「first step is to」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

The barrier layer of a multiple quantum well semiconductor element is respectively formed of a plurality of internal barrier layers, and the height of a hetero barrier to a hole between the barrier layer and quantum well layer is changed in a step state, from higher hetero barrier to lower hetero barrier, in the respective barrier layers along the direction from a clad layer with a first conductivity toward one with a second conductivity.例文帳に追加

多重量子井戸半導体素子の障壁層をそれぞれ複数の内部障壁層で構成し、各障壁層内において当該障壁層と量子井戸層の間のホールに対するヘテロ障壁高さを、第１の導伝性を有するクラッド層から第２の導伝性を有するクラッド層の方向に沿って、大きいヘテロ障壁高さから小さいヘテロ障壁高さへと階段状に変化させる。 - 特許庁

The present invention relates to a method for controlling power by which information is transmitted by a first station 4 to a plurality of second stations 6 on a common channel, wherein different information is intended for different stations, and the method comprises a step of transmitting information into the common channel, wherein information intended for different second stations 6 are transmitted at different power levels.例文帳に追加

第１の局４によって共通のチャネル上の複数の第２の局６に情報が伝送されるパワーを制御する方法であって、異なる情報が異なる局のために意図されており、当該方法が、前記共通チャネル内に情報を伝送する工程を備え、異なる第２の局６のために意図された情報が異なるパワーレベルで伝送される。 - 特許庁

The method includes a step for allowing the instruction of the first thread to perform access to a source operand from the register file of the second thread not to be executed when a synchronization indicator related to the source operand indicates that the producer calculation of the second thread is not terminated yet, and for executing the instruction when the synchronization indicator indicates the termination of the producer calculation in the second thread.例文帳に追加

この方法は、ソースオペランドに関連する同期インジケータが第２のスレッドのプロデューサ演算が終っていないことを示す場合、第２のスレッドのレジスタファイルからソースオペランドにアクセスする第１のスレッドの命令を実行しないようにし、同期インジケータが第２のスレッドのプロデューサ演算が終了したことを示す場合、命令を実行する段階を備える。 - 特許庁

On the basis of a judged result, at least one of a first printing mode of outputting the specified photographed image data to a printer to be printed and a second printing mode of outputting a series of a photographed image data group photographed by step photographing including the specified photographed image data to the printer to be printed is displayed at a display part.例文帳に追加

判定結果に基づいて、指定された撮影画像データをプリンタに出力して印刷させる第１印刷モードと、指定された撮影画像データを含む前記段階撮影によって撮影された一連の撮影画像データ群をプリンタに出力して印刷させる第２印刷モードの少なくとも一方を表示部に表示する。 - 特許庁

The method for treating hydrogen peroxide-containing water comprises a step of adding catalase to raw water containing hydrogen peroxide, in the concrete, comprises the steps of: continuously supplying the raw water to the multistage reaction tank having a plurality of divided reaction areas; and adding catalase to the reaction area to which the raw water is supplied first.例文帳に追加

過酸化水素を含有する原水にカタラーゼを添加して分解処理する過酸化水素含有水の処理方法であって、複数に区画された反応域を有する多段式の反応槽に原水を連続的に供給し、原水が最初に供給される反応域にカタラーゼを添加する過酸化水素含有水の処理方法である。 - 特許庁

It also comprises a step of forming a catch part 122 extending outward from the body of the spline seal, and a step of inserting the spline seal into slots 60 formed in the first and second turbine nozzles to accept parts of the spline seal into recessed portions formed in the slots so that the spline seal is easily held in the slots of the turbine nozzles to easily reduce leakage via the gap.例文帳に追加

さらに、引っ掛かり部（１２２）を前記スプラインシールの前記本体部分から外方に延在させて形成させる段階と、前記スプラインシールを前記第１および第２のタービンノズルに形成されるスロット（６０）内に挿入し、前記スプラインシールの一部が前記スロット内に形成される凹部内において受けられて、前記スプラインシールが前記タービンノズルのスロット内において保持されやすくして、前記間隙を介した漏出を減少させやすくする段階とを含む。 - 特許庁

Where an examination on the requirements for patentability in terms of novelty, inventive step, etc. was not made in the first notice of reasons for refusal even though there is no reasonable reason not to perform the examination on the requirements (see, 4.2 (4) ① to ⑦), and reasons for refusal related to the requirements are notified in the second notice of reasons for refusal. 例文帳に追加

新規性・進歩性等の特許要件についての審査を行わないことに合理的な理由(4.2 (4) ①から⑥参照)がないにもかかわらず、一回目の拒絶理由通知のときにこれを行わなかった場合において、二回目の拒絶理由通知で、新規性・進歩性等の特許要件に関する拒絶理由を通知する場合 - 特許庁

This collector is provided with a collector stage 106 constituted to collect a first portion 116 of electrons from an electron beam 52, and a self-biased element 102 having a secondary electron emissivity 1 or smaller and comprising an electron cumulative element 104 positioned with respect to the collector step 106, so as to receive a second portion 114 of the electrons of the electron beam.例文帳に追加

電子ビーム52の電子の第１の部分116 を収集するように構成されたコレクタ段106 と、１より小さい２次電子放射係数を有し、電子ビームの電子の第２の部分114 を受けるようにコレクタ段106 に関して位置されている電子累積素子104 を有する自己バイアス素子102 とを具備していることを特徴とする。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufactured by exposing and developing the photoresist on the substrate to form the first rugged patterns, subjecting the substrate to dry etching using the photoresist as a mask to form the second rugged patterns, removing the photoresist remaining on the substrate and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the second rugged patterns of the substrate with the laser beam in the dry etching process step.例文帳に追加

また、基板上のフォトレジストを露光現像して第１の凹凸パターンを形成し、フォトレジストをマスクとして基板に対してドライエッチングを行って第２の凹凸パターンを形成して、基板上に残ったフォトレジストを除去し、ドライエッチング工程において、基板の第２の凹凸パターンにレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

First, a cleaned crystal substrate 101 is heated at a specified temperature in a super high vacuum to invert the surface structure of the crystal substrate 101 to low-temperature phase of 7×7 structure from high-temperature phase of 1×1 structure, namely, to change separate state into bundled state of several steps (step 111).例文帳に追加

先ず、洗浄した結晶基板１０１に超高真空の中で所定の加熱処理を施し、結晶基板１０１の表面構造を高温相の１×１構造から低温相の７×７構造に転移させ、一本一本ばらばらの状態から数本のステップが束になった状態（ステップ１１１）へと変化させる。 - 特許庁

To provide a weather strip for supporting the door glass of an automobile in which first and second weather strips supporting movable glass and fixed glass on a division channel of a rear door are joined by surface adhesion, they are supported at the lower end of a door chassis to eliminate the use of specific components, and the step difference between the components is eliminated to enhance appearance.例文帳に追加

後方ドアのディビジョンチャンネル上に可動ガラスと固定ガラスをそれぞれ支持する第１,２のウエザストリップが相互に面着によって接合されるとともに、これらをドアシャシの下端部上に支持するようにして、格別な部品の使用を排除するとともに、部材間の段差をなくして、外観美を向上させることができる自動車のドアガラス支持用ウエザストリップを提供する。 - 特許庁

The substrates whose outer peripheral parts have curve angles of negative values are used as first and second substrates L1 nd L0 to be bonded to each other so that a space between substrates at outermost peripheral parts of the substrates is larger than the space between the substrates at inner peripheral parts of the substrates when surfaces to be bonded face each other in a bonding step.例文帳に追加

相互に貼り合わせるべき第１の基板Ｌ１、第２の基板Ｌ０として、基板外周部の反り角がマイナス値のものを使用し、接着するべき面同士を貼り合わせ工程において対向させたときに、基板最外周部における基板間の対向間隔が、基板内周部における基板間の対向間隔よりも大きい状態にして貼り合わせる。 - 特許庁

In forming a recess on a substrate W being a workpiece, a condensing point L_s1 of a modifying laser beam L1 as a first laser beam is scanned inside the substrate W and then, a modified layer Wr as the boundary of a laser beam machining region R1 is formed in a position corresponding to the bottom of the recess (step of forming a modified layer).例文帳に追加

被加工物である基板Ｗに凹部を形成する際に、基板Ｗの内部に第１のレーザ光である改質用レーザ光Ｌ１の集光点Ｌ_Ｓ１を走査して、レーザ加工領域Ｒ１の境界となる改質層Ｗｒを凹部の底部に対応する位置に形成する（改質層形成工程）。 - 特許庁

At the setting process step, adjustment of the shape of the image itself is performed such as adjustment of parallelism, squareness, magnification and the like is performed in first and then adjustment of image forming position for adjusting the position of the image with respect to the recording material such as adjustment of side skew, lead registration, side registration, front and rear registration and the like.例文帳に追加

この設定工程においては、平行度調整、直角度調整、倍率調整などの画像自体の形状を調整する画像形状調整を先に行い、その後にサイドスキュー調整、リードレジ調整、サイドレジ調整、表裏レジ調整などの記録材に対する画像の位置を調整する画像形成位置調整を行う。 - 特許庁

When depositing the colossal magneto-resistive material thin film which has epitaxially grown after crystal orientation on a base electrode by sputtering using facing targets, a sputtering process having at least two steps are used, a deposition rate is relatively slowed down in the sputtering process in a first step, and the deposition rate is relatively accelerated in the sputtering process in later steps to form the thin film.例文帳に追加

対向ターゲットを用いたスパタッリングによって下地電極上の結晶方位に倣ってエピタキシャル成長した巨大磁気抵抗材料薄膜を成膜する際に、少なくとも２段階のスパッタリング工程を用い、第１段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に遅くし、その後の段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に速くして薄膜を形成する。 - 特許庁

As the first step, a mixture of cells is introduced into a microfluidic channel that selectively allows the passage of a desired type of cell; next, the population of cells enriched in the desired type is then introduced into a second microfluidic channel that allows the passage of the desired cell to produce a population of cells further enriched in the desired type.例文帳に追加

第一段階として細胞混合物が選択的に所望の細胞型の通過を許容する微小流路内に導入され、次に所望の型が濃縮された細胞集団が所望の細胞の通過を許容する第2の微小流路内に導入され、所望の型がいっそう濃縮された細胞集団が生成される。 - 特許庁

In the second electrodeposition step, the coil end portion 32 and a slot portion 31 are immersed in high volatility electrodeposition liquid 41C accumulated in the second electrodeposition bath 40B to perform electrodeposition so that a second deposition film SC2 is formed on surface of the first deposition film SA1 and SB1, and the second deposition film SC2 is formed in the slot portion 31.例文帳に追加

第２電着工程では、コイルエンド部３２とスロット部３１とを第２電着槽４０Ｂに貯留された高揮発性電着液４１Ｃに浸漬して電着を行うことにより、第１析出被膜ＳＡ１，ＳＢ１の表面に第２析出被膜ＳＣ２を形成するとともに、スロット部３１に第２析出被膜ＳＣ２を形成する。 - 特許庁

The oscillating cam is formed in a slender raindrop shape, and has lamp sections 42b and 43b having long travel distance rolling and contacting with first and second follower surfaces 35a and 35b, and a stopper member 39 that abuts on a step surface 36b of the bracket if necessary and regulates over turning of the oscillating cam, is fixed to the end of the cam shaft.例文帳に追加

この揺動カムは、細長い雨滴状に形成されて、第１，第２フォロア面３５ａ、３５ｂに対して転接するトラベル量の長いランプ部４２ｂ、４３ｂを有していると共に、前記カム軸の端部にブラケットの段差面３６ｂに適宜当接して揺動カムの過回動を規制するストッパ部材３９が固定されている。 - 特許庁

Continuous printing of partial images of the image to the one step higher rest of the series of sheet printing mediums is followed by the printing of better partial images of at least one set of partial images printed on the first sheet printing medium by monochromatic mutually-interstitial dies is performed.例文帳に追加

第１シートプリンテイング媒体上への第１画像のモノクロの相互侵入型でプリントされた部分画像の少なくとも１セットの更に進んだ部分画像をプリントすることが追随する、シートプリンテイング媒体のシリーズの各残りの１つ上への画像の部分画像の連続したプリントが行われる。 - 特許庁

In a photoetching process step for forming gate wiring having a first compensation pattern, data wiring to define a pixel region formed to intersect with the gate wiring and the source/drain electrode, the capacitor electrode having the second compensation pattern formed on the prescribed region of the gate wiring is inclusively constituted.例文帳に追加

本発明は、第１補償パターンを有するゲート配線と、前記ゲート配線と交差されるように形成されて画素領域を定義するデータ配線と、ソース／ドレイン電極形成のためのフォトエッチング工程時、絶縁膜を間に置き、前記ゲート配線の所定領域上に形成され第２補償パターンを有するキャパシタ電極を包含して構成される。 - 特許庁

Then, on completion of the purification step, a second monomer crude product present in the feed tank is supplied to the film evaporator at a second feed rate lower than the first feed rate to separate a second distillate including the monomer and the high-boiling point impurities from second bottom products including the high-boiling point impurities.例文帳に追加

その後、前記精製工程終了時に前記供給タンク内に存在する第二のモノマー粗製品を、前記第一の供給速度より遅い第二の供給速度で薄膜蒸発器に供給して、前記モノマーおよび前記高沸点不純物を含む第二の留出液と、前記高沸点不純物を含む第二の缶出液とに分離する。 - 特許庁

A pasting method for pasting a pair of pasted faces facing each other in first and second objects to be pasted via the adhesive agent, includes a step of pasting the pasted faces by narrowing an interval between the pasted faces in a direction perpendicular to an in-plane direction while performing alignment processing which is relative positioning of the pasted faces in the in-plane direction.例文帳に追加

貼り合わせ方法は、第１及び第２の貼り合わせ対象物において互いに対向する一対の貼り合わせ面同士を接着剤を介して貼り合わせる方法であって、貼り合わせ面同士を、面内方向における相対的な位置合わせであるアライメント処理を行いつつ該面内方向と垂直な方向における貼り合わせ面同士の間隔を狭めてゆくことで貼り合わせる貼り合わせ工程を有する。 - 特許庁

In the processing order determination step, indices to the limit range and the target range are calculated (S5); and the processing order in which fuel assemblies to be processed are arranged is determined both so that the first index can lie within the limit range, and the second index within the target range, while determining whether the indices lie within the limit range or the target range (S6).例文帳に追加

処理順序決定工程では、これらの制限範囲および目標範囲に対する指標を計算し（Ｓ５）、その指標が制限範囲内あるいは目標範囲内であるか否かを判定し（Ｓ６）ながら、第１の指標が制限範囲内であって第２の指標が目標範囲となるように処理対象燃料集合体を並べた処理順序を決定する。 - 特許庁

The manufacturing method is characterized by including the step of: processing a substrate 22 to impart a plurality of thicknesses partially to the substrate; manufacturing a slider 24 from a part having a first thickness of the plurality of thicknesses, and simultaneously a tip 23 from a part having a second thickness of the plurality of thicknesses.例文帳に追加

基板２２を加工して部分的に複数の厚みを持つよう加工する工程と、前記複数の厚みのうち第一の厚みを持つ部分からスライダー２４を作製すると同時に、前記複数の厚みのうち第二の厚みを持つ部分からティップ２３を作製する工程と、を含むことを特徴とする作製方法とする。 - 特許庁

The layout designing method makes preparations (second to twelfth steps) for making wiring corrections for eliminating a redundant via wiring rule violation place by changing the direction of a cell if a redundant via wiring rule is violated during detailed wiring (first steps), and then making the wiring corrections by changing the direction of the cell (thirteenth to fifteenth steps) and performing route update (sixteenth step).例文帳に追加

詳細配線（第１工程）で冗長ビア配線ルール違反が発生した場合、セルの向きを変更して冗長ビア配線ルール違反箇所を解消する配線修正を行うための準備（第２工程〜第１２工程）を行い、その後、セルの向きを変更して配線修正を行い（第１３〜第１５工程）、経路更新を行う（第１６工程）工程を用意する。 - 特許庁

According to this sensor element manufacturing method, since a pressurizing process is performed, after a punching arrangement process to arrange the solid electrolyte object 435 for a penetration hole 433 of the insulating member 405, step dimension between the solid electrolyte object 435 and the insulated member 405 in the boundary portion can be made smaller than thickness dimension of the electrodes (first electrode 404 and second electrode 406).例文帳に追加

本センサ素子製造方法によれば、絶縁部材４０５の貫通孔４３３に対して固体電解質体４３５を配置する打抜配置工程の後、加圧工程を実行することから、境界部分における固体電解質体４３５と絶縁部材４０５との段差寸法を電極（第１電極４０４および第２電極４０６）の厚さ寸法よりも小さくすることができる。 - 特許庁

An increment of the program voltage is set to a different arbitrary value by controlling a reatationship between a resistance of the first circuit and a resistance of the third circuit to be maintained, while maintaining a start program voltage or a target program voltage at a fixed value without a change in the program step code.例文帳に追加

また、第１回路部の抵抗値と第３回路部の抵抗値との間に特定関係が維持されるように制御して、プログラムステップコードの変更なしにスタートプログラム電圧またはターゲットプログラム電圧を固定された値に維持しながらプログラム電圧の増加分を任意の値に異なるように設定することができる。 - 特許庁

The method for handling a polysilazane or a polysilazane solution contains a step to handle a polysilazane or a polysilazane solution including at least the synthesis of a polysilazane and the formulation of a polysilazane solution in a first space which is shielded from the outer atmosphere and supplied with air subjected to the removal treatment of amines, basic substances, volatile organic compounds and acidic substances as the main air source.例文帳に追加

ポリシラザンまたはポリシラザン溶液の取り扱い方法は、外気から遮蔽され、且つアミン、塩基性物質、揮発性有機化合物、酸性物質を除去された空気を主たる空気の供給源とする第１空間内で、少なくともポリシラザンの合成およびポリシラザン溶液の調合を含むポリシラザンまたはポリシラザン溶液を取り扱う工程を含む。 - 特許庁

A method for measuring the film thickness of an active layer 6a for an SOI substrate 6 constituted by interposing an oxide film 6c between the active layer 6a and a support substrate 6b comprises the step of first setting an analyzing wavelength range so as to remove a wavelength to become the 'node' in which the interference is weakened by reflected lights on both surfaces of the film 6b.例文帳に追加

活性層６ａと支持基板６ｂとによって酸化膜６ｃを挟み込んで構成されたＳＯＩ基板６に対し、活性層６ａの膜厚を測定する膜厚測定方法において、まず、酸化膜６ｂの両面での反射光により、干渉が弱められた「節」となる波長を除くように解析波長領域を設定する。 - 特許庁

In the first step, the measuring device is positioned at the first position, and in the second step, the measuring device is moved to the second position closer to the hole bottom of the measuring device burying hole than to the first position.例文帳に追加

測定装置とセメントミルクとを内蔵するケース管を水平ボーリング孔に形成された測定装置埋設孔へ導入する第１のステップと、前記ケース管を引きぬくことにより、該ケース管の先端側から前記セメントミルクを放出させて前記測定装置埋設孔をセメントミルクで充填するとともに当該セメントミルク内へ前記測定装置へ埋設する第２のステップとを含む測定装置の埋設方法において、前記第１のステップにおいて前記測定装置を第１の位置に存在させ、前記第２のステップにおいて前記測定装置を前記第１の位置より前記測定装置埋設孔の孔底部に近い第２の位置へ移動させる、ことを特徴とする測定装置の埋設方法を提供する。 - 特許庁

I believe that restoring the Spanish financial sector to a sound condition is an important first step toward stabilizing the market. In any case, the FSA will monitor European governments' policies toward the European fiscal and financial problems with strong interest. 例文帳に追加

スペインの金融セクターの健全化というのは、市場の安定に向けた重要な第一歩と考えておりますが、いずれにしましても金融庁としては、欧州の財政・金融問題に対する欧州各国の政策や市場に与える影響については、引き続き高い関心を持って注視していくという所存であります。 - 金融庁

The reasons for refusal in terms of novelty and inventive step, etc. were notified by referring to a prior art document in the first notice of reasons for refusal and an amendment against it was made. In this case, the reasons for refusal should be notified using other new prior art document on a claim which was not amended, where it is discovered that the previous reason for refusal on the claim was not appropriate after taking the written opinion into account. 例文帳に追加

一回目の拒絶理由通知で、先行技術文献を引用して進歩性欠如等の拒絶理由を通知したところ、これに対する補正がなされた場合において、補正がなされなかった請求項について、意見書の内容を勘案した結果、先の拒絶理由が妥当でなかったと判断し、異なる新たな先行技術文献を引用しなおして拒絶理由を通知する場合 - 特許庁

Even if the claimed invention is considered to have been easily made by combining cited inventions at the first glance, if the claimed invention has an advantageous effect, such as qualitatively different, or qualitatively the same but quantitatively prominent effect, in comparison with those of the cited inventions, and if the advantageous effect would not have been foreseen by a person skilled in the art from the state of the art, the inventive step can be acknowledged. 例文帳に追加

請求項に係る発明が、一見すると引用発明を組み合わせることにより簡単になされたものであると考えられる場合でも、請求項に係る発明が、引用発明の効果と比較して異質な効果、又は同質の効果であるが量的に際立った効果等の有利な効果を有し、当該有利な効果が、技術水準から当業者が予測できなかったものである場合、進歩性が認められる。 - 特許庁

Preferably, before the start of the first step, a gas containing nitrogen and/or oxygen is supplied to the catalyst layer.例文帳に追加

第１工程：該固定床の触媒層に水蒸気を供給する工程 第２工程：第１工程の後に、水蒸気の供給に加えて、塩化水素を供給する工程 第３工程：第２工程の後に、水蒸気および塩化水素の供給に加えて、酸素を供給して反応を開始する工程 第１工程の開始前に触媒層へ窒素および／または酸素を含有するガスを供給することが好ましい。 - 特許庁

The process for producing the aluminum nitride containing material includes a first heat treatment step where a catalyst element having a smaller free energy of formation of nitride than that of aluminum is positioned in molten aluminum heated in a nitrogen atmosphere to cause nitridation using the catalyst element as a catalyst and form a material containing aluminum nitride.例文帳に追加

本発明に係る窒化アルミニウム含有物の製造方法は、窒化物の生成自由エネルギーがアルミニウムより小さい元素である触媒元素を、窒素雰囲気下で加熱された溶融アルミニウム中に位置させることにより、触媒元素を触媒とした窒化反応を生じさせ、窒化アルミニウムを含有する窒化アルミニウム含有物を生成する第１熱処理工程を具備する。 - 特許庁

To provide an oxide semiconductor thin-film transistor whose reliability is improved by alleviating steep incline of the peripheral portion of a first insulation film pattern on an oxide semiconductor pattern so that a source/drain electrode formed on a thin-film transistor has a uniform and good step coverage, and a method for forming the same.例文帳に追加

本発明は、その上に形成されるソース・ドレイン電極が均一で良好なステップカバレッジを有するように、酸化物半導体パターン上の第１絶縁膜パターンの周縁部の急傾斜を緩和して信頼性が向上した酸化物半導体薄膜トランジスター及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

The step includes mounting the diced semiconductor substrates, to which the support substrate adheres, onto a circuit substrate via a second adhesive; lowering the adhesive strength of a first adhesive by curing the second adhesive; and peeling the diced support plate off the semiconductor substrate that is mounted on the circuit substrate.例文帳に追加

さらに、ダイシングされた、支持板が接着された半導体基板を第２接着剤を介して回路基板に搭載し、第２接着剤を硬化し第１接着剤の接着力を低下させて、回路基板に搭載された半導体基板からダイシングされた支持板を剥離して（ステップＳ５）、半導体装置が製造される。 - 特許庁

The method for inspecting a surface of a stencil mask to be used for charged particle beam exposure or the like includes an inspection step where a foreign matter or a defect on the surface of a membrane is inspected based on a first image of the surface of the membrane and on a second image of the back face of the membrane.例文帳に追加

荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第１の画像と、メンブレン部裏面の第２の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

A step portion is provided on a lead-out electrodes 5, 6 to which electrodes of crystal piece 10 are connected by first electrode surfaces 5a, 6a and second electrode surfaces 5b, 6b, thereby preventing the piece 10 from contacting with a recessed portion 3 for mounting in connecting the electrodes of the piece 10 with the electrodes 5, 6 via conductive adhesives 7a, 7b.例文帳に追加

水晶片１０の電極が接続される引出電極５，６に、第１電極面５ａ，６ａと第２電極面５ｂ，６ｂにより段差部を設けることで、水晶片１０の電極と引出電極５，６とを導電性接着剤７ａ，７ｂにより接続した際に、水晶片１０が載置用凸部３に接触しないようにした。 - 特許庁

In this fastening structure, an inclined part 20 and a thin diameter locking step part 22 are arranged in a boss part 12 projected in the first resin member 40, and a locking part 16 for rotatably connecting a longitudinal directional intermediate part 32 to the second resin member 50 by a thin hinge 30, is arranged inside an insertion part 14 arranged in the other resin member 50.例文帳に追加

第一の樹脂部材４０に突設されたボス部１２には、傾斜部２０と細径係止段部２２が設けられ、他方の樹脂部材５０に設けられた挿通部１４の内側には、長手方向中間部３２が第二の樹脂部材５０に薄肉ヒンジ３０によって回動自在に連結された係止部１６が設けられている。 - 特許庁

In the charge pressure control method of at least two compressors (6, 8) and especially the exhaust gas turbocharger, a target value (ntus) for output variable of at least two compressors (6, 8) is set as a function of control error in a direction to decrease control error in a first step of charge pressure control.例文帳に追加

内燃機関の少なくとも２つの圧縮機（６、８）、特に排気ガス・ターボチャージャのチャージ圧力制御方法において、先ず、チャージ圧力制御の第１のステップにおいて、制御偏差の関数として、少なくとも２つの圧縮機（６、８）の出力変数に対する目標値（ｎｔｕｓ）が制御偏差を低減する方向に設定される。 - 特許庁

The CPU 8 displays an initial movement index mark which indicates the direction of the first step from the present location on the LCD panel 2 when the pedestrian is halting, displays a proceeding direction index mark which indicates a proceeding direction during proceeding, and displays map information on a turning side more in detail than map information on the opposite side when displaying an approaching direction to a branch point.例文帳に追加

そして、このＣＰＵ８は、歩行者の停止時に、ＬＣＤパネル２に現在位置からの第一歩を踏み出す方向を指し示す初動指標マークを表示し、進行中に、進行方向を指し示す進行方向指標マークを表示し、且つ分岐部に対する進入方向を表示するときには、曲がる側の地図情報を、その反対側の地図情報よりも詳細に表示するように構成されている。 - 特許庁

To put it concretely, the alkoxylated product is obtained as follows: in an alkoxylation reaction, first of all, alkylene oxide, epoxy functional alkoxysilane, a glycidyl compound and/or lactone are added in an optional order by optional selection; and in the final alkoxylation step, a monosilanol forming compound, isocyanate, or annular or straight-chained carboxylic acid or its acid anhydride are reacted therewith.例文帳に追加

具体的には、アルコキシル化反応において、まず、任意選択により、アルキレンオキシド、エポキシ官能性アルコキシシラン、グリシジル化合物および／またはラクトンを任意の順で付加させ、最終アルコキシル化工程において、モノシラノール形成化合物、イソシアネート、または環状もしくは直鎖状カルボン酸もしくはその酸無水物と反応させたアルコキシ化生成物。 - 特許庁

With selecting a machine description, it is made possible to generate an instruction simulator of a real specification model (first model) of a target processor and an instruction simulator of a model (second model) having a difference between the target processor and a part of an architecture of an instruction (step S3, S4).例文帳に追加

マシンディスクリプションを選択することで、ターゲットプロセッサの実仕様のモデル（第１のモデル）のインストラクションシミュレータや、当該ターゲットプロセッサとインストラクションのアーキテクチャの一部が異なるモデル（第２のモデル）のインストラクションシミュレータを生成できるようにした（ステップＳ３、Ｓ４）。 - 特許庁

In the data packet transfer device, when data packet of n packet and (n+1) packet transmitted from an XMODEM communicator 5 is received at step S101, an XMODEM communicator 15 transmits ACK(n), i.e. an affirmative response indicative of normal reception of the n packet to the XMODEM communicator 5, at first, and performs reception processing of the (n+1) packet.例文帳に追加

ＸＭＯＤＥＭ通信部１５は、ステップＳ１０１にてＸＭＯＤＥＭ通信部５から送信されたｎパケットとｎ+１パケットのデータパケットを受信すると、まず、ｎパケットについて正常に受信した旨を示す肯定応答であるＡＣＫ（ｎ）をＸＭＯＤＥＭ通信部５へ送信し、ｎ+１パケットの受信処理を行う。 - 特許庁