance, and reducing the energy width by reducing heating temperature, to provide an electron microscope, and to provide an electron beam exposing machine provided with the electron emitting cathode. - 特許庁

画像形成指令に対応して感光体表面を露光して静電潜像を形成し、該静電潜像を顕像化することにより画像を形成する装置およびその方法において、画像データに対する処理およびデータ通信をより効率よく行う。例文帳に追加

To improve efficiency in image data processing and data communication in an apparatus and a method for image formation forming an image by forming an electrostatic latent image by exposing a photoreceptor surface and then developing the electrostatic latent image in response to an image forming instruction. - 特許庁

電子ビーム装置、特に大電流で小直径なビームが必要とされるプローブフォーミングシステム（スポットビーム型電子線露光装置、分析用電子顕微鏡など）の電子銃に使用する磁場レンズに関し、超高真空雰囲気に適合し、かつワブリング動作が可能な磁場レンズを提供する。例文帳に追加

To provide a magnetic field lens used for an electron gun of an electron beam device, particularly a probe-forming system (spot beam type electron beam aligner, electron microscope, etc.) which is suitable to an ultrahigh vacuum atmosphere, and can perform wabbling operation. - 特許庁

燃焼排ガスの温度を低温に設定しても、結露などによる低温腐食を生じることがなく、排気ガスの顕熱回収を極限まで可能とし、従来に比較して大幅な省エネルギーを達成できる蓄熱式交番燃焼バーナ加熱炉を提供すること。例文帳に追加

To provide a regenerative alternating combustion burner heating furnace that can recover sensible heat of exhaust gas to a limit without causing low-temperature corrosion by moisture condensation even when the temperature of combustion exhaust gas is set low, and can achieve large energy saving compared with the prior art. - 特許庁

回路パターンの微細化に伴い、露光の際のショットの形状の歪みがある場合には、電子顕微鏡によるウェーハ検査時のスループットの低下や自動化率の低下が認められ、ショット歪みに対する位置補正動作を実行する方式を提供する。例文帳に追加

To provide a system such that when a shape of a shot during exposure is distorted as a circuit pattern becomes finer, a decrease in throughput during wafer inspection with an electron microscope and a decrease in automation rate are recognized, and a position correcting operation for the shot distortion is carried out. - 特許庁

試料撮像用のカメラヘッド３３を備えた顕微鏡１における試料照明用のＰＷＭ制御可能なＬＥＤ光源部２９の点灯のタイミングを、カメラヘッド３３の露光のタイミングに合わせるように制御する制御装置４９。例文帳に追加

The controller 49 makes control so that the lighting timing of a PWM (Pulse Width Modulation) controllable LED (Light Emitting Diode) light source part 29 for illuminating the sample in the microscope 1 provided with a camera head 33 for imaging the sample, agrees with the exposure timing of the camera head 33. - 特許庁

かつらを装着した際にかつらのフロントエッジに植設した毛髪が不自然な直線状のラインを呈することなく、使用者の前額部の自毛の生え方に極めて類似した自然なヘアラインを呈し、かつらの装着が露顕され難く、違和感なく自然感を向上し得るかつらを提供する。例文帳に追加

To provide a wig presenting a natural hair line extremely similar to the way how user's forehead own hair grows by preventing hair planted on the front edge of the wig from presenting an unnatural straight line when wearing the wig, hardly disclosing attachment of the wig, and improved in natural feeling without feeling of physical disorder. - 特許庁

表面変質層の膜厚の測定は、レジストマスクの破断面を酢酸イソアミルでエッチングし、表面変質層を凸部、未露光レジストを凹部として断面に顕彰化させた後、ＳＥＭで断面の凸部の厚さを測定する。例文帳に追加

Measuring of the thickness of the surface deterioration layer is performed, by etching the torn surface of the resist mask by an isoamyl acetate, after making a non-exposed resist with a surface deterioration layer as a convex part, and making a derotate section conspicuous as a recess, the thickness of the convex part of the section is measured by SEM. - 特許庁

帯状ワークＷを搬送移動して、帯状ワーク上のワークマークＷＡＭを、２台のアライメントユニットＡＵのアライメント顕微鏡により検出しマスクＭとワークＷの位置合わせを行ってマスクパターンをワークＷ上に露光する。例文帳に追加

A belt-like work W is carried and moved, the work mark on the belt-like work W is detected by the alignment microscopes of two alignment units AU, the alignment of the mask M and the work W is performed, and a mask pattern is exposed on the work W. - 特許庁

従来の顕微鏡に搭載される画像記録装置は、蛍光発光の輝度が変化する標本を撮影する場合、撮影開始前に露出条件を設定すると、撮影中に大きな輝度差が発生すると、正確な画像情報が得られず、ゲイン補正等では階調特性が損なわれる。例文帳に追加

To solve the problem that exact image information is not obtained and gradation characteristics are spoiled in gain compensation, etc. when large luminance difference occurs during photography when exposure conditions are set before starting the photography when photographing a sample in which luminance of fluorescence changes in an image recorder to be loaded on the conventional microscope. - 特許庁

レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。例文帳に追加

When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before. - 特許庁

波長２００ｎｍ以下の露光光に対する薄膜の耐光性の向上、マスク寿命の改善を顕著に図ることができるマスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法、並びにマスクブランク及び転写用マスクを提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a mask blank and a method for manufacturing a transfer mask, and a mask blank and a transfer mask which are capable of improving light resistance of a thin film against exposure light having a wavelength of 200 nm or less and significantly improving a mask lifetime. - 特許庁

襟の開き具合や曲げ具合をシャツ着用者が指先や掌で意のままに上下左右に奥に前にと自由に形成出来その状態を保持して、しかも襟からずれたり外れたり外へ露顕したりすることのない襟立てカラーを提出する。例文帳に追加

To provide a collar-supporting collar enabling a person who wears a shirt to freely form opening or bending condition of the collar of the shirt through moving the collar on the left, right, top and bottom, in the back or in front at will, maintaining the moved condition and also prevented from sliding or getting out from the collar, or exposed out. - 特許庁

フライヤ１０の油槽１２内の食用油に油液面検出管３６の開口端を挿入し、油液面検出管３６の開口端が油液面より露顕した時に、その検出管３６内の空気圧の変化を空圧変動検出器４０により検出する。例文帳に追加

A pneumatic-fluctuation detecting device 40 detects a change of air pressure in an oil level detection pipe 36 inserted into edible oil in the oil tank 12 of a fryer 10 at the open end thereof when the open end is exposed from the oil surface. - 特許庁

このように、パターンの解像度の要求される方向、すなわちパターンの幅方向に絞った電子線ＥＢで露光することにより、クーロン効果が顕著な大ビーム電流によっても微細なパターンを形成することができる。例文帳に追加

Since the mask areas 11 and 12 are exposed to the electron beams EB which are narrowed in the direction with the image resolution of the patterns P1 and P2 required therein namely, in the widthwise directions of the patterns, a fine pattern can be formed even when a large beam current having a noticeable coulomb effect is used. - 特許庁

ブラックマトリックスに対する着色画素の位置ズレを算出するバーニアで、顕微鏡の焦点深度に影響されず、測定用マークのフリンジ部に影響されず精度よく、安定して位置ズレを算出するバーニア、及び露光位置の測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a vernier for calculating the positional deviation of a colored pixel, with respect to a black matrix, and accurately and stably calculating the position deviation, without being affected by the focal depth of a microscope or without being affected by the fringe part of a measurement mark, and to provide a method of measuring exposure position. - 特許庁

これにより、周辺露光装置における周辺領域の露光において、有効基準チップ領域に隣接した無効基準チップ領域、その他無効チップ領域が残存していても、形成されるパターンの違いから有効基準チップ領域の位置を目視、顕微鏡などによっても容易に認識することができる。例文帳に追加

Thus, even if the non-effective reference chip region adjacent to the effective reference chip region, and other non-effective chip regions remain in exposure of a peripheral region in a periphery aligner, a position of the effective reference chip region can be easily recognized by visual observation, a microscope, or the like according to a difference in a pattern to be formed. - 特許庁

集束イオンビームを利用する微細加工により、微細粒子の凝集体からなる膜の断面を、透過電子顕微鏡観察する目的の薄片化試料を作製する際、微細加工端面に露呈する微細粒子の剥落を防止でき、また、薄片化された部位の大気暴露を防止可能な、薄片化試料の作製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for preparation of thinned samples that can prevent, when thinned samples are prepared by micro-machining utilizing a focused ion beam for use in transmission electron microscopic observation of sections of a film made up of an aggregate of micro-particulates, micro-particulates exposed on micro-machined end faces from coming off and prevent exposure of thinned regions from being exposed to the atmosphere. - 特許庁

像観察用の蛍光板（６）とテレビカメラ（７）とを備えた透過型電子顕微鏡において、テレビカメラ（７）に入射する電子線（２）を遮断しない孔を形成した電子線検出器（８）と、電子線検出器（８）で測定した電子線量によりフィルム撮影時の露光時間を算出し、算出した露光時間に基づいてシャッター（４）を制御する制御手段（９）とを備えるようにしたものである。例文帳に追加

In a transmission electron microscope having a fluorescent plate 6 for image observing and a television camera 7, the transmission electron microscope comprises an electron beam detector 8 formed with a hole allowing the electron beam which is incident to the television camera 7, and a control means for controlling a shutter 4 based on the exposure time calculated from the exposure time of a film shot. - 特許庁

「躍り」とは言わず「舞」とする点を見てもわかるように、極度に硬い描線と身体の緊張を核として簡素な動きのなかに豊富なイメージを描き出そうとする舞であり、初代井上八千代が近衛家、一条家や仙洞御所づとめの折に能に示唆を得て貴顕の前に披露しても恥ずかしくない舞踊を作ったという口伝をそのままに体現した舞踊であるといえる。例文帳に追加

As the use of the word 'mai' instead of 'odori' suggests in Japanese, the dance is characterized by extremely rigid movements and tension of the body, yet creating rich images with simple motions; inspired by Noh dances when she worked for the Konoe Family, Ichijo Family, and the Sento Imperial Palace, the founder of this dance, Yachiyo INOUE, created a dance that was presentable in front of distinguished persons, and its teaching has been passed down by word of mouth ever since.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

元弘3年（1333年）、先の船上山の戦いにおいて幕府軍に対し勝利を収めた後醍醐天皇は、名和長年ら中国地方周辺の勤皇派諸将を結集、京都への還幸の為の露払いとして頭中将・千種忠顕を総大将とした先発隊を送り込み、先に京を囲み六波羅探題を攻撃していた播磨国の赤松則村と合流させる。例文帳に追加

In 1333, after winning against the bakufu army at Mt. Senjo, Emperor Godaigo assembled pro-Imperialist warlords who were in the Chugoku region such as Nagatoshi NAWA, and before the Emperor's return to Kyoto, he sent an advanced army with Tono Chujo (the first secretary's captain) Tadaaki CHIGUSA as the supreme commander to join with Norimura AKAMATSU of the Harima Domain who was surrounding the capital and attacking the Rokuhara Tandai (the office of shogunal deputy in Kyoto placed by the Kamakura bakufu).  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

室内設定温度以下かつ室内空気の露点温度以上に設定した冷熱源水を調製する熱源装置１と、冷熱源水により室内空気を冷却して室内顕熱負荷のみを処理する主空調機２と、冷熱源水を利用して外気負荷を処理する副空調機３とを具備する。例文帳に追加

This air conditioning system includes a heat source device 1 for preparing cold heat source water set to be an indoor set temperature or lower and a dew-point temperature of indoor air or higher, a main air conditioner 2 cooling the indoor air by the cold heat source water and treating only indoor sensible heat load, and a sub-air conditioner 3 for treating outside air load by utilizing the cold heat source water. - 特許庁

これにより、金属コアを被覆する炭素系コーティング層が伝導性の金属物質を含むことによって、優秀な電子伝導性及び弾性を有するので、容量改善と共に充放電時に炭素系及び金属コアの膨脹により発生するストレスを解消させ、金属が電解液に直接露出される確率を顕著に減少させることができる。例文帳に追加

Thereby, since the carbon-based coating layer for covering the metal core has excellent electron conductivity and elasticity by containing the conductive metal substance, capacity is improved and stress generated by expansion of the carbon-based coating layer and the metal core in charging and discharging can be eliminated, and probability of directly exposing the metal to an electrolyte can significantly be reduced. - 特許庁

重ね合わせ評価パターンを用いるパターンの重ね合わせ評価方法であって、重ね合わせ評価パターンの画像を、電子顕微鏡１０、１０９を用いて取得し（Ｓ１）、取得した画像と、記憶部１１１に登録されていた、重ね合わせ評価パターンが配置されるべきレイアウト情報とを比較して、各露光ステップのずれ量と方向とを算出（Ｓ２）し、評価結果を表示（Ｓ３）する。例文帳に追加

The overlap evaluation method of the patterns uses an overlap evaluation pattern, acquires an image of the overlap evaluation pattern using electron microscopes 10, 109 (S1), compares the acquired image with layout information in which the overlap evaluation pattern registered in a storage part 111 is to be arranged to calculate the amount and the direction of displacement of each exposure step (S2) and displays an evaluation result (S3). - 特許庁

本発明の目的は、像露光に対し、ボケが小さい正確な静電潜像を形成し、該静電潜像を忠実にトナー像として顕像化でき、且つトナーの転写性、残留トナーのクリーニング性、耐傷性を改善した有機感光体を提供することであり、該感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、及び該画像形成装置に用いられるプロセスカートリッジを提供する事である。例文帳に追加

To provide an organic photoreceptor which forms an exact electrostatic latent image with little blur by imagewise exposure, can faithfully convert the electrostatic latent image to a visible toner image and improves the transferability of a toner, residual toner cleaning performance and scuffing resistance and to provide an image forming method using the photoreceptor, an image forming apparatus and a processing cartridge used in the image forming apparatus. - 特許庁

コストを抑えることができ、コンパクト且つ軽量で、コンデンサの短い焦点距離に対応できるようにステージの上面から突出する寸法を小さくできて、しかも重量制限があるような微細な動作をする電動ステージにも設置が可能で、また内部に結露が生じ難い顕微鏡観察用培養器を提供する。例文帳に追加

To provide an incubator for microscopic observation, which suppresses a cost, is compact and lightweight, reduces a size projecting from the surface of a stage so as to correspond to the short focal distance of a condenser, is mounted on an electric stage finely acting in such a manner to have a weight restriction and does not cause dew condensation inside. - 特許庁