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step betweenの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 4431



例文

The forming method of quantum dot includes a first formation step of forming a first semiconductor layer (120), containing GaAs on a substrate (110); and a second formation step of casting In and As each on the first semiconductor layer and forming a second semiconductor layer (130) containing InAs, after the substrate temperature of the substrate is set at a temperature between 480°C and 530°C.例文帳に追加

量子ドットの形成方法は、基板(110)上にGaAsを含んでなる第1半導体層(120)を形成する第1形成工程と、基板の基板温度を摂氏480度及び摂氏530度の間の温度にした後に、第1半導体層の上に、In及びAsを夫々照射して、InAsを含んでなる第2半導体層(130)を形成する第2形成工程とを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the composite semi-permeable membrane is a manufacturing method having a polyamide separation functional layer and comprises a step A of forming the polyamide separation function layer by the interfacial polycondensation between a polyfunctional amine and polyfunctional acid halide on a microporous support membrane and a step B of bringing the polyamide separation functional layer into contact with a reagent that produces acid azide by being caused to react with the acid halide.例文帳に追加

ポリアミド分離機能層を有する複合半透膜の製造方法で、微多孔性支持膜上に多官能アミンと多官能酸ハロゲン化物との界面重縮合によってポリアミド分離機能層を形成する工程Aと前記ポリアミド分離機能層を酸ハロゲン化物と反応して酸アジドを生成する試薬に接触させる工程Bを含むことを特徴とする複合半透膜の製造方法。 - 特許庁

This repeater insertion method comprises a classification step for classifying a plurality of cells according to the distance between cells, based on the physical arrangement information of a plurality of cells in the layout of a semiconductor chip, to generate one or more groups; and a repeater insertion step for determining the necessary number of repeaters and the physical arrangement positions of the repeaters for each group.例文帳に追加

リピータ挿入方法は、半導体チップのレイアウトにおける複数のセルの物理的配置情報に基づいて、セル間の距離の近さに応じて複数のセルをグループ化し1つ又は複数のグループを生成するグループ化段階と、物理的配置情報に基づいて、1つ又は複数のグループ毎に必要なリピータ数及びリピータの物理的配置位置を決定するリピータ挿入段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method for production of the metal oxide is characterized in that in the production method comprising a step for preparing a metal hydroxide by adding an alkaline material to an aqueous solution of a water-soluble metal compound, and a step for firing the obtained metal hydroxide, this method includes the processes for hydrothermal treatment of the metal hydroxide and for treatment of the oxide with a surfactant between the above two steps.例文帳に追加

水溶性金属化合物の水溶液にアルカリ性物質を添加して金属水酸化物を調製する工程と、得られた金属水酸化物を焼成する工程とを含んでなる金属酸化物の製造方法において、前記両工程の間に金属水酸化物を水熱処理する工程と、水熱処理された該金属水酸化物を界面活性剤で処理する工程とを含むことを特徴とする方法。 - 特許庁

例文

In a semiconductor substrate after STI formation as element isolation, a channel dope step is performed on the memory cell of a memory region before gate oxidation, and wet etching is performed for adjusting an STI step using a hydrofluoric acid containing solution in a state with a resist after a predetermined impurity is completely injected, so that a difference between the STI protruding amounts of the memory region and the logic region becomes approximately equal.例文帳に追加

素子分離としてのSTI形成後の半導体基板において、メモリ領域のメモリセル部に対するチャネルドープ工程をゲート酸化前に行い、所定の不純物注入完了後にレジスト付きの状態にてフッ酸含有の溶液によりSTI段差を調整するためウエットエッチングを行い、メモリ領域とロジック領域のSTI突き出し量の差が同程度になるようにした。 - 特許庁


例文

When a server accepts update of schedule information (Y of step S1), the server judges whether contents themselves of the updated schedule information has a discrepancy in a discrepancy judging part, or compares the updated schedule information with state information of a corresponding user stored in a state information storing part to judge whether there is a discrepancy between them in the discrepancy judging part (step S2).例文帳に追加

スケジュール情報の更新をサーバが受け付けたときは(ステップS1のY)、サーバは、この更新されたスケジュール情報の内容自体に矛盾がないか否かを矛盾判定部で判定する、あるいは、更新されたスケジュール情報と、状況情報格納部に格納されている当該ユーザの状況情報とを比較して、両者に矛盾がないか否かを矛盾判定部で判定する(ステップS2)。 - 特許庁

The manufacturing method of the inorganic EL element having a pair of electrodes and a luminous layer installed between the pair of electrodes, is provided with: a first step to form a lamination structure of a first layer constituted of a phosphorus oxide and a second layer constituted by adding emission center in a rare-earth oxide; and a second step to form the luminous layer by applying heat treatment to the lamination structure.例文帳に追加

無機EL素子の製造方法は、一対の電極と、一対の電極間に設けられた発光層と、を備えた無機EL素子の製造方法であって、酸化リンで構成された第1層と、希土類酸化物に発光中心を添加して構成された第2層と、の積層構造体を形成する第1ステップと、積層構造体に熱処理を施して発光層を形成する第2ステップと、を備える。 - 特許庁

In a MOSFET provided with a full-germanium silicide-formed gate electrode having a high work function, the gate electrode is formed by an auto-aligned reaction step between a silicide-formed metal and a semiconductor material containing silicon and germanium, or is preferably formed by a reaction between nickel and SiGe, and the work function of the gate electrode is finely adjustable.例文帳に追加

高い仕事関数を有するフルゲルマニウムシリサイド化ゲート電極を備えるMOSFETにおいて、上記ゲート電極は、シリサイド化金属とケイ素及びゲルマニウムを含む半導体材料との間の自己整列反応工程によって形成され、好ましくは、ニッケルとSiGeとの間の反応によって形成され、上記ゲート電極の仕事関数は微調整可能である。 - 特許庁

A method of operating a memory cell, having a first biasing device for reducing a negative charge in a charge capture structure, and a second biasing device which has the tendency of inducing a balanced charge tunneling between a gate and the charge capture structure and between the charge capture structure and a channel, and comprising the step of applying a first procedure (normally elimination) for establishing a low threshold state.例文帳に追加

電荷捕獲構造内の負の電荷を低減する第1のバイアス装置と、ゲートと電荷捕獲構造との間、および電荷捕獲構造とチャネルとの間に、平衡電荷トンネリングを誘起する傾向がある第2のバイアス装置を含む、低しきい値状態を確立するために第1の手順(通常は消去である)を適用するステップを含むメモリ・セルを動作させるための方法。 - 特許庁

例文

The abnormality detection method of damping elements 24a, 34a of bolster spring systems 24, 34 disposed between a vehicle body 10 of railroad vehicle and carriages 20, 30 includes a step of: detecting a vertical direction acceleration and a pitching direction acceleration of a vehicle body; and determining the abnormality when the phase difference between the vertical direction acceleration and the pitching direction acceleration departs from the prescribed allowable range.例文帳に追加

鉄道車両の車体10と台車20,30との間に設けられるまくらばね系24,34の減衰要素24a,34aの異常検出方法を、車体の上下方向加速度、及び、ピッチング方向加速度を検出し、上下方向加速度とピッチング方向加速度との位相差が所定の許容範囲を外れた場合に異常と判断する構成とする。 - 特許庁

例文

From the deviation between the work external shape coordinate value on this calculation and the work external shape coordinate value measured at several places in a bending line direction by a work external shape measurement means, based on the angle between the work and a die shoulder part calculated when the deviation is minimized, a precise work holding angle is calculated (step S16, S17).例文帳に追加

この計算上のワーク外形状座標値と、ワーク外形状測定手段にてワークの曲げ線方向の複数箇所で測定したワークの曲げ部のワーク外形状座標値との偏差とから、この偏差が最小となったときに計算されたワークとダイ肩部とのなす角度に基づいて正確なワークの挟み込み角度を算出する(ステップS16及びS17)。 - 特許庁

And because there are no prior art documents showing a motivation for applying a compound A to the treatment of Alzheimer's disease, such as the existence of structural similarity between a compound A and a compound having an acetylcholine-esterase activity, or the relationship between a mechanism of a compound A for affecting as antimicrobial agent and a treatment of Alzheimer's disease, the medicinal invention of claim 1 involves an inventive step. 例文帳に追加

そして、化合物 Aとアセチルコリンエステラーゼ阻害活性を有する化合物との間の構造類似性や、化合物 A が抗菌剤として作用する際のメカニズムとアルツハイマー病の治療との関係など、化合物 Aをアルツハイマー病の治療に適用する動機づけとなる先行技術文献が存在しないので、請求項 1に係る医薬発明は、進歩性を有する。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for irradiating a substrate 12 being processed with charged particles 13 through a stencil mask 11 having an opening disposed oppositely to the substrate 12 being processed, wherein the potential difference between the stencil mask 11 and the substrate 12 being processed is regulated depending on the level of a current flowing between the substrate 12 being processed and the ground.例文帳に追加

被処理基板12に対して対向して配置された、開口部を有するステンシルマスク11を介して、前記被処理基板12に荷電粒子13を照射する工程において、前記被処理基板12とグランドの間を流れる電流値に応じて、前記ステンシルマスク11と前記被処理基板12との電位差を調整することを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The substrates whose outer peripheral parts have curve angles of negative values are used as first and second substrates L1 nd L0 to be bonded to each other so that a space between substrates at outermost peripheral parts of the substrates is larger than the space between the substrates at inner peripheral parts of the substrates when surfaces to be bonded face each other in a bonding step.例文帳に追加

相互に貼り合わせるべき第1の基板L1、第2の基板L0として、基板外周部の反り角がマイナス値のものを使用し、接着するべき面同士を貼り合わせ工程において対向させたときに、基板最外周部における基板間の対向間隔が、基板内周部における基板間の対向間隔よりも大きい状態にして貼り合わせる。 - 特許庁

In a first step, objects to be measured such as two zinc plating steel plates 1a, 1b respectively formed with the films on their surfaces are prepared, an elastic conductive material 10 is interposed between two zinc plating steel plates 1a, 1b as the objects to be measured, and a spacer 11 for regulating a gap between two zinc plating steel plates 1a, 1b is also interposed.例文帳に追加

第1のステップで、測定対象物、例えば表面に膜が形成された亜鉛めっき鋼板1a,1bを2枚用意して、これら2枚の亜鉛めっき鋼板1a,1bを測定対象物として2枚の亜鉛めっき鋼板1a,1bで伸縮可能な導電性材料10を挟むとともに、2つの亜鉛めっき鋼板1a,1bの間隔を規制するスペーサ11を挟む。 - 特許庁

And, The determination step evaluates whether motion vectors pointing at the same reference image between blocks adjacent to a boundary are identical to each other or similar to each other; and based on the evaluation, determines whether to apply filtering to the boundary or not; if the motion vectors are different from each other or not similar to each other between the blocks adjacent to the boundary, filtering is applied to the boundary.例文帳に追加

そして、判定ステップは、境界に隣接するブロック間で同じ基準画像をポイントしている動きベクトルが互いに同一か否かまたは類似するか否かを評価し、評価に基づいて前記境界にフィルタリングを行なうか否かを判定し、境界に隣接するブロック間で動きベクトルが互いに異なるかまたは類似しない場合には、前記境界にフィルタリングを行なう。 - 特許庁

In the noncondensable gas exhausting step, a compressor 21 is operated for circuiting the refrigerant in the refrigerant circuit 10 so that the air sealing gas is separated from the refrigerant flowing between a heat source side heat exchanger 23 and a service side heat exchanger 51 and exhausted to the outside of the refrigerant circuit 10.例文帳に追加

非凝縮性ガス排出ステップは、圧縮機21を運転して冷媒回路10内の冷媒を循環させて、熱源側熱交換器23と利用側熱交換器51との間を流れる冷媒中から気密ガスを分離して冷媒回路10の外部に排出する。 - 特許庁

The damper 13 has a radial portion 13b interposed under axial pre- compression between a radial step face 6b formed on the worm shaft 6 and a back face 11b of the meshing element 11, and restoring force of the radial portion meshes the taper tooth surfaces 11a and 12a together without a backlash.例文帳に追加

ダンパ13は、ウォーム軸6に形成された径方向段差面6bと、噛合子11の背面11bとの間に、軸方向予圧縮された状態で介在された径方向部13bを有し、その復元力によって、テーパ状歯面11a,12aがバックラッシュのない状態で互いに噛合されている。 - 特許庁

The fastener screw 15 fastens an image pickup unit 14 by being screwed into the screw hole 13d in the distal end section body 13 and by holding a fastening portion 31a in the second lens frame 31 of the image pickup unit 14 between the screw and a step portion 13c of the distal end section body 13.例文帳に追加

前記固定用ビス15は、前記先端部本体13のビス孔13dにねじ込まれ、前記撮像ユニット14の第2のレンズ枠31の固定部31aを前記先端部本体13の段差部13cとで挟み込むことにより、前記撮像ユニット14を固定するものである。 - 特許庁

A color layer 25B in the pixel part in the position along the outermost periphery of the display region is extended to the frame pattern 32 consisting of a black color layer to form an extended part 27 so that the step part between the color layer and the frame pattern is disposed apart from the pixel electrode 30.例文帳に追加

表示領域の最外周に沿って位置した画素部の着色層25Bを黒着色層からなる額縁パターン32側へ延在させて延在部27を形成することにより、着色層と額縁パターンとの段差部分を画素電極30から離して配置する。 - 特許庁

When it is determined that a shutter key 8 is fully pressed down in a step S7, differential values between adjacent pixels included in an auto shutter area about each of five frame images to be later acquired are acquired (S10), and differences of the differential values of respective frame images are acquired as an evaluation value (S13).例文帳に追加

ステップS7でシャッターキー8が全押しされたと判断されると、その後取得される5枚分の各フレーム画像についてオートシャッターエリア内に含まれる隣接画素間の差分値を取得し(S10)、各フレーム画像の差分値の差分を評価値として取得する(S13)。 - 特許庁

To provide a hub unit for a wheel, preventing a step part between the shaft outer peripheral surface of a shaft body and a terminal end fitting part from causing overheat deformation affecting fitting of an inner ring element due to heat treatment without any increase in cost.例文帳に追加

本発明は、熱処理によって、軸体の軸体外周面と終端嵌合部との間の段部に、熱処理によって、内輪要素の嵌合に影響が生じるような過熱変形をコストアップが発生することなく防止できる車輪用ハブユニットを提供することを目的としている。 - 特許庁

In a step of heating and stretching the thermoplastic resin film using the heater and the stretcher, the heater is evacuated so that the distance between the film and the heater becomes30% of the stretching distance of the film when the stretcher is stopped.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムを加熱器および延伸機により加熱延伸する工程において、延伸機が停止した際に、加熱器をフィルムから加熱器までの距離がフィルムの延伸距離の30%以上になるように退避させることを特徴とする熱可塑性樹脂フィルムの加熱延伸方法。 - 特許庁

The step difference between the end parts of the metal wiring 13, 14 is relaxed by forming the resin film 11 at the end part of the metal wiring 13, 14, and the end parts of the metal wiring 13, 14 are prevented from peeling away and disconnection of the pixel electrode 12 can be prevented.例文帳に追加

金属配線13,14の端部に樹脂膜11を形成したことにより、金属配線13,14の端部が有する段差が緩和され、層間絶縁膜10が形状変化しても、金属配線13,14の端部の剥がれが防止され、画素電極12の断線を防ぐことが可能となる。 - 特許庁

A control unit of a gateway device determines whether there is communication data to be relayed between a radio terminal and a radio base station in steps S402 and S403, and if there is communication data to be relayed, returns a beacon cycle to a default value in step S401.例文帳に追加

ゲートウェイ装置の制御部は、ステップS402、ステップS403で、無線端末と無線基地局宛との間で中継すべき通信データが存在するか否かを判断し、中継すべき通信データが存在する場合は、ステップS401で、ビーコン周期をデフォルト値に戻す。 - 特許庁

In the 1st step, a plasma treatment head 10 having two or more blowout openings 11a and 11b that communicate with a space between electrodes facing each other (hereinafter referred to as "discharge space") is arranged so that different regions to be treated 1a and 1b of a workpiece 1 face each other.例文帳に追加

第1の工程において、対向する電極の間の空間(以下、「放電空間」という。)に連通する複数の吹出口11a,11bを有するプラズマ処理ヘッド10を、被処理物1の異なる被処理領域1a,1bにそれぞれ対向するように配置する。 - 特許庁

A locking tool insertion hole 20 formed by opening in the upper surface of the block, a locking section turning space 21 formed in the lower surface of the block and a locking section locking surface 22 formed by an uneven step between the locking section turning space and locking tool insertion hole are formed in the locking hole.例文帳に追加

係止穴には、ブロック上面に開口して形成された係止具挿入穴20と、ブロック下面に形成された係止部旋回空間21と、この係止部旋回空間と係止具挿入穴との段差によって形成された係止部係合面22が形成されている。 - 特許庁

A spring is interposed between the adapter 24 and the barrel 44 to widen them to a completely extended position but on a step where preparation for using is finished, a plug 40 on the adapter is engaged with the notch 52 of the slot 50 of this barrel to latch the needle in the state of projecting a little from the barrel.例文帳に追加

アダプタ24とバレル44の間にばね66が介在し、それらを完全に延伸した位置へ押広げるが、使用の準備ができた段階では、アダプタ上のプラグ40がこのバレルのスロット50の切欠き52と係合して針がバレルから僅かに出る状態にラッチする。 - 特許庁

The cover member 90 is nipped between the brake case 65 and the end face 68c of the braking member 68 and an end face not facing the spool 12 of a step difference part 5e of the first side plate 5a so as to close the brake case 65 and the opening part 68b of the braking member 68.例文帳に追加

カバー部材90は、ブレーキケース65及び制動部材68の端面68cと、第1側板5aの段差部5eのスプール12と対向しない側の端面との間において、ブレーキケース65及び制動部材68の開口部68bを閉塞するように挟持される。 - 特許庁

To provide a foundation parting installing structure capable of improving an appearance, and capable of securing waterproofness by constructing a foundation parting in a beautiful straight line shape in a plan view by preventing generation of a step height between the foundation partings juxtaposed along a foundation and flapping of the foundation parting.例文帳に追加

基礎に沿って並設される基礎見切り間に段差が生じたり、基礎見切りが波打ったりすることを防止でき、基礎見切りを平面視で綺麗な一直線状に施工できて外観を向上でき、尚且つ防水性を確保できる基礎見切りの取付け構造を提供する。 - 特許庁

This device is provided with a scaffold plate 8 folded between a toe guard 5 provided below a landing sill 2 in a hoistway and a landing side wall surface part 12 of the hoistway, and a developing means 9 to develop the scaffold plate when necessary, and hold a step surface 8a of the scaffold plate to be roughly horizontal.例文帳に追加

昇降路内の乗場敷居2の下部に設けられたトーガード5及び昇降路の乗場側壁面部12の間に畳み込まれた足場プレート8と、所定時にこの足場プレートを展開し該足場プレートの踏み面8aを略水平方向に保持する展開手段9とを備える。 - 特許庁

A shown method includes at least a step for allocating a gap interval to each device on the basis of the data transfer rate of a class to which a certain device belongs and the allocated gap interval is inserted into a part between data streams transmitted by the device concerned through a bus.例文帳に追加

例示的な方法は、少なくとも装置が属するクラスのデータ転送レートに基づいてギャップインターバルを各装置に割当てるステップを含み、割当てられたギャップインターバルは、対応する装置によってバスを通して送信されるデータストリームの部分の間に挿入される。 - 特許庁

In this crystallization step, the thermal conduction from a heat source 108 to the ferroelectric film 106 is carried out in a manner that the convection thermal conduction from a gas 109 existing between the heat source 108 and the ferroelectric film 106 is more dominant over the radiation heat conduction from the heat source 108.例文帳に追加

この結晶化工程において、熱源108から強誘電体膜106への熱伝導を、熱源108と強誘電体膜106の間に存在する気体109からの対流熱伝導の方が熱源108からの輻射熱伝導よりも支配的になるようにする。 - 特許庁

To provide a binder for a heat developable photosensitive material capable of ensuring superior adhesiveness between layers constituting a multilayer heat developable photosensitive material when used in the heat developable photosensitive material, and capable of improving adhesiveness particularly in high temperature processing in a developing step.例文帳に追加

積層型の熱現像感光材料に用いた場合、熱現像感光材料を構成する各層間の接着性に優れるものとすることができ、特に現像工程における高温処理時での接着性を向上させることが可能な熱現像感光材料用バインダーを提供する。 - 特許庁

A multi-step process is used to adjust a chemical vapor deposition chamber after cleaning and between successive depositions, by removing fluorine residues from the chamber with a hydrogen plasma, and subsequently depositing a solid compound in the chamber to encapsulate any particles remaining in the chamber.例文帳に追加

洗浄後かつ連続した堆積の間に、水素プラズマでチャンバからフッ素残渣を除去し、続いてチャンバ内に固体化合物を堆積させてチャンバ内に残っている微粒子物を封入することによって、化学気相成長チャンバを調整するマルチステッププロセスを用いる。 - 特許庁

In the step of dispersing the raw material for toner in the aqueous medium, arrangement and operating conditions of a plurality of agitating blades are optimized to optimize a balance between a discharge flow rate and shear force produced by the agitating blades, whereby toner particles having a sharp particle size distribution are manufactured.例文帳に追加

トナー用原料を水系媒体中に分散させる工程において、複数の攪拌翼の配置と運転条件を適正化することによって、撹拌翼によって生ずる吐出流量と剪断力のバランスを最適なものとすることにより、粒度分布のシャープなトナー粒子を製造する。 - 特許庁

In this wheel crane, an upper turning body having a crane boom and a cab is mounted to a lower traveling body 4, and a floor plate storage part 50 is installed in a space between the step 40 used for stepping up/down on the lower traveling body 4 and the lower traveling body 4.例文帳に追加

クレーン用ブームと運転室を備えた上部旋回体を下部走行体4に搭載し、上記下部走行体4上に昇り降りするときに使用するステップ40と上記下部走行体4の間に位置する空間に敷板収納部50を設置したホイールクレーンである。 - 特許庁

In the step of forming the first groove 110 and the second groove 120, a projection 140 extending from one corner of an intersection portion 130 between the first groove 110 and the second groove 120 toward the center of the intersection portion 130 in a plan view is formed in the intersection portion 130.例文帳に追加

そして第1の溝110及び第2の溝120を形成する工程において、第1の溝110と第2の溝120の交差部分130に、平面視において交差部分130の角の一つから交差部分130の中央に向けて延伸する凸部140を形成する。 - 特許庁

The device determines whether or not a moving object is detected on the upper part of the stopped vehicle when the stopped vehicle is detected, and calculates (step S07) the relative distance between the stopped vehicle and the moving object based on a beat signal outputted from the radar when the moving object is detected.例文帳に追加

停止車両が検出された際に、した停止車両の上部に移動物体が検出されたか否かを判定し、移動物体が検出された場合には、レーダから出力されるビート信号に基づき、停止車両と移動物体との相対距離を算出する(ステップS07)。 - 特許庁

When the solid-state image sensing device is to be manufactured by forming a photoelectric conversion element or the like at one surface side of a semiconductor substrate, a step is formed between a light incidence surface out of the surfaces of the photoelectric conversion element and the surface of the semiconductor substrate around the photoelectric conversion element.例文帳に追加

半導体基板の一表面側に光電変換素子等を形成して固体撮像装置を作製するにあたって、光電変換素子表面のうちの光入射面と光電変換素子周囲の半導体基板表面との間に段差を形成する。 - 特許庁

When the difference calculated in the image comparison circuit 12 is smaller than a prescribed value (a step S1 ; No), a transmission region data processing circuit 13 generates image data of a region to be transmitted in the image data and data showing a region from the difference between the image data and transmits them.例文帳に追加

画像比較回路12において算出された差分が所定値より小のとき(ステップS1;No)、伝送領域データ処理回路13は、画像データの差分から画像データのうち伝送する領域の画像データ及び該領域を表すデータを生成して送信する。 - 特許庁

To provide a refrigerator door handle capable of being easily gripped by eliminating a gap and a step between components with a simple constitution, and achieving sufficient strength and wide variation in design by fixing a separate piece such as a decorative member to a handle member by utilizing a cooling process time after molding the door handle.例文帳に追加

扉ハンドル成形後の冷却過程時間を利用して飾り部材など別ピースをハンドル部材に固着することにより、簡単な構成で部品間の隙や段差をなくして握りやすく、充分な強度とともに幅広い意匠バリエーションを得ることができる冷蔵庫扉ハンドルを提供する。 - 特許庁

According to this method (100), by operating the prescribed parameter related to the fuel cell and the energy storage device (step 108), a desired state of the energy storage device is controlled and a load current is divided between the fuel cell and the energy storage device.例文帳に追加

本発明の方法(100)によれば、燃料電池及びエネルギ貯蔵デバイスに関係する所定のパラメータを操作する(ステップ108)ことによって、エネルギ貯蔵デバイスの所望の状態が制御され、また負荷電流が燃料電池及びエネルギ貯蔵デバイスの間に分割される。 - 特許庁

In the manufacturing step of the sensor chip 3; a silicon oxide film 32 having resistivity to an etchant is formed on the front surface of a silicon substrate 31, and many apertures 17 for exposing the silicon substrate 31 is formed within a ring domain between the circumferential edge and the center area of the silicon oxide film 32.例文帳に追加

センサチップ3の製造工程では、シリコン基板31の表面に、エッチング液に対する耐性を有するシリコン酸化膜32が形成されて、そのシリコン酸化膜32の周縁部と中央部との間の環状領域に、シリコン基板31を露出させる多数の開口17が形成される。 - 特許庁

A code amount is assigned to each frame in the unit of an image group so that a buffer occupancy rate of the image group having a prescribed number of image frames included in a video signal is kept within a range between an upper limit and a lower limit of the preset buffer occupancy rate (1st step).例文帳に追加

ビデオ信号に含まれる所定数の画像フレームを有する画像群のバッファ占有率が、予め設定されたバッファ占有率の上限値と下限値との間の範囲内に収まるように、前記画像群単位で符号量が割り当てられる(第1の段階)。 - 特許庁

The air bag is folded at a crease C along the rear main flow passage, and stored on an upper edge side of an opening on the cabin side while at least one crease C1 is arranged in a step area 45 between the front edge 44 side and the rear edge 43 side at the inner peripheral edge of the communication port.例文帳に追加

エアバッグは、後主流路に沿う折目Cで折り畳まれるとともに、少なくとも1つの折目C1が、連通口内周縁における前縁44側と後縁43側との段差エリア45に配置されて、車内側の開口の上縁側に収納される。 - 特許庁

The method comprises the step of adjusting the temperature of at least one of a gas and a liquid supplied to air bubble generation means, and a liquid in a gas-liquid contact tank, causing a temperature difference between the gas and the liquid, and blowing a gas-liquid mixture fluid from the air bubble generation means into the liquid into the gas-liquid contact tank.例文帳に追加

気泡生成手段に供給する気体、液体および気液接触槽内の液体のうちの少なくとも1つの温度を調整し、気体と液体との間に温度差を生じさせ、気泡生成手段から気液混合流体を気液接触槽内の液体中に吹込む。 - 特許庁

A lead frame 1 that is formed at the constant arrangement pitch of a semiconductor device in a cavity and larger than the size of a package is used in a batch-forming step, and the semiconductor device is alternately diced at different pitches, a nearly same pitch as the package size and a clearance pitch between packages.例文帳に追加

一括成型工程でキャビティ内の半導体装置の配置ピッチが均一でかつパッケージ寸法より大きくなるように形成したリードフレーム1を使用し、ダイシング工程でパッケージ寸法とほぼ同ピッチとパッケージ間の隙間ピッチという異なるピッチで交互にダイシングする。 - 特許庁

The side wall of the step of the semiconductor device constituted of the principal surface and side wall of the device is etched, by controlling an impressing direction of a magnetic field or impressing directions of a magnetic field and an electric field upon etching species and by utilizing the reaction between the etching species and side wall.例文帳に追加

主表面と側壁とから構成される段差を有する半導体装置の段差の側壁を、エッチング種に磁界又は磁界と電界の印加方向を制御すること、エッチング種と側壁の反応を利用することで、エッチングすることにより上記課題を解決する。 - 特許庁

例文

Thus, the first analysis result with respect to an influence of the opening of the pattern and the second analysis result with respect to the strength of a membrane between the patterns are combined, and the complimentary division condition is determined based on an allowable changing quantity and stress concentration (step ST15).例文帳に追加

このように、パターンの開口の影響の観点からの第1の解析およびパターン間のメンブレンの強度の観点からの第2の解析の結果を併用し、許容される変位量および応力集中に基づいて、相補分割条件が決定される(ステップST15)。 - 特許庁




  
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